【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于光學元件領域，尤其涉及一種基于不透明點陣的中性密度濾光片。
技術介紹
1、中性密度濾光片(neutral?density?filter)，又稱光學衰減器或密度片，是一種重要的能量分光元件。它能夠對光信號進行衰減調節，具有結構簡單，使用波長范圍廣、中性度好等優點，在各類光學儀器和光學實驗中得到廣泛應用。中性密度濾光片分固定密度片和變密度片兩類。固定密度片的光密度在整個零件是保持一致的，而變密度片的光密度是隨位置按一定規律變化。
2、傳統的固定密度片實現方法包括在透明基片上鍍制吸收性薄膜、直接使用中性灰玻璃或密度軟片等。這些方法主要基于光的吸收和反射原理來實現對光的衰減，但受限于材料特性，中性度往往不夠理想。
技術實現思路
1、本專利技術旨在克服現有技術的不足之處而提供一種基于不透明點陣結構的中性密度濾光片。該濾光片通過減少通光面積實現對光的均衡衰減，由于通光面積的改變與波長無關，所以濾光片具有高中性度，可實現大尺寸光斑條件下的絕對中性衰減。如果濾光片的透明基底采用石英玻璃或硼硅酸鹽玻璃，而不透明點陣采用耐腐蝕金屬，那么濾光片還具有耐高溫特性。
2、為解決上述技術問題，本專利技術是這樣實現的：
3、一種基于不透明點陣的中性密度濾光片，包括透明基底，其特征在于：在所述透明基底上鍍制或印制不透明點陣，通過減小通光面積實現對光信號的均衡衰減。
4、進一步地，本專利技術可采用激光打印或者光刻工藝以獲得不透明點陣。
5、進
6、其中，r為方點的邊長；l為兩方點之間的距離；t為透射率。
7、進一步地，所述不透明點陣為方點正方形陣列，且滿足如下表達式：
8、其中，r為方點的邊長；l為兩方點之間的距離；t為透射率。
9、進一步地，所述不透明點陣為圓點三角形陣列，且滿足如下表達式：
10、其中，r為圓點的半徑；l為兩圓點之間的距離；t為透射率。
11、進一步地，所述不透明點陣為圓點正方形陣列，且滿足如下表達式：
12、其中，r為圓點的半徑；l為兩圓點之間的距離；t為透射率。
13、本專利技術通過在透明基底鍍制或印制不透明點陣，通過減小通光面積實現對光信號的均衡衰減。通過采用激光打印或者光刻工藝，可以獲得更小的不透明點，同一光密度時單位面積內點數更多，透射率隨機誤差更小。點的大小和間距幾乎可以隨意調節，采用本專利技術方法可實現的透射率范圍比網孔式密度片更大。
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1.一種基于不透明點陣的中性密度濾光片，包括透明基底，其特征在于：在所述透明基底上鍍制或印制不透明點陣，通過減小通光面積實現對光信號的均衡衰減。
2.根據權利要求1所述基于不透明點陣的中性密度濾光片，其特征在于：采用激光打印或者光刻工藝獲得不透明點陣。
3.根據權利要求2所述基于不透明點陣的中性密度濾光片，其特征在于：所述不透明點陣為方點三角形陣列，且滿足如下表達式：其中，r為方點的邊長；l為兩方點之間的距離；T為透射率。
4.根據權利要求2所述基于不透明點陣的中性密度濾光片，其特征在于：所述不透明點陣為方點正方形陣列，且滿足如下表達式：其中，r為方點的邊長；l為兩方點之間的距離；T為透射率。
5.根據權利要求2所述基于不透明點陣的中性密度濾光片，其特征在于：所述不透明點陣為圓點三角形陣列，且滿足如下表達式：其中，r為圓點的半徑；l為兩圓點之間的距離；T為透射率。
6.根據權利要求2所述基于不透明點陣的中性密度濾光片，其特征在于：所述不透明點陣為圓點正方形陣列，且滿足如下表達式：其中，r為圓點的半徑；l為兩圓點之間的距離
...【技術特征摘要】
1.一種基于不透明點陣的中性密度濾光片，包括透明基底，其特征在于：在所述透明基底上鍍制或印制不透明點陣，通過減小通光面積實現對光信號的均衡衰減。
2.根據權利要求1所述基于不透明點陣的中性密度濾光片，其特征在于：采用激光打印或者光刻工藝獲得不透明點陣。
3.根據權利要求2所述基于不透明點陣的中性密度濾光片，其特征在于：所述不透明點陣為方點三角形陣列，且滿足如下表達式：其中，r為方點的邊長；l為兩方點之間的距離；t為透射率。
4.根據權利要求2所述基于不透明點陣的中...
【專利技術屬性】
技術研發人員：張勇喜，金秀，楊文華，劉佩聞，黎冰，朱磊，
申請(專利權)人：沈陽儀表科學研究院有限公司，
類型：發明
國別省市：
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