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    非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法制造方法及圖紙

    技術(shù)編號:43678781 閱讀:11 留言:0更新日期:2024-12-18 21:01
    本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法,涉及位移測量技術(shù)領(lǐng)域,包括:相干光源,相干光源用于提供相干光束射于被測對象的結(jié)構(gòu)表面,并產(chǎn)生反射光束,相干光束和反射光束之間具有夾角;分束組件,分束組件和相干光源均位于被測物同側(cè)方向,分束組件包括分束器和反射器;檢測組件,檢測組件包括光電接收器和傳感器;分束器用于接收反射光束,并用于將反射光束分為兩束,一束在分束器上反射于光電接收器上,另一束被分射于反射器上,并被反射器反射于光電接收器上;傳感器用于將光強變化信號轉(zhuǎn)換為位移量。采用本方案,能通過非接觸式測量,無需接觸被測物體,即可實現(xiàn)高精度、高效率的位移測量。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及位移測量,具體涉及一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法


    技術(shù)介紹

    1、配電線路塔基是輸電線路的重要組成部分,其穩(wěn)定性直接影響著輸電線路的安全穩(wěn)定運行。塔基位移是指塔基在水平方向和垂直方向上的移動,這種移動可能是由于地基沉降、地震、風(fēng)力、冰凍等因素造成的。塔基位移過大可能會導(dǎo)致塔身傾斜、導(dǎo)線松弛、絕緣子脫落等問題,進而引發(fā)線路故障甚至安全事故。

    2、傳統(tǒng)的配電線路塔基位移測量方法主要包括機械式測量和全站儀測量等。機械式測量方法通常需要將測量儀器直接安裝在塔基上,并通過機械裝置進行測量,操作繁瑣、效率低下,且容易受到環(huán)境因素的影響,例如溫度、濕度等。全站儀測量方法雖然精度較高,但需要專業(yè)的操作人員,且測量過程耗時較長,難以滿足快速測量和實時監(jiān)測的需求。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、本專利技術(shù)為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足,目的在于提供一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法,采用本方案,能通過非接觸式測量,無需接觸被測物體,即可實現(xiàn)高精度、高效率的位移測量。

    2、本專利技術(shù)通過下述技術(shù)方案實現(xiàn):

    3、非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,包括:

    4、相干光源,所述相干光源用于提供相干光束射于被測對象的結(jié)構(gòu)表面,并產(chǎn)生反射光束,所述相干光束和所述反射光束之間具有夾角;

    5、分束組件,所述分束組件和所述相干光源均位于所述被測物同側(cè)方向,所述分束組件包括分束器和反射器;

    6、檢測組件,所述檢測組件包括光電接收器和傳感器;

    7、所述分束器用于接收所述反射光束,并用于將反射光束分為兩束,一束在所述分束器上反射于光電接收器上,另一束被分射于所述反射器上,并被反射器反射于所述光電接收器上;

    8、所述光電接收器用于接收光強變化信號,所述傳感器用于將光強變化信號轉(zhuǎn)換為位移量。

    9、相對于現(xiàn)有技術(shù)中,機械式測量方法通常需要將測量儀器直接安裝在塔基上,并通過機械裝置進行測量,操作繁瑣、效率低下,且容易受到環(huán)境因素的影響,例如溫度、濕度等。全站儀測量方法雖然精度較高,但需要專業(yè)的操作人員,且測量過程耗時較長,難以滿足快速測量和實時監(jiān)測的需求等問題,本專利技術(shù)提供了一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法,采用本方案,能通過非接觸式測量,無需接觸被測物體,即可實現(xiàn)高精度、高效率的位移測量。具體方案中,包括能提供穩(wěn)定的相干光束的相干光源,作為測量過程中的光源,當(dāng)相干光束入射到被測對象的結(jié)構(gòu)表面時,相干光束相對于結(jié)構(gòu)表面具有一定的俯仰角,從而會發(fā)生反射,其反射光束的路徑位于分束器的接收面范圍內(nèi),通過分束器對反射光束進行分束,并分成兩束光線,一束光線直接被反射,并被光電接收器接收,另一束光線被調(diào)節(jié)或透射到反射器上,通過反射器對該光線進行反射,并被光電接收器接收,此時兩束光線均被光電接收器接收,并在光電接收器的干涉區(qū)域內(nèi)進行空間組合,形成相應(yīng)的干涉圖樣;當(dāng)被測對象發(fā)生位移時,此時光場強度發(fā)生變化,隨后光電接收器記錄干涉圖樣中特定區(qū)域的光場強度變化,并通過與之相連的傳感器來確定測試對象的位移量。

    10、為將光源發(fā)出的光束聚焦到測試對象表面,形成一個明亮的光點,還包括光學(xué)系統(tǒng),所述光學(xué)系統(tǒng)位于所述相干光源和被測對象之間,并用于將相干光束聚焦于所述結(jié)構(gòu)表面上形成光點。

    11、為對光學(xué)系統(tǒng)位置進行調(diào)節(jié),還包括第一承載物,所述第一承載物上具有第一線性承載面,所述相干光源固定于所述第一線性承載面上,所述光學(xué)系統(tǒng)活動連接于所述第一線性承載面上,并能朝平行于所述相干光束的方向移動。

