System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和長度必須引用該字符串內(nèi)的位置。 參數(shù)名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本申請涉及安檢,具體而言,涉及一種安檢輻射源控制方法、系統(tǒng)和介質(zhì)。
技術介紹
1、伴隨著安全意識的提升,在機場、火車站、地鐵站及大型活動中心等場所各種安檢設備已基本普及使用,為安全提供了有力保障,但目前各類別安檢設備在開機使用后均以一種特定的模式工作,不能根據(jù)具體安檢要求對輻射源各參數(shù)作自適應調(diào)整,面對復雜的安檢環(huán)境,會出現(xiàn)監(jiān)測不充分或輻射過量,相應帶來安全隱患或能源浪費的問題。
2、針對上述問題,目前亟待有效的技術解決方案。
技術實現(xiàn)思路
1、本申請的目的在于提供一種安檢輻射源控制方法、系統(tǒng)和介質(zhì),可以通過利用影響穿透力的環(huán)境參數(shù)數(shù)據(jù)和探測器參數(shù)數(shù)據(jù)生成影響系數(shù),對理論射線穿透力評估指數(shù)進行修正,再通過閾值對比實現(xiàn)安檢輻射源輻射參數(shù)的智能化自適應調(diào)整。
2、本申請還提供了安檢輻射源控制方法,包括以下步驟:
3、獲取輻射源的能量輸出數(shù)據(jù);
4、對所述能量輸出數(shù)據(jù)進行分析處理,獲得輻射源的理論射線穿透力評估指數(shù);
5、獲取環(huán)境參數(shù)數(shù)據(jù)和探測器參數(shù)數(shù)據(jù);
6、根據(jù)環(huán)境參數(shù)數(shù)據(jù)和探測器參數(shù)數(shù)據(jù)分析處理獲得射線穿透力影響系數(shù);
7、根據(jù)所述穿透力影響系數(shù)對所述理論射線穿透力評估指數(shù)進行修正,獲得實時射線穿透力評估指數(shù);
8、將所述實時射線穿透力評估指數(shù)與預設射線穿透力評估閾值進行閾值對比,根據(jù)閾值對比結果對安檢輻射源輻射參數(shù)進行調(diào)整。
9、可選地,在本申請所述的安檢輻射源控制方法中,
10、所述能量輸出數(shù)據(jù)包括x射線強度數(shù)據(jù)、能量分布數(shù)據(jù)和能量穩(wěn)定性數(shù)據(jù);
11、將所述x射線強度數(shù)據(jù)、能量分布數(shù)據(jù)和能量穩(wěn)定性數(shù)據(jù)輸入預設輻射源射線穿透力評估模型中分析處理,獲得輻射源的理論射線穿透力評估指數(shù)。
12、可選地,在本申請所述的安檢輻射源控制方法中,所述根據(jù)環(huán)境參數(shù)數(shù)據(jù)和探測器參數(shù)數(shù)據(jù)分析處理獲得射線穿透力影響系數(shù),包括:
13、所述環(huán)境參數(shù)數(shù)據(jù)包括溫度數(shù)據(jù)、濕度數(shù)據(jù)和干擾電磁強度數(shù)據(jù);
14、所述探測器參數(shù)數(shù)據(jù)包括靈敏度數(shù)據(jù)、能量分辨率數(shù)據(jù)、光電轉(zhuǎn)換率數(shù)據(jù);
15、根據(jù)所述溫度數(shù)據(jù)、濕度數(shù)據(jù)和干擾電磁強度數(shù)據(jù)和所述靈敏度數(shù)據(jù)、能量分辨率數(shù)據(jù)、光電轉(zhuǎn)換率數(shù)據(jù)分析處理,獲得射線穿透力影響系數(shù)。
16、可選地,在本申請所述的安檢輻射源控制方法中,所述根據(jù)所述穿透力影響系數(shù)對所述理論射線穿透力評估指數(shù)進行修正,獲得實時射線穿透力評估指數(shù),包括:
17、根據(jù)所述穿透力影響系數(shù)對所述理論射線穿透力評估指數(shù)進行修正,獲得實時射線穿透力評估指數(shù);
18、所述實時射線穿透力評估指數(shù)計算公式為:
19、
20、其中,pr為理論射線穿透力評估指數(shù),pi、ci分別為理論射線穿透力評估指數(shù)、射線穿透力影響系數(shù),為預設特征系數(shù)。
21、可選地,在本申請所述的安檢輻射源控制方法中,還包括:
