【技術實現步驟摘要】
本申請涉及蒸鍍，尤其涉及一種蒸鍍機對位系統。
技術介紹
1、有機發光二極管顯示器具有低能耗、自發光、寬視角及響應速度快等優點，是當今顯示器研究領域的熱點之一，被認為是下一代顯示技術。目前，oled器件的制作通常使用真空熱蒸鍍設備進行oled器件薄膜的沉積。精細掩模板是用于oled器件制作的蒸鍍過程中圖案化有機像素成型的工具。使用精細掩模板路線生產real?rgb結構的硅基micro?oled，要求所需蒸鍍設備制備的oled器件像素陰影小于0.5μm，掩模板與硅基板的對位精度小于0.1μm。傳統蒸鍍機的對位系統的對位精度一般為1.5-3μm，無法滿足高精度鍍膜機小于0.1μm的對位精度要求。
技術實現思路
1、為了解決上述技術問題，本專利技術提供一種蒸鍍機對位系統。
2、本專利技術提供一種蒸鍍機對位系統，包括：由腔體壁圍成的腔室，所述腔室內設置有頂板，所述頂板將腔室分為兩部分，頂板上方腔室為大氣區，頂板下方腔室為真空腔體；位于大氣區的振動隔離系統，所述振動隔離系統包括分別設置在頂板上表面兩端的兩個主動隔離器，用于隔離外界擾動；位于大氣區的六軸平臺，所述六軸平臺從下至上依次包括：第一分離式基座、電機及第二分離式基座，用于控制放置在其上的待蒸鍍基板的位置和姿態；對位裝置，所述對位裝置包括設置在真空腔體內的靜電吸盤和掩模板托盤，所述靜電吸盤用于在對位過程中固定待蒸鍍基板，所述掩模板托盤用于在對位過程中放置掩模板；機器視覺系統，所述機器視覺系統設置在掩模板托盤下方的真空腔體內，用
3、可選的，所述對位系統還包括：磁鐵板，所述磁鐵板位于真空腔體內，用于將掩模板吸附在待蒸鍍基板上；靜電吸盤升降裝置，所述靜電吸盤升降裝置位于大氣區內，一端與靜電吸盤連接，另一端與六軸平臺的第二分離式基座連接；磁鐵板升降裝置，所述磁鐵板升降裝置位于大氣區內，一端與磁鐵板連接，另一端與六軸平臺的第二分離式基座連接。
4、可選的，所述六軸平臺還包括：三軸平移旋轉平臺，所述三軸平移旋轉平臺設置在第一分離式基座和第二分離式基座之間。
5、可選的，以卡氏垂直坐標系為參照，所述電機包括：若干線性位移電機和若干升降調節步進電機；其中，若干線性位移電機設置在第一分離式基座上，每個線性位移電機與對應位置的傳動裝置連接，所述線性位移電機及對應位置的傳動裝置用于在x軸與y軸構成的水平面方向移動三軸平移旋轉平臺；若干升降調節步進電機設置在三軸平移旋轉平臺和第二分離式基座之間，每個升降調節步進電機與對應位置的傳動裝置連接，用于控制第二分離式基座在x軸與y軸構成的水平面方向的俯仰角變化，以及控制第二分離式基座在豎直z方向移動。
6、可選的，所述線性位移電機的位移精度范圍為10-200nm。
7、可選的，所述升降調節步進電機的傳動裝置與第二分離式基座之間采用球形萬向節連接。
8、可選的，所述六軸平臺的定位精度范圍為10-100nm，平移行程范圍為100-5000μm，轉角精度范圍為±10mrad。
9、可選的，所述掩模板托盤上設置有間隙傳感器，用于在對位過程中測量待蒸鍍基板和掩模板之間的距離。
10、可選的，所述機器視覺系統包括對位攝影機，所述對位攝影機設置在掩模板托盤下方與掩模板對位孔相對應的位置，所述對位攝影機的像素分辨率范圍為10-100nm。
11、可選的，所述主動隔離器的防振等級為vc-c、vc-d或vc-e中的一種。
12、可選的，所述磁鐵板的磁場均一性范圍小于±10％。
13、與現有技術相比，本專利技術的技術方案具有以下有益效果：
14、本專利技術提供了一種蒸鍍機對位系統，通過采用高精度六軸平臺，同時搭配振動隔離系統，避免了外界環境對高精度對位過程帶來的干擾，能夠實現掩模板與基板之間高精度的對位，甚至滿足掩模板與基板以0.1μm的精度對準。
15、進一步的，本專利技術提供的蒸鍍機對位系統，通過兩個三軸平臺實現六軸平臺的功能，在滿足了基板與掩模板之間高精度的對位，及滿足real?rgb結構micro?oled器件制備需求的前提下，大大降低了蒸鍍機對位系統的成本。
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1.一種蒸鍍機對位系統，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述對位系統還包括：
3.如權利要求2所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述六軸平臺還包括：三軸平移旋轉平臺，所述三軸平移旋轉平臺設置在第一分離式基座和第二分離式基座之間。
4.如權利要求3所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，以卡氏垂直坐標系為參照，所述電機包括：若干線性位移電機和若干升降調節步進電機；其中，
5.如權利要求4所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述線性位移電機的位移精度范圍為10-200nm。
6.如權利要求4所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述升降調節步進電機的傳動裝置與第二分離式基座之間采用球形萬向節連接。
7.如權利要求1-6中任一所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述六軸平臺的定位精度范圍為10-100nm，平移行程范圍為100-5000μm，轉角精度范圍為±10mrad。
8.如權利要求1所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述掩模板托盤上設置有間隙傳感器，用于在對位過程中測量待蒸
9.如權利要求1所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述機器視覺系統包括對位攝影機，所述對位攝影機設置在掩模板托盤下方與掩模板對位孔相對應的位置，所述對位攝影機的像素分辨率范圍為10-100nm。
10.如權利要求1所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述主動隔離器的防振等級為VC-C、VC-D或VC-E中的一種。
11.如權利要求2所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述磁鐵板的磁場均一性范圍小于±10％。
...【技術特征摘要】
1.一種蒸鍍機對位系統，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述對位系統還包括：
3.如權利要求2所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述六軸平臺還包括：三軸平移旋轉平臺，所述三軸平移旋轉平臺設置在第一分離式基座和第二分離式基座之間。
4.如權利要求3所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，以卡氏垂直坐標系為參照，所述電機包括：若干線性位移電機和若干升降調節步進電機；其中，
5.如權利要求4所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述線性位移電機的位移精度范圍為10-200nm。
6.如權利要求4所述的蒸鍍機對位系統，其特征在于，所述升降調節步進電機的傳動裝置與第二分離式基座之間采用球形萬向節連接。
7.如權利要求1-6中任一所述的...
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉成元，金鉉雨，
申請(專利權)人：安徽熙泰智能科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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