【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及清洗劑，尤其涉及一種電子材料專用清洗劑及其制備方法。
技術(shù)介紹
1、在電子材料制造過(guò)程中，清洗工藝是確保產(chǎn)品表面潔凈、保證后續(xù)加工性能和器件質(zhì)量的關(guān)鍵步驟之一。半導(dǎo)體、鋁基覆銅板、印刷電路板(pcb)等電子材料在生產(chǎn)過(guò)程中常常受到多種污染物的影響，包括有機(jī)物、金屬氧化物和其他雜質(zhì)。為了保證這些材料在精密制造中的高效運(yùn)作，清洗劑的選擇至關(guān)重要。
2、目前，市場(chǎng)上普遍使用的電子材料清洗劑通常包含強(qiáng)酸或強(qiáng)堿，配合表面活性劑和螯合劑，以去除污染物。然而，這些清洗劑雖然具有良好的清洗能力，但常伴隨較高的腐蝕性，且清洗后容易在材料表面形成化學(xué)殘留。殘留的化學(xué)物質(zhì)不僅影響材料的表面性能，還可能對(duì)后續(xù)加工過(guò)程和器件性能產(chǎn)生不利影響，尤其是在高精度制造領(lǐng)域，如微電子和光電子元件的制造過(guò)程中，殘留物會(huì)干擾材料的導(dǎo)電性、散熱性，甚至影響成品的可靠性和使用壽命。
3、為了應(yīng)對(duì)這些問(wèn)題，部分技術(shù)方案引入了生物降解的表面活性劑或綠色溶劑，以減少清洗劑的環(huán)境負(fù)擔(dān)并降低化學(xué)殘留。然而，這類清洗劑在去污能力和殘留問(wèn)題之間往往難以取得平衡，特別是在應(yīng)對(duì)復(fù)雜的金屬氧化物和有機(jī)污染物時(shí)，傳統(tǒng)單一螯合劑的應(yīng)用效果有限，且漂洗過(guò)程中不易完全去除，仍然容易留下有害殘留物。
4、為了解決上述問(wèn)題，近年來(lái)通過(guò)將不同類型的螯合劑進(jìn)行復(fù)配，并引入可生物降解和低腐蝕性的綠色化學(xué)成分的方案，逐步成為研究熱點(diǎn)。通過(guò)在清洗劑中復(fù)配不同的螯合劑，能夠增強(qiáng)清洗劑對(duì)不同金屬離子、金屬氧化物以及有機(jī)污染物的清除能力，同時(shí)減少腐蝕和殘留。然而，現(xiàn)有技
5、因此，亟需開(kāi)發(fā)一種具有高效清洗能力、低殘留特性，同時(shí)對(duì)不同污染物具有較好螯合作用和溫和腐蝕性的電子材料專用清洗劑。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、有鑒于此，本專利技術(shù)提出了一種電子材料專用清洗劑及其制備方法，旨在維持良好的去污性能的同時(shí)，最大限度地降低清洗后的化學(xué)殘留，以適應(yīng)現(xiàn)代電子材料制造過(guò)程中對(duì)潔凈度和環(huán)保性的更高要求。
2、本專利技術(shù)的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：本專利技術(shù)提供了一種電子材料專用清洗劑，按重量百分比為100％計(jì)算，包括：
3、
4、余量為水，其中溶劑為乙酰丙酸乙酯，表面活性劑為烷基多糖苷，所述有機(jī)酸包括植酸和輔助酸，輔助酸還包括檸檬酸、甲酸和葡萄糖酸中的一種。
5、在清洗劑的開(kāi)發(fā)過(guò)程中，減少表面殘留是一個(gè)非常關(guān)鍵的技術(shù)難題，尤其在高精度電子材料的制造過(guò)程中，殘留物不僅會(huì)影響后續(xù)工藝，還會(huì)損害產(chǎn)品性能。清洗劑中的殘留通常來(lái)自未被完全去除的污染物以及清洗劑本身在表面沉積的化學(xué)物質(zhì)。上述實(shí)施方式中，采用了復(fù)配的有機(jī)酸方案，在減少殘留方面產(chǎn)生了顯著的優(yōu)勢(shì)。植酸是一種多磷酸有機(jī)酸，其分子結(jié)構(gòu)中含有多個(gè)磷酸基團(tuán)，每個(gè)磷酸基團(tuán)可以提供一個(gè)負(fù)電荷，這使得植酸能夠與多種金屬離子形成多齒螯合物。這種螯合物非常穩(wěn)定，并且能夠完全溶解于水中，因此金屬離子及金屬氧化物能夠通過(guò)植酸的螯合作用從材料表面徹底脫離，防止其重新再表面沉積。而輔助酸在清洗劑中的作用不僅僅是提供酸性環(huán)境，這些有機(jī)酸本身也是溫和的螯合劑，它們與植酸的組合能夠增強(qiáng)對(duì)不同類型金屬離子的去除能力，并且通過(guò)調(diào)節(jié)ph值，優(yōu)化了清洗劑的整體酸堿平衡，確保清洗過(guò)程中對(duì)材料表面的腐蝕最小化，并且有機(jī)酸本身可以減少有害殘留。