    12、在測試過程中,為確保干涉儀分束器、反射器和光電接收器之間的相對位置不變,從而保證測量的準確性,還包括公共底座,所述分束組件和光電接收器均固定于所述公共底座內(nèi)部。其中,光電接收器放置在測試對象結(jié)構(gòu)表面和干涉儀分束器外表面之間的一定距離處;這個距離應(yīng)該對應(yīng)于特定的位移變化范圍,以確保設(shè)備能夠準確測量所需的位移范圍。

    13、為根據(jù)位移范圍和設(shè)備的靈敏度曲線,確定公共底座的初始位置,還包括第二承載物,所述第二承載物上具有第二線性承載面,所述公共底座活動連接于所述第二線性承載面上,并能朝遠離或靠近所述被測對象的方向移動。其中,可根據(jù)測試對象的特性和測試條件,確定測試過程中可能出現(xiàn)的位移范圍,這可以通過理論計算、經(jīng)驗估計或?qū)嶒烌炞C等方式獲得。即靈敏度曲線反映了設(shè)備靈敏度與測試對象表面到干涉儀分束器距離之間的關(guān)系,可以通過實驗驗證獲得。如果需要改變測量范圍,可以通過調(diào)整底座的位置來改變測試對象表面到干涉儀分束器的距離;根據(jù)靈敏度曲線,不同的距離對應(yīng)不同的測量范圍,因此可以根據(jù)實際需求選擇合適的距離。

    14、為快速確定分束組件的初始位置,所述公共底座底面上還活動連接有活動構(gòu)件,所述活動構(gòu)件能朝遠離或靠近所述被測對象的方向移動,所述分束器和反射器均固定于所述活動構(gòu)件上。

    15、作為一種冗余方案,朝遠離所述被測對象的方向,所述分束器和所述反射器依次排列設(shè)置。

    16、作為一種冗余方案,所述反射器采用放射鏡。

    17、更進一步的方案,還提供了一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置的測量方法,包括以下步驟:

    18、s1:建立位移量和干涉圖樣特征之間的關(guān)系模型;

    19、s2:確定相干光源、分束組件和光電接收器的初始位置;

    20、s3:當(dāng)被測對象發(fā)生位移時,所述光電接收器記錄干涉圖樣中特定區(qū)域的光場強度,并將光場強度的變化轉(zhuǎn)化為光強變化信號,并輸送給傳感器,所述傳感器根據(jù)位移量和干涉圖樣特征之間的關(guān)系模型,得到相應(yīng)的位移量。

    21、更進一步的方案,所述干涉圖樣特征包括干涉條紋的間距和亮度。

    22、本專利技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下的優(yōu)點和有益效果:

    23、1.本專利技術(shù)提供了一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法,采用本方案,能通過非接觸式測量,無需接觸被測物體,即可實現(xiàn)高精度、高效率的位移測量。

    24、2.本專利技術(shù)提供了一種非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置及其測量方法,采用本方案,可以通過調(diào)節(jié)測試對象的結(jié)構(gòu)表面與干涉儀分束器外表面之間距離變化反映對靈敏度的影響。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】

    1.非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括光學(xué)系統(tǒng)(2),所述光學(xué)系統(tǒng)(2)位于所述相干光源(1)和被測對象(3)之間,并用于將相干光束聚焦于所述結(jié)構(gòu)表面(4)上形成光點。

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括第一承載物,所述第一承載物上具有第一線性承載面,所述相干光源(1)固定于所述第一線性承載面上,所述光學(xué)系統(tǒng)(2)活動連接于所述第一線性承載面上,并能朝平行于所述相干光束的方向移動。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括公共底座(5),所述分束組件和光電接收器(8)均固定于所述公共底座(5)內(nèi)部。

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括第二承載物,所述第二承載物上具有第二線性承載面,所述公共底座(5)活動連接于所述第二線性承載面上,并能朝遠離或靠近所述被測對象(3)的方向移動。

    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,所述公共底座(5)底面上還活動連接有活動構(gòu)件(10),所述活動構(gòu)件(10)能朝遠離或靠近所述被測對象(3)的方向移動,所述分束器(6)和反射器(7)均固定于所述活動構(gòu)件(10)上。

    7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,朝遠離所述被測對象(3)的方向,所述分束器(6)和所述反射器(7)依次排列設(shè)置。

    8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,所述反射器(7)采用放射鏡。

    9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置的測量方法,其特征在于,包括以下步驟:

    10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置的測量方法,其特征在于,所述干涉圖樣特征包括干涉條紋的間距和亮度。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括光學(xué)系統(tǒng)(2),所述光學(xué)系統(tǒng)(2)位于所述相干光源(1)和被測對象(3)之間,并用于將相干光束聚焦于所述結(jié)構(gòu)表面(4)上形成光點。

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括第一承載物,所述第一承載物上具有第一線性承載面,所述相干光源(1)固定于所述第一線性承載面上,所述光學(xué)系統(tǒng)(2)活動連接于所述第一線性承載面上,并能朝平行于所述相干光束的方向移動。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括公共底座(5),所述分束組件和光電接收器(8)均固定于所述公共底座(5)內(nèi)部。

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的非接觸式的配電線路塔基位移測量光學(xué)裝置,其特征在于,還包括第二承載物,所述第二承載物上具有第二線性承載面,所述公共底座(5)活...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:徐曉苡宋宇李明偉代萍黃曉惠龍海中楊向龍張蕓蕓何瑞臨張梓穆陳錦航王壯劉春艷游萍何毅陳杰
    申請(專利權(quán))人:國網(wǎng)四川省電力公司技能培訓(xùn)中心
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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