【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種光源模塊，尤其涉及一種具有高準(zhǔn)直導(dǎo)光板的光源模塊。
技術(shù)介紹
1、防窺顯示和高亮度顯示的需求帶動(dòng)了高準(zhǔn)直導(dǎo)光板的開發(fā)。一般來(lái)說(shuō)，高準(zhǔn)直導(dǎo)光板除了采用網(wǎng)點(diǎn)設(shè)計(jì)還會(huì)搭配頂角小于70度的逆棱鏡片來(lái)將光線導(dǎo)向需求的角度。如此特性也可應(yīng)用在全反射式顯示面板。由于要作為前光源使用，導(dǎo)光板的網(wǎng)點(diǎn)無(wú)法設(shè)置在與全反射式顯示面板的貼合面上，而是必須改設(shè)置在外觀面上。為了避免網(wǎng)點(diǎn)被刮傷而無(wú)法產(chǎn)生折光的效果，須在外觀側(cè)額外設(shè)置蓋板進(jìn)行保護(hù)，如此則勢(shì)必增加全反射式顯示裝置的整體厚度。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)是針對(duì)一種光源模塊，其具有較佳的出光準(zhǔn)直性且適用于輕薄化的顯示裝置。
2、根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例，光源模塊包括導(dǎo)光板與光源。導(dǎo)光板具有入光面以及連接入光面的出光面。光源設(shè)置在導(dǎo)光板的入光面的一側(cè)。導(dǎo)光板包括基板、第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)與第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)。基板設(shè)有出光面與入光面。第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)與第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)內(nèi)嵌于基板，且沿著出光面的法線方向相互重疊。第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)與第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)各自的折射率不同于基板的折射率。第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)具有第一底面以及遠(yuǎn)離第一底面的第一頂角。第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)具有第二底面以及遠(yuǎn)離第二底面的第二頂角。第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第一底面與第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第二底面相背離。第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第一頂角與第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第二頂角彼此相向。第一頂角與第二頂角各自介于120度至145度的范圍內(nèi)。
3、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有第一斜面、第一弧面與
4、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第一斜面與第一底面之間的夾角以及第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第三斜面與第二底面之間的夾角介于20度至45度的范圍內(nèi)。
5、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第二斜面與第一底面之間的夾角以及第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第四斜面與第二底面之間的夾角介于15度至25度的范圍內(nèi)。
6、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有連接第二斜面的第五斜面。第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有連接第四斜面的第六斜面。第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第五斜面與第一底面之間的夾角以及第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第六斜面與第二底面之間的夾角介于28度至38度的范圍內(nèi)。
7、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，導(dǎo)光板還具有連接入光面且背離出光面的表面。第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第一弧面與第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的第二弧面之間設(shè)有間隙。導(dǎo)光板沿著出光面的法線方向具有厚度。間隙的幾何中心與出光面或表面沿著出光面的法線方向具有距離，且距離與厚度的比值介于0.25至0.5的范圍內(nèi)。
8、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，間隙的幾何中心與出光面沿著出光面的法線方向的距離與厚度的比值介于0.25至0.5的范圍內(nèi)，且第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)位于第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)與出光面之間。
9、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，間隙的幾何中心與導(dǎo)光板的表面沿著出光面的法線方向的距離與厚度的比值介于0.25至0.5的范圍內(nèi)，且第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)位于第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)與導(dǎo)光板的表面之間。
10、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，基板的折射率介于1.4至1.65的范圍內(nèi)，且第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)與第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)各自的折射率介于1.69至1.81的范圍內(nèi)。
11、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，導(dǎo)光板還具有連接入光面且背離出光面的表面，且所述表面設(shè)有紋理結(jié)構(gòu)。紋理結(jié)構(gòu)包括多個(gè)第一微凸起與多個(gè)第二微凸起。這些第一微凸起延伸在第一方向上。這些第二微凸起延伸在第二方向上。第二方向與第一方向相交。這些第一微凸起與這些第二微凸起分別沿著第一方向和第二方向交替排列。各個(gè)第一微凸起沿著出光面的法線方向具有第一高度。各個(gè)第二微凸起沿著出光面的法線方向具有第二高度。第一高度不同于第二高度。
12、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，第一方向平行于入光面。第二方向垂直于入光面，且各個(gè)第一微凸起的第一高度對(duì)各個(gè)第二微凸起的第二高度的比值介于1.5至2.5的范圍內(nèi)。
13、在根據(jù)本專利技術(shù)的實(shí)施例的光源模塊中，第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)與第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)之間設(shè)有空氣間隙。
14、基于上述，在本專利技術(shù)的一實(shí)施例的光源模塊中，導(dǎo)光板內(nèi)嵌有相重疊的第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)與第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)。這兩個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)分別具有彼此相向且介于120度至145度的兩個(gè)頂角以及相背離的兩個(gè)底面。據(jù)此，除了能避免光學(xué)微結(jié)構(gòu)裸露在導(dǎo)光板的表面上因刮傷而無(wú)法使用，還能滿足高準(zhǔn)直的出光需求。
