【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及建筑陶瓷領(lǐng)域，尤其涉及一種幻彩大理石瓷磚及其制造方法。
技術(shù)介紹
1、傳統(tǒng)大理石瓷磚生產(chǎn)制造著重在于紋理與噴墨調(diào)色，對(duì)于天然大理石中的石材晶體，由于光線折射產(chǎn)生的色彩變化，難以有效表達(dá)。而這些石材晶體對(duì)對(duì)光線的分解，產(chǎn)生的幻彩效果卻是石材最迷人的部分。
2、目前行業(yè)內(nèi)在制作幻彩干粒釉層時(shí)，通常以透明干粒作為基礎(chǔ)料，在其中混合少量閃爍干粒(1-3％)，整面布施，達(dá)到磚面有零星閃爍的效果，并不能夠真正完全復(fù)刻天然大理石的幻彩效果，但如果閃爍干粒添加量過大，則會(huì)影響磚面紋理的清晰度。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、針對(duì)上述問題，本專利技術(shù)通過改進(jìn)現(xiàn)有的幻彩干粒釉層的成分及工藝，提供一種幻彩大理石及其制造方法。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本專利技術(shù)采取的技術(shù)方案為：
3、一種幻彩大理石的制造方法，包括以下步驟：
4、(1)在陶瓷磚坯表面施底釉，然后噴墨打印大理石紋理圖案；
5、(2)在步驟(1)得到的陶瓷磚坯表面，絲網(wǎng)印刷施色釉；
6、(3)在色釉的表面局部定位布施幻彩干粒釉，所述幻彩干粒釉由40-50份透明干粒、20-30份閃爍干粒、20-30份印油、10-15份印膏混合而成；按照重量百分比，所述透明干粒化學(xué)組成為sio2?55-60％、al2o3?5.5-8.5％、fe2o3?0-0.3％、cao?10-15％、mgo?0.2-0.3％、bao?1.5-4％、zno?8-15％、k2o?5-9％、na2o?0-3％、z
7、(4)在步驟(3)得到的陶瓷磚坯表面淋保護(hù)釉；
8、(5)將步驟(4)所得的磚坯燒制成型；
9、(6)將步驟(5)所得的磚坯拋光及打蠟。
10、本專利技術(shù)方案通過采用局部定點(diǎn)布施幻彩干粒釉，可加大幻彩干粒釉中閃爍干料比例，而且在幻彩干粒度釉中，由于本專利技術(shù)采用的透明干粒熔點(diǎn)較低，在燒制過程中，先熔融包裹住熔點(diǎn)高的閃爍干粒，使得釉面層中，被包裹的閃爍干粒可以層層堆積，形成光線的折射層，從而形成更逼真的幻彩效果。進(jìn)一步結(jié)合保護(hù)釉層，由于保護(hù)釉在釉面層具有一定厚度，可以對(duì)其進(jìn)行全拋光，使得磚面平整，且不傷害釉下層。既可以為磚面拋光提供較高的切削量，又不影響磚面的防污等性能。而且由于在表面淋了一層保護(hù)釉，使得閃爍干粒在釉層的上下均有分布，形成立體的閃爍幻彩效果，即使拋光也不會(huì)影響到表面閃爍幻彩的立體效果。而且拋光打蠟后，磚面被磨平，由于磚面光度較高、平整度較好、釉面通透，光線可以很好的照射釉面中的閃爍干粒，并由數(shù)量眾多的閃爍干粒發(fā)生折射，產(chǎn)生逼真的幻彩漸變的效果。
11、優(yōu)選地，所述步驟(2)中，通過調(diào)整網(wǎng)版，使絲網(wǎng)不同紋理之間的顏色相互侵染，這樣可以使得瓷磚的變化過渡自然，可彌補(bǔ)噴墨打印在顏色的豐富度、鮮艷度以及層次感上的不足，提升大理石瓷磚的觀賞性。
12、優(yōu)選地，所述步驟(3)中，按照質(zhì)量比，幻彩干粒釉中，幻彩干粒：閃爍干粒＝1：0.4～0.6，最終得到的瓷磚幻彩效果和斷裂模數(shù)均較好。
13、優(yōu)選地，所述步驟(3)中，所述幻彩干粒釉的布施量為1-1.2kg/m2，厚度0.75-1.5mm。
14、優(yōu)選地，所述步驟(3)中，所述透明干粒粒徑為37-75μm，所述閃爍干粒粒徑為150-250μm。
15、優(yōu)選地，所述步驟(4)中，保護(hù)釉為保護(hù)釉粉分散在水中而形成漿料，其中所述保護(hù)釉粉的化學(xué)組成為sio2?40-45％、al2o3?6-10％、fe2o3≤0.3％、cao?6-10％、mgo?3-6％、bao?7-12％、zno?3-6％、k2o?2-5％、na2o?2-5％、sro?2-5％、so3?1-2.5％、tio2≤0.5％，其余為燒失量。
16、優(yōu)選地，所述步驟(4)中，保護(hù)釉布施量為400-600g/m2，以便達(dá)到一定的厚度，利于拋光打蠟，形成平整、光亮的表面。
17、優(yōu)選地，所述步驟(5)中，燒制溫度為1185-1225℃，燒制時(shí)間45-60min；溫度過低或時(shí)間過短，都容易導(dǎo)致瓷磚釉面未完全熔融玻化，影響磚面的通透度。
18、優(yōu)選地，所述步驟(6)中，拋光后基底磚面光度在70°-80°之間，打蠟后基底磚面光度在90°-100°之間，這樣磚面平整通透，在光線照射下，更好地局部呈現(xiàn)出幻彩效果。
