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【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及位移測量,具體涉及一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法。
技術(shù)介紹
1、配電線路塔基是輸電線路的重要組成部分,其穩(wěn)定性直接影響著輸電線路的安全穩(wěn)定運行。塔基位移是指塔基在水平方向和垂直方向上的移動,這種移動可能是由于地基沉降、地震、風(fēng)力、冰凍等因素造成的。塔基位移過大可能會導(dǎo)致塔身傾斜、導(dǎo)線松弛、絕緣子脫落等問題,進而引發(fā)線路故障甚至安全事故。
2、傳統(tǒng)的配電線路塔基位移測量方法主要包括機械式測量和全站儀測量等。機械式測量方法通常需要將測量儀器直接安裝在塔基上,并通過機械裝置進行測量,操作繁瑣、效率低下,且容易受到環(huán)境因素的影響,例如溫度、濕度等。全站儀測量方法雖然精度較高,但需要專業(yè)的操作人員,且測量過程耗時較長,難以滿足快速測量和實時監(jiān)測的需求。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足,目的在于提供一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法,采用本方案,能通過非接觸式測量,無需接觸被測物體,即可實現(xiàn)高精度、高效率的位移測量。
2、本專利技術(shù)通過下述技術(shù)方案實現(xiàn):
3、非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,包括:
4、相干光源,所述相干光源用于提供相干光束射于被測對象的結(jié)構(gòu)表面,并產(chǎn)生反射光束,所述相干光束和所述反射光束之間具有夾角;
5、分束組件,所述分束組件和所述相干光源均位于所述被測物同側(cè)方向,所述分束組件包括分束器和反射器;
6、檢測組件,所述檢
7、所述分束器用于接收所述反射光束,并用于將反射光束分為兩束,一束在所述分束器上反射于光電接收器上,另一束被分射于所述反射器上,并被反射器反射于所述光電接收器上;
8、所述光電接收器用于接收光強變化信號,所述傳感器用于將光強變化信號轉(zhuǎn)換為位移量。
9、相對于現(xiàn)有技術(shù)中,機械式測量方法通常需要將測量儀器直接安裝在塔基上,并通過機械裝置進行測量,操作繁瑣、效率低下,且容易受到環(huán)境因素的影響,例如溫度、濕度等。全站儀測量方法雖然精度較高,但需要專業(yè)的操作人員,且測量過程耗時較長,難以滿足快速測量和實時監(jiān)測的需求等問題,本專利技術(shù)提供了一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法,采用本方案,能通過非接觸式測量,無需接觸被測物體,即可實現(xiàn)高精度、高效率的位移測量。具體方案中,包括能提供穩(wěn)定的相干光束的相干光源,作為測量過程中的光源,當(dāng)相干光束入射到被測對象的結(jié)構(gòu)表面時,相干光束相對于結(jié)構(gòu)表面具有一定的俯仰角,從而會發(fā)生反射,其反射光束的路徑位于分束器的接收面范圍內(nèi),通過分束器對反射光束進行分束,并分成兩束光線,一束光線直接被反射,并被光電接收器接收,另一束光線被調(diào)節(jié)或透射到反射器上,通過反射器對該光線進行反射,并被光電接收器接收,此時兩束光線均被光電接收器接收,并在光電接收器的干涉區(qū)域內(nèi)進行空間組合,形成相應(yīng)的干涉圖樣;當(dāng)被測對象發(fā)生位移時,此時光場強度發(fā)生變化,隨后光電接收器記錄干涉圖樣中特定區(qū)域的光場強度變化,并通過與之相連的傳感器來確定測試對象的位移量。
10、為將光源發(fā)出的光束聚焦到測試對象表面,形成一個明亮的光點,還包括光學(xué)系統(tǒng),所述光學(xué)系統(tǒng)位于所述相干光源和被測對象之間,并用于將相干光束聚焦于所述結(jié)構(gòu)表面上形成光點。
11、為對光學(xué)系統(tǒng)位置進行調(diào)節(jié),還包括第一承載物,所述第一承載物上具有第一線性承載面,所述相干光源固定于所述第一線性承載面上,所述光學(xué)系統(tǒng)活動連接于所述第一線性承載面上,并能朝平行于所述相干光束的方向移動。
12、在測試過程中,為確保干涉儀分束器、反射器和光電接收器之間的相對位置不變,從而保證測量的準確性,還包括公共底座,所述分束組件和光電接收器均固定于所述公共底座內(nèi)部。其中,光電接收器放置在測試對象結(jié)構(gòu)表面和干涉儀分束器外表面之間的一定距離處;這個距離應(yīng)該對應(yīng)于特定的位移變化范圍,以確保設(shè)備能夠準確測量所需的位移范圍。
13、為根據(jù)位移范圍和設(shè)備的靈敏度曲線,確定公共底座的初始位置,還包括第二承載物,所述第二承載物上具有第二線性承載面,所述公共底座活動連接于所述第二線性承載面上,并能朝遠離或靠近所述被測對象的方向移動。其中,可根據(jù)測試對象的特性和測試條件,確定測試過程中可能出現(xiàn)的位移范圍,這可以通過理論計算、經(jīng)驗估計或?qū)嶒烌炞C等方式獲得。即靈敏度曲線反映了設(shè)備靈敏度與測試對象表面到干涉儀分束器距離之間的關(guān)系,可以通過實驗驗證獲得。如果需要改變測量范圍,可以通過調(diào)整底座的位置來改變測試對象表面到干涉儀分束器的距離;根據(jù)靈敏度曲線,不同的距離對應(yīng)不同的測量范圍,因此可以根據(jù)實際需求選擇合適的距離。