22、獲取輻射源真空管發(fā)出的射線劑量率數(shù)據(jù)、能量分布數(shù)據(jù)和真空度數(shù)據(jù);
23、獲取輻射源陰極燈絲的電流數(shù)據(jù)和電壓數(shù)據(jù);
24、將所述射線劑量率數(shù)據(jù)、能量分布數(shù)據(jù)和真空度數(shù)據(jù)以及所述電流數(shù)據(jù)和電壓數(shù)據(jù)輸入預設輻射源真空管壽命衰減評估模型中分析處理,獲得輻射源真空管的壽命衰減指數(shù);
25、將所述壽命衰減指數(shù)與預設壽命衰減閾值進行閾值對比,根據(jù)閾值對比結果確定輻射源真空管的實時衰減相對值;
26、將所述實時衰減相對值與預設衰減等級閾值進行閾值對比,根據(jù)閾值對比結果確定衰減等級信息;
27、將所述衰減等級信息發(fā)送至后臺顯示。
28、可選地,在本申請所述的安檢輻射源控制方法中,還包括:
29、獲取被測目標的實時圖像信息;
30、獲取被測目標的實時輻射監(jiān)測圖像信息;
31、將所述實時圖像信息與所述實時輻射監(jiān)測圖像信息進行相似度對比,獲得實時圖像相似度;
32、將所述實時圖像相似度與預設圖像相似度閾值進行閾值對比;
33、若小于預設圖像相似度閾值,則持續(xù)進行輻射監(jiān)測;
34、若大于或等于預設圖像相似度閾值,則激活輻射源關閉響應。
35、可選地,在本申請所述的安檢輻射源控制方法中,還包括:
36、獲取預設輻射源參數(shù)數(shù)據(jù)和預設準直器參數(shù)數(shù)據(jù);
37、獲取預設輻射束發(fā)散角數(shù)據(jù);
38、獲取輻射源至被測目標的距離數(shù)據(jù)和被測目標的極值尺寸數(shù)據(jù);
39、將所述極值尺寸數(shù)據(jù)和距離數(shù)據(jù)輸入預設輻射束發(fā)散角需求模型中分析處理,獲得輻射束發(fā)散角需求數(shù)據(jù);
40、根據(jù)所述預設輻射束發(fā)散角數(shù)據(jù)與所述輻射束發(fā)散角需求數(shù)據(jù)獲得輻射束發(fā)散角偏差率;
41、將所述輻射束發(fā)散角偏差率與預設輻射束發(fā)散角偏差閾值進行閾值對比;
42、若小于或等于預設輻射束發(fā)散角偏差第一閾值,則不作調(diào)整;
43、若大于預設輻射束發(fā)散角偏差第一閾值,且小于或等于預設輻射束發(fā)散角偏差第二閾值,則調(diào)整所述預設準直器參數(shù)數(shù)據(jù);
44、若大于預設輻射束發(fā)散角偏差第二閾值,則調(diào)整所述預設輻射源參數(shù)數(shù)據(jù)。
45、第二方面,本申請?zhí)峁┝税矙z輻射源控制系統(tǒng),該系統(tǒng)包括:存儲器及處理器,所述存儲器中包括安檢輻射源控制方法的程序,所述安檢輻射源控制方法的程序被所述處理器執(zhí)行時實現(xiàn)以下步驟:
46、獲取輻射源的能量輸出數(shù)據(jù);
47、對所述能量輸出數(shù)據(jù)進行分析處理,獲得輻射源的理論射線穿透力評估指數(shù);
48、獲取環(huán)境參數(shù)數(shù)據(jù)和探測器參數(shù)數(shù)據(jù);
49、根據(jù)環(huán)境參數(shù)數(shù)據(jù)和探測器參數(shù)數(shù)據(jù)分析處理獲得射線穿透力影響系數(shù);
50、根據(jù)所述穿透力影響系數(shù)對所述理論射線穿透力評估指數(shù)進行修正,獲得實時射線穿透力評估指數(shù);
51、將所述實時射線穿透力評估指數(shù)與預設射線穿透力評估閾值進行閾值對比,根據(jù)閾值對比結果對安檢輻射源輻射參數(shù)進行調(diào)整。
52、可選地,在本申請所述的一種安檢輻射源控制系統(tǒng)中,所述對所述能量輸出數(shù)據(jù)進行分析處理,獲得輻射源的理論射線穿透力評估指數(shù),包括:
53、所述能量輸出數(shù)據(jù)包括x射線強度數(shù)據(jù)、能量分布數(shù)據(jù)和能量穩(wěn)定性數(shù)據(jù);
54、將所述x射線強度數(shù)據(jù)、能量分布數(shù)據(jù)和能量穩(wěn)定性數(shù)據(jù)輸入預設輻射源射線穿透力評估模型中分析處理,獲得輻射源的理論射線穿透力評估指數(shù)。