19、優(yōu)選地，所述步驟(6)中，拋光工藝為先采用10組400目彈性磨塊，10組600目彈性磨塊，壓力4kg；然后10組800目彈性磨塊，10組1000目彈性模塊，壓力為2kg；最后20組240目海綿拋，壓力為0.5kg。打蠟工藝可以選擇常用的陶瓷拋光蠟，如在本專利技術(shù)一個(gè)具體實(shí)施例中，采用雙益中光蠟，滴涂量為12-15g/m2
20、本專利技術(shù)的另一方面，還提供了上述制造方法制備得到的幻彩大理石瓷磚。
21、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)具有以下有益效果：
22、本專利技術(shù)方案通過改進(jìn)幻彩干粒釉組分，且在局部布施幻彩干粒釉，燒成的大理石瓷磚可以形成逼真的幻彩效果并不會(huì)影響磚面整體的紋理清晰度。而且由于在表面淋了一層一定厚度的透明保護(hù)釉，使得閃爍干粒在釉層的上下均有分布，可形成立體的閃爍幻彩效果。即使拋光也不會(huì)影響到表面閃爍幻彩的立體效果。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種幻彩大理石瓷磚的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(2)中，通過調(diào)整網(wǎng)版，使絲網(wǎng)不同紋理之間的顏色相互侵染。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(3)中，按照質(zhì)量比，幻彩干粒釉中，透明干粒：閃爍干粒＝1：0.4～0.6。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(3)中，所述幻彩干粒釉的布施量為1-1.2kg/m2，厚度0.75-1.5mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(3)中，所述透明干粒粒徑為37-75μm，所述閃爍干粒粒徑為150-250μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(4)中，保護(hù)釉為保護(hù)釉粉分散在水中而形成漿料；按照重量百分比，所述保護(hù)釉粉的化學(xué)組成為SiO2?40-45％、Al2O36-10％、Fe2O3≤0.3％、CaO?6-10％、MgO?3-6％、BaO?7-12％、ZnO?3-6％、K2O?2-5％、Na2O?2-5％、SrO?2-5％、SO3?
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(4)中，保護(hù)釉布施量為400-600g/m2。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(5)中，燒制溫度為1185-1225℃，燒制時(shí)間45-60min。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(6)中，拋光后基底磚面光度在70°-80°之間，打蠟后基底磚面光度在90°-100°之間。
10.一種幻彩大理石瓷磚，其特征在于，采用如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的制造方法制備得到。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種幻彩大理石瓷磚的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(2)中，通過調(diào)整網(wǎng)版，使絲網(wǎng)不同紋理之間的顏色相互侵染。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(3)中，按照質(zhì)量比，幻彩干粒釉中，透明干粒：閃爍干粒＝1：0.4～0.6。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(3)中，所述幻彩干粒釉的布施量為1-1.2kg/m2，厚度0.75-1.5mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(3)中，所述透明干粒粒徑為37-75μm，所述閃爍干粒粒徑為150-250μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(4)中，保護(hù)釉為保護(hù)釉粉分散在水中而形成漿料；按照重量百分比，所述保護(hù)釉粉的化...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李志豪，黃少卿，黃文鋒，鄧波，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：清遠(yuǎn)市簡(jiǎn)一陶瓷有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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