本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種光源模塊，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有第一斜面、第一弧面與第二斜面，所述第一弧面連接所述第一斜面與所述第二斜面，所述第二斜面位于所述第一弧面與所述入光面之間，所述第一斜面與所述第二斜面定義出所述第一頂角，所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有第三斜面、第二弧面與第四斜面，所述第二弧面連接所述第三斜面與所述第四斜面，所述第三斜面位于所述第二弧面與所述入光面之間，所述第三斜面與所述第四斜面定義出所述第二頂角，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第一弧面沿著所述導(dǎo)光板的所述出光面的法線方向重疊于所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第四斜面，且所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第二弧面沿著所述導(dǎo)光板的所述出光面的法線方向重疊于所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第二斜面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第一斜面與所述第一底面之間的夾角以及所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第三斜面與所述第二底面之間的夾角介于20度至45度的范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第二斜面與所
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有連接所述第二斜面的第五斜面，所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有連接所述第四斜面的第六斜面，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第五斜面與所述第一底面之間的夾角以及所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第六斜面與所述第二底面之間的夾角介于28度至38度的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述導(dǎo)光板還具有連接所述入光面且背離所述出光面的表面，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第一弧面與所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第二弧面之間設(shè)有間隙，所述導(dǎo)光板沿著所述出光面的法線方向具有厚度，所述間隙的幾何中心與所述出光面或所述表面沿著所述出光面的法線方向具有距離，且所述距離與所述厚度的比值介于0.25至0.5的范圍內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光源模塊，其特征在于，所述間隙的所述幾何中心與所述出光面沿著所述出光面的法線方向的所述距離與所述厚度的比值介于0.25至0.5的范圍內(nèi)，且所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)位于所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)與所述出光面之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光源模塊，其特征在于，所述間隙的所述幾何中心與所述導(dǎo)光板的所述表面沿著所述出光面的法線方向的所述距離與所述厚度的比值介于0.25至0.5的范圍內(nèi)，且所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)位于所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)與所述導(dǎo)光板的所述表面之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，所述基板的折射率介于1.4至1.65的范圍內(nèi)，且所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)與所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)各自的折射率介于1.69至1.81的范圍內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，所述導(dǎo)光板還具有連接所述入光面且背離所述出光面的表面，所述表面設(shè)有紋理結(jié)構(gòu)，所述紋理結(jié)構(gòu)包括：
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光源模塊，其特征在于，所述第一方向平行于所述入光面，所述第二方向垂直于所述入光面，且每一所述多個(gè)第一微凸起的所述第一高度對(duì)每一所述多個(gè)第二微凸起的所述第二高度的比值介于1.5至2.5的范圍內(nèi)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)與所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)之間設(shè)有空氣間隙。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種光源模塊，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有第一斜面、第一弧面與第二斜面，所述第一弧面連接所述第一斜面與所述第二斜面，所述第二斜面位于所述第一弧面與所述入光面之間，所述第一斜面與所述第二斜面定義出所述第一頂角，所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有第三斜面、第二弧面與第四斜面，所述第二弧面連接所述第三斜面與所述第四斜面，所述第三斜面位于所述第二弧面與所述入光面之間，所述第三斜面與所述第四斜面定義出所述第二頂角，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第一弧面沿著所述導(dǎo)光板的所述出光面的法線方向重疊于所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第四斜面，且所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第二弧面沿著所述導(dǎo)光板的所述出光面的法線方向重疊于所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第二斜面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第一斜面與所述第一底面之間的夾角以及所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第三斜面與所述第二底面之間的夾角介于20度至45度的范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第二斜面與所述第一底面之間的夾角以及所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第四斜面與所述第二底面之間的夾角介于15度至25度的范圍內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有連接所述第二斜面的第五斜面，所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)還具有連接所述第四斜面的第六斜面，所述第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第五斜面與所述第一底面之間的夾角以及所述第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的所述第六斜面與所述第二底面之間的夾角介于28度至38度的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述導(dǎo)光板還...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：蘇振豪，林進(jìn)偉，劉金涌，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：瀚宇彩晶股份有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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