55、第三方面,本申請還提供了一種計算機可讀存儲介質(zhì),所述計算機可讀存儲介質(zhì)中存儲安檢輻射源控制方法程序,所述安檢輻射源控制方法程序被處理器執(zhí)行時,實現(xiàn)如上述任一項所述的安檢輻射源控制方法的步驟。
56、由上可知,本申請?zhí)峁┑囊环N安檢輻射源控制方法、系統(tǒng)和介質(zhì),通本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術保護點】
1.一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,包括以下步驟:
2.根據(jù)權利要求1所述的一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,所述對所述能量輸出數(shù)據(jù)進行分析處理,獲得輻射源的理論射線穿透力評估指數(shù),包括:
3.根據(jù)權利要求2所述的一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,所述根據(jù)環(huán)境參數(shù)數(shù)據(jù)和探測器參數(shù)數(shù)據(jù)分析處理獲得射線穿透力影響系數(shù),包括:
4.根據(jù)權利要求3所述的一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,所述根據(jù)所述穿透力影響系數(shù)對所述理論射線穿透力評估指數(shù)進行修正,獲得實時射線穿透力評估指數(shù),包括:
5.根據(jù)權利要求4所述的一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,還包括:
6.根據(jù)權利要求5所述的一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,還包括:
7.根據(jù)權利要求6所述的一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,還包括:
8.一種安檢輻射源控制系統(tǒng),其特征在于,包括存儲器和處理器,所述存儲器中包括一種安檢輻射源控制方法的程序,所述安檢輻射源控制方法程序被所述處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如下步驟:
9.根據(jù)權利要求8所述的安檢輻
10.一種計算機可讀存儲介質(zhì),其特征在于,所述計算機可讀存儲介質(zhì)中存儲安檢輻射源控制程序,所述安檢輻射源控制程序被處理器執(zhí)行時,實現(xiàn)如權利要求1至7中任一項所述的一種安檢輻射源控制方法的步驟。
...【技術特征摘要】
1.一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,包括以下步驟:
2.根據(jù)權利要求1所述的一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,所述對所述能量輸出數(shù)據(jù)進行分析處理,獲得輻射源的理論射線穿透力評估指數(shù),包括:
3.根據(jù)權利要求2所述的一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,所述根據(jù)環(huán)境參數(shù)數(shù)據(jù)和探測器參數(shù)數(shù)據(jù)分析處理獲得射線穿透力影響系數(shù),包括:
4.根據(jù)權利要求3所述的一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,所述根據(jù)所述穿透力影響系數(shù)對所述理論射線穿透力評估指數(shù)進行修正,獲得實時射線穿透力評估指數(shù),包括:
5.根據(jù)權利要求4所述的一種安檢輻射源控制方法,其特征在于,還包括:
6.根據(jù)權利要求5所述的一種安...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員:楊杰,石勇,
申請(專利權)人:沃杰北京科技有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
還沒有人留言評論。發(fā)表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。