【技術實現步驟摘要】
本申請主要涉及核反應堆試驗領域，尤其涉及一種壓力精度測量系統和方法。
技術介紹
1、在核電廠中主要用于監測主管道熱段流量、一回路管道壓力、穩壓器液位、蒸汽發生器液位等關鍵過程參數的設備，為了反應堆保護系統、專設驅動設施等提供安全級輸入信號，還承擔部分事故后關鍵過程參數監測的功能。
2、為了證明設備在已確立的鑒定壽期內或鑒定狀態下，在設計基準事故之前、期間和之后能夠執行其安全功能，設備需要進行設備鑒定。設備鑒定試驗包括但不限于熱老化試驗、輻照老化試驗、抗震試驗、設計基準事故試驗和事故后運行試驗等。
3、核電廠的設計文件會規定設備的性能參數要求，以及在各項設備鑒定試驗之前、期間和之后的性能要求。遠傳式的設備一般具有變送器、遠傳膜片及引壓管，變送器和遠傳膜片往往布置在不同區域，一般情況下遠傳膜片所在區域的溫度、輻照劑量等環境條件都更嚴酷。
4、遠傳膜片和變送器由于布置區域的環境條件不一致，在現有的鑒定試驗方法中，通常是對兩個部分分別進行符合設計要求的鑒定試驗。但現有鑒定試驗方法缺少對遠傳式設備試驗過程中測量精度的檢驗方式和相關裝置，這導致在設備鑒定試驗過程中無法明確試驗給待驗儀表的測量精度造成的影響。
技術實現思路
1、本申請要解決的技術問題是提供壓力測量精度，進一步提高待測設備的可靠性。
2、為解決上述技術問題，本申請提供了一種壓力精度測量系統，包括：待測設備，所述待測設備包括遠傳膜片組件和變送器，其中所述遠傳膜片組件包括遠傳膜片，所述遠
3、可選地，壓力精度測量系統還包括第二引壓管，所述第二引壓管的一端連接所述遠傳膜片、另一端連接所述待測設備，所述第二引壓管適于傳遞所述遠傳膜片組件對所述待測設備傳遞的所述待測壓力。
4、可選地，所述第一引壓管和/或所述第二引壓管包括彈性引壓管或剛性引壓管。
5、可選地，壓力精度測量系統還包括一個或多個試驗平臺和待測設備安裝支架，所述待測設備安裝支架適于承載所述待測設備，且所述試驗平臺適于承載所述待測設備安裝支架和所述遠傳膜片組件。
6、可選地，所述遠傳膜片組件還包括遠傳膜片支架、墊片及安裝法蘭，所述安裝法蘭、所述墊片以及所述遠傳膜片依次安裝于所述遠傳膜片支架上。
7、可選地，所述遠傳膜片組件還包括一個或多個緊固件，所述安裝法蘭包括一個或多個法蘭安裝孔，所述墊片包括一個或多個墊片安裝孔，所述遠傳膜片支架包括一個或多個支架安裝孔，所述法蘭安裝孔、所述墊片安裝孔以及所述支架安裝孔在空間位置上一一對應。
8、可選地，所述緊固件適于依次穿過所述法蘭安裝孔、所述墊片安裝孔以及所述支架安裝孔以將所述安裝法蘭以及所述墊片緊密連接于所述遠傳膜片支架上，所述遠傳膜片位于所述墊片于所述遠傳膜片支架之間，所述遠傳膜片的一側緊貼所述墊片，所述遠傳膜片的另一側緊貼所述遠傳膜片支架。
9、可選地，所述遠傳膜片支架包括支架引壓孔，所述墊片包括墊片引壓孔，所述安裝法蘭包括法蘭引壓孔，所述支架引壓孔、所述墊片引壓孔、所述法蘭引壓孔以及所述壓力接口在空間位置上一一對應。
10、為解決上述技術問題，本申請提供了一種壓力測量方法，適用于如上所述的壓力精度測量系統，包括：通過測量儀表獲取加壓設備對遠傳膜片提供的加壓壓力；通過數據采集裝置獲取待測設備從遠傳膜片接收到的待測壓力；對所述待測壓力與所述加壓壓力進行比較以得出所述待測設備的測量精度
11、可選地，通過處理中心對所述待測壓力與所述加壓壓力進行比較以得出所述待測設備的測量精度包括對所述待測壓力與所述加壓壓力進行做差，通過做差獲得的差值為所述待測設備的測量精度。
12、與現有技術相比，本申請通過遠傳膜片實現對待測設備進行壓力精度測量，能夠進一步提高待測設備的可靠性，同時將可以將遠傳膜片組件和待測設備放在不同的試驗平臺上，可以實現對待測設備遠距離的測量，靈活適應不同的設備環境。
