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【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及一種含有氟及鋁的水的處理方法,尤其涉及一種對含有氟及鋁的水進行逆滲透(ro)膜處理的含有氟及鋁的水的處理方法。
技術介紹
1、在電子顯示器、半導體等的電子工業領域的制造工廠中使用了多種類的化學品,主要在蝕刻、清洗等生產工序中大量地使用了氟化氫/氫氟酸(hydrogen?fluoride,hf)、氟硼酸(hbf4)、氟化銨(nh4f)等氟化物。因此,自這些工序中會大量地產生含有此種氟化物的排水。特別是自硅晶片的蝕刻工序中排出包含氟化物且也包含二氧化硅的排水。另外,自使用氟化銨的工序中排出進而包含銨成分的排水。
2、之前,作為含有氟化物的水的處理方法,廣為人知的是對含有氟化物的水進行ro(逆滲透(reverse?osmosis))膜處理而回收脫鹽水的方法。例如在專利文獻1中記載了如下情況:在對氟濃度4mg/l~43mg/l的含有重金屬的排水進行ph值調整后,進行凝聚處理,其后進行ro處理。在專利文獻1中未記載含有重金屬的排水含有鋁的情況。
3、在專利文獻2中記載了如下情況:在將含有ca離子的工業用水與含有f離子的電子零件制造排水的混合水的ph值調整為3~6后,作為螯合劑添加乙二胺四乙酸(ethylenediamine?tetraacetic?acid,edta),之后進行ro處理。在專利文獻2中并無關于所述混合水含有鋁的記載。
4、在專利文獻3中記載了如下情況:在將鈣鹽添加到電子零件制造工序排水中后,進行凝聚處理,繼而進行固液分離處理后,添加螯合劑,其后進行ro處理。在專利文獻3的實
5、現有技術文獻
6、專利文獻
7、專利文獻1:日本專利特開2003-340450號公報
8、專利文獻2:日本專利特開2001-104955號公報
9、專利文獻3:日本專利特開2014-213264號公報
技術實現思路
1、專利技術所要解決的問題
2、在對含有氟及鋁的水進行ro處理的情況下,發現根據氟及鋁的濃度以及ph值條件的不同,在ro膜面上會析出冰晶石等而使通量(透水流量)降低。
3、本專利技術的課題在于提供一種能夠抑制由鋁引起的ro的通量降低的含有氟及鋁的水的處理方法。
4、解決問題的技術手段
5、本專利技術的含有氟及鋁的水的處理方法是向含有氟及鋁的水中添加濃度為所述含有氟及鋁的水中的鋁濃度的100重量倍以上的螯合劑后通水至逆滲透膜裝置中。
6、在本專利技術的一實施例中,所述含有氟及鋁的水的ph值為4~6。
7、在本專利技術的一實施例中,所述螯合劑為edta。
8、專利技術的效果
9、通過本專利技術的含有氟及鋁的水的處理方法,能夠抑制對氟及鋁進行ro處理時的ro通量的降低,從而效率良好地進行處理。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種含有氟及鋁的水的處理方法,向含有氟及鋁的水中添加濃度為所述含有氟及鋁的水中的鋁濃度的100重量倍以上的螯合劑后,通水至逆滲透膜裝置中。
2.根據權利要求1所述的含有氟及鋁的水的處理方法,其中,所述含有氟及鋁的水的pH值為4~6。
3.根據權利要求1或2所述的含有氟及鋁的水的處理方法,其中,所述螯合劑為乙二胺四乙酸。
4.根據權利要求1或2所述的含有氟及鋁的水的處理方法,其中,向所述含有氟及鋁的水中添加濃度為所述含有氟及鋁的水中的鋁濃度的100重量倍~1500重量倍的所述螯合劑。
5.根據權利要求1或2所述的含有氟及鋁的水的處理方法,其中,向所述含有氟及鋁的水中添加濃度為所述含有氟及鋁的水中的鋁濃度的800重量倍~1500重量倍的所述螯合劑。
6.根據權利要求1或2所述的含有氟及鋁的水的處理方法,其中,所述含有氟及鋁的水的F離子濃度為50mg/L~700mg/L,Al離子濃度為0.01mg/L~1mg/L。
7.根據權利要求1或2所述的含有氟及鋁的水的處理方法,其中,所述含有氟及鋁的水的總有機碳濃度為1
...【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
1.一種含有氟及鋁的水的處理方法,向含有氟及鋁的水中添加濃度為所述含有氟及鋁的水中的鋁濃度的100重量倍以上的螯合劑后,通水至逆滲透膜裝置中。
2.根據權利要求1所述的含有氟及鋁的水的處理方法,其中,所述含有氟及鋁的水的ph值為4~6。
3.根據權利要求1或2所述的含有氟及鋁的水的處理方法,其中,所述螯合劑為乙二胺四乙酸。
4.根據權利要求1或2所述的含有氟及鋁的水的處理方法,其中,向所述含有氟及鋁的水中添加濃度為所述含有氟及鋁的水中的鋁濃度的100重量倍~1500...
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