14、為快速確定分束組件的初始位置,所述公共底座底面上還活動連接有活動構(gòu)件,所述活動構(gòu)件能朝遠離或靠近所述被測對象的方向移動,所述分束器和反射器均固定于所述活動構(gòu)件上。
15、作為一種冗余方案,朝遠離所述被測對象的方向,所述分束器和所述反射器依次排列設(shè)置。
16、作為一種冗余方案,所述反射器采用放射鏡。
17、更進一步的方案,還提供了一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置的測量方法,包括以下步驟:
18、s1:建立位移量和干涉圖樣特征之間的關(guān)系模型;
19、s2:確定相干光源、分束組件和光電接收器的初始位置;
20、s3:當(dāng)被測對象發(fā)生位移時,所述光電接收器記錄干涉圖樣中特定區(qū)域的光場強度,并將光場強度的變化轉(zhuǎn)化為光強變化信號,并輸送給傳感器,所述傳感器根據(jù)位移量和干涉圖樣特征之間的關(guān)系模型,得到相應(yīng)的位移量。
21、更進一步的方案,所述干涉圖樣特征包括干涉條紋的間距和亮度。
22、本專利技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下的優(yōu)點和有益效果:
23、1.本專利技術(shù)提供了一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法,采用本方案,能通過非接觸式測量,無需接觸被測物體,即可實現(xiàn)高精度、高效率的位移測量。
24、2.本專利技術(shù)提供了一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法,采用本方案,可以通過調(diào)節(jié)測試對象的結(jié)構(gòu)表面與干涉儀分束器外表面之間距離變化反映對靈敏度的影響。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護點】
1.非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括光學(xué)系統(tǒng)(2),所述光學(xué)系統(tǒng)(2)位于所述相干光源(1)和被測對象(3)之間,并用于將相干光束聚焦于所述結(jié)構(gòu)表面(4)上形成光點。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括第一承載物,所述第一承載物上具有第一線性承載面,所述相干光源(1)固定于所述第一線性承載面上,所述光學(xué)系統(tǒng)(2)活動連接于所述第一線性承載面上,并能朝平行于所述相干光束的方向移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括公共底座(5),所述分束組件和光電接收器(8)均固定于所述公共底座(5)內(nèi)部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括第二承載物,所述第二承載物上具有第二線性承載面,所述公共底座(5)活動連接于所述第二線性承載面上,并能朝遠離或靠近所述被測對象(3)的方向移動。
6
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,朝遠離所述被測對象(3)的方向,所述分束器(6)和所述反射器(7)依次排列設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,所述反射器(7)采用放射鏡。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置的測量方法,其特征在于,包括以下步驟:
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置的測量方法,其特征在于,所述干涉圖樣特征包括干涉條紋的間距和亮度。
...【技術(shù)特征摘要】
1.非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括光學(xué)系統(tǒng)(2),所述光學(xué)系統(tǒng)(2)位于所述相干光源(1)和被測對象(3)之間,并用于將相干光束聚焦于所述結(jié)構(gòu)表面(4)上形成光點。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括第一承載物,所述第一承載物上具有第一線性承載面,所述相干光源(1)固定于所述第一線性承載面上,所述光學(xué)系統(tǒng)(2)活動連接于所述第一線性承載面上,并能朝平行于所述相干光束的方向移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括公共底座(5),所述分束組件和光電接收器(8)均固定于所述公共底座(5)內(nèi)部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括第二承載物,所述第二承載物上具有第二線性承載面,所述公共底座(5)活...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:徐曉苡,宋宇,李明偉,代萍,黃曉惠,龍海中,楊向龍,張蕓蕓,何瑞臨,張梓穆,陳錦航,王壯,劉春艷,游萍,何毅,陳杰,
申請(專利權(quán))人:國網(wǎng)四川省電力公司技能培訓(xùn)中心,
類型:發(fā)明
國別省市:
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