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1.一種壓力精度測量系統，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的壓力精度測量系統，其特征在于，還包括第二引壓管，所述第二引壓管的一端連接所述遠傳膜片、另一端連接所述待測設備，所述第二引壓管適于傳遞所述遠傳膜片組件對所述待測設備傳遞的所述待測壓力。
3.如權利要求2所述的壓力精度測量系統，其特征在于，所述第一引壓管和/或所述第二引壓管包括彈性引壓管或剛性引壓管。
4.如權利要求1所述的壓力精度測量系統，其特征在于，還包括一個或多個試驗平臺和待測設備安裝支架，所述待測設備安裝支架適于承載所述待測設備，且所述試驗平臺適于承載所述待測設備安裝支架和所述遠傳膜片組件。
5.如權利要求1所述的壓力精度測量系統，其特征在于，所述遠傳膜片組件還包括遠傳膜片支架、墊片及安裝法蘭，所述安裝法蘭、所述墊片以及所述遠傳膜片依次安裝于所述遠傳膜片支架上。
6.如權利要求5所述的壓力精度測量系統，其特征在于，所述遠傳膜片組件還包括一個或多個緊固件，所述安裝法蘭包括一個或多個法蘭安裝孔，所述墊片包括一個或多個墊片安裝孔，所述遠傳膜片支架包括一個或
7.如權利要求6所述的壓力精度測量系統，其特征在于，所述緊固件適于依次穿過所述法蘭安裝孔、所述墊片安裝孔以及所述支架安裝孔以將所述安裝法蘭以及所述墊片緊密連接于所述遠傳膜片支架上，所述遠傳膜片位于所述墊片于所述遠傳膜片支架之間，所述遠傳膜片的一側緊貼所述墊片，所述遠傳膜片的另一側緊貼所述遠傳膜片支架。
8.如權利要求5所述的壓力精度測量系統，其特征在于，所述遠傳膜片支架包括支架引壓孔，所述墊片包括墊片引壓孔，所述安裝法蘭包括法蘭引壓孔，所述支架引壓孔、所述墊片引壓孔、所述法蘭引壓孔以及所述壓力接口在空間位置上一一對應。
9.一種壓力測量方法，適用于如權利要求1～8任一項所述的壓力精度測量系統，其特征在于，包括：
10.如權利要求9所述的壓力測量方法，其特征在于，通過處理中心對所述待測壓力與所述加壓壓力進行比較以得出所述待測設備的測量精度包括對所述待測壓力與所述加壓壓力進行做差，通過做差獲得的差值為所述待測設備的測量精度。
...【技術特征摘要】
1.一種壓力精度測量系統，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的壓力精度測量系統，其特征在于，還包括第二引壓管，所述第二引壓管的一端連接所述遠傳膜片、另一端連接所述待測設備，所述第二引壓管適于傳遞所述遠傳膜片組件對所述待測設備傳遞的所述待測壓力。
3.如權利要求2所述的壓力精度測量系統，其特征在于，所述第一引壓管和/或所述第二引壓管包括彈性引壓管或剛性引壓管。
4.如權利要求1所述的壓力精度測量系統，其特征在于，還包括一個或多個試驗平臺和待測設備安裝支架，所述待測設備安裝支架適于承載所述待測設備，且所述試驗平臺適于承載所述待測設備安裝支架和所述遠傳膜片組件。
5.如權利要求1所述的壓力精度測量系統，其特征在于，所述遠傳膜片組件還包括遠傳膜片支架、墊片及安裝法蘭，所述安裝法蘭、所述墊片以及所述遠傳膜片依次安裝于所述遠傳膜片支架上。
6.如權利要求5所述的壓力精度測量系統，其特征在于，所述遠傳膜片組件還包括一個或多個緊固件，所述安裝法蘭包括一個或多個法蘭安裝孔，所述墊片包括一個或多個墊片安裝孔，所述遠傳膜片支...
【專利技術屬性】
技術研發人員：孫飛洋，吳雪瓊，戚佳杰，葉騰達，陳峰，劉靜，
申請(專利權)人：上海核工程研究設計院股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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