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    一類吡啶鹽AIE光敏劑及其抗真菌應用制造技術

    技術編號:43620224 閱讀:8 留言:0更新日期:2024-12-11 15:01
    本發明專利技術公開了一類AIE吡啶鹽表面活性劑及其抗真菌應用,在AIE光敏劑基團上通過簡單季銨化反應引入烷基鏈得到一類AIE吡啶鹽表面活性劑,基于靜電和疏水作用滲透進入真菌內部,從而展現高效的抗真菌活性;此外,在白光照射下,能有效產生活性氧,進一步提高其抗真菌效率。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及一類吡啶鹽aie光敏劑及其抗真菌應用,屬于生物應用材料。


    技術介紹

    1、真菌感染是全球傳染病相關死亡的主要原因,其中,念珠菌是導致侵襲性真菌感染的主要原因,但真菌和哺乳動物細胞之間的高度進化相似性極大地限制了抗真菌藥物的開發。隨著真菌耐藥性的出現,目前臨床上可用的抗真菌藥物種類很少,人類安全受到嚴重威脅,迫切需要開發具有新型作用機制的抗真菌藥物。

    2、近年來,光動力治療(pdt)作為一種非抗生素的治療方式,具有非侵入性、高時空分辨性和副作用低等優點。由于傳統光敏劑存在聚集誘導猝滅(acq)問題,當在水環境發生聚集時,其單線態氧產生性能受到明顯抑制。與此相反,聚集誘導發光(aggregation-induced?emission,aie)分子在聚集狀態下表現出增強的熒光發射和高的單線態氧產生性能,因而,aie光敏劑在聚集時通常比傳統光敏劑表現出更高的光動力效率。

    3、因此,需要一種新的吡啶鹽aie光敏劑化合物以解決上述問題。


    技術實現思路

    1、專利技術目的:針對現有技術所存在的問題,本專利技術提供一種化合物。

    2、一種化合物,具有如式一所示的結構:

    3、

    4、其中,g為烷基鏈;x-為抗衡陰離子;每個r獨立選自氫基、羥基、氨基或烷基。

    5、更進一步的,烷基鏈g為丁烷或己烷。

    6、更進一步的,抗衡陰離子x-為具有一個電荷的陰離子。

    7、更進一步的,所述化合物具有如式二或式三所示的結構:

    8、

    9、有益效果:本專利技術的化合物在aie光敏劑基團引入疏水鏈,構建陽離子兩親aie光敏劑,基于靜電和疏水作用實現與真菌的有效結合,從而能夠高效殺傷真菌;在白光照射下,可以產生活性氧,進一步提高對真菌的殺傷效率。

    10、本專利技術還公開了如上所述的化合物作為真菌殺菌劑的用途。

    11、有益效果:本專利技術的化合物屬于陽離子aie光敏劑體系,可以作為抗真菌劑,其對真菌具有高效殺傷力。

    12、更進一步的,所述真菌為念珠菌。本專利技術的化合物對白色念珠菌具有高效的抗菌活性。

    13、本專利技術還公開了所述的化合物作為探針用于真菌檢測或成像。

    14、有益效果:本專利技術的化合物由于aie基團的引入,賦予其aie性質,基于其熒光性質實現對該類光敏劑抗菌機理的可視化監測。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種化合物,其特征在于,具有如式一所示的結構:

    2.如權利要求1所述的化合物,其特征在于,烷基鏈G為丁烷或己烷。

    3.如權利要求1所述的化合物,其特征在于,抗衡陰離子X-為具有一個電荷的陰離子。

    4.如權利要求1所述的化合物,其特征在于,所述化合物具有如式二或式三所示的結構:

    5.權利要求1-4任一項所述的化合物作為真菌殺菌劑的用途。

    6.根據權利要求5所述的用途,其特征在于,所述真菌為念珠菌。

    7.權利要求1-4任一項所述的化合物作為探針用于真菌檢測或成像。

    【技術特征摘要】

    1.一種化合物,其特征在于,具有如式一所示的結構:

    2.如權利要求1所述的化合物,其特征在于,烷基鏈g為丁烷或己烷。

    3.如權利要求1所述的化合物,其特征在于,抗衡陰離子x-為具有一個電荷的陰離子。

    4.如權利要求1所述的化合物,其特...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:周成成董潔雅沈逸輝
    申請(專利權)人:揚州大學
    類型:發明
    國別省市:

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