6、在一些實(shí)施方式中，植酸：輔助酸的質(zhì)量比為(1-2):1，優(yōu)選為3:2。
7、上述實(shí)施方式中，植酸作為強(qiáng)螯合劑在清除重金屬和金屬氧化物方面表現(xiàn)出極強(qiáng)的能力，而輔助酸(如檸檬酸、甲酸、葡萄糖酸)能夠補(bǔ)充和加強(qiáng)對(duì)特定金屬離子的去除效果。通過(guò)優(yōu)選的比例設(shè)計(jì)，螯合能力得到優(yōu)化，確保不同類型的金屬污染物都能被搞笑螯合并溶解于水中，最終隨漂洗液去除。作為較優(yōu)的比例，，植酸：輔助酸的質(zhì)量比為3:2。
8、在一些實(shí)施方式中，螯合劑包括edta、乙二醇酸、聚天冬氨酸中的至少一種。
9、在一些實(shí)施方式中，螯合劑為乙二醇酸和聚天冬氨酸的混合物。
10、以上實(shí)施方式中，乙二醇酸和聚天冬氨酸各自具有強(qiáng)大的螯合能力，乙二醇酸的快速滲透和聚天冬氨酸的長(zhǎng)效作用能夠有效結(jié)合，形成穩(wěn)定的金屬螯合物。這種雙重作用確保了污染物被徹底去除，并且在漂洗過(guò)程中隨水帶走，從而大幅減少了殘留的可能性。由于聚天冬氨酸具有良好的生物降解性，并且乙二醇酸也是溫和的有機(jī)酸，整個(gè)清洗體系具有優(yōu)異的環(huán)保特性，避免了有毒化學(xué)物質(zhì)的殘留風(fēng)險(xiǎn)，尤其適合于高精度電子材料的清洗，如半導(dǎo)體和微電子器件。該螯合劑體系相對(duì)于常見(jiàn)的強(qiáng)酸或edta體系，能夠更好地保護(hù)清洗材料的表面，避免了過(guò)度腐蝕。在特定的ph范圍內(nèi)，乙二醇酸和聚天冬氨酸的混合物對(duì)材料表面具有溫和的清潔作用，不會(huì)因強(qiáng)酸腐蝕造成表面損傷，從而減少表面微孔和化學(xué)殘留。
11、在一些實(shí)施方式中，清洗劑還包括低分子量聚乙二醇0.5-1％，所述低分子量聚乙二醇為peg200、peg400或peg600中的一種。
12、以上實(shí)施方式中，選用了低分子量的peg，主要是因?yàn)榈头肿恿康膒eg具有更好的水溶性和漂洗性，不會(huì)像高分子量聚合物那樣容易在表面形成難以去除的薄膜，從而有效減少化學(xué)殘留。同時(shí)，低分子量peg還能與其他成分(如表面活性劑和有機(jī)酸)形成協(xié)同潤(rùn)濕效應(yīng)，提高表面的潤(rùn)濕性和清洗劑的擴(kuò)散性，確保在漂洗時(shí)能徹底帶走污染物和清洗劑成分。
13、在一些實(shí)施方式中，清洗劑還包括黑曲霉脂肪酶0.2-0.5％。
14、以上實(shí)施方式中，黑曲霉脂肪酶作為一種生物催化劑，能夠催化分解油脂類有機(jī)污染物，將其轉(zhuǎn)化為水溶性的甘油和脂肪酸等小分子產(chǎn)物，這些產(chǎn)物易于溶解于水中，從而被漂洗掉，避免油脂類污染物在清洗后沉積在材料表面。酶的專一性和高效性使其能夠在溫和條件下對(duì)有機(jī)污染物進(jìn)行高效分解。
15、第二方面，本專利技術(shù)還提供一種上述清洗劑的制備方法，包括如下步驟：
16、步驟一、將乙酰丙酸乙酯溶解在水中，然后加入烷基多糖苷攪拌均勻；
17、步驟二、向步驟一所得溶液中依次加入有機(jī)酸和螯合劑，攪拌溶解，得到電子材料專用清洗劑。
18、在一些實(shí)施方式中，當(dāng)原料中還包括低分子量聚乙二醇時(shí)，步驟二中，在加入螯合劑后還包括加入低分子量聚乙二醇。
19、在一些實(shí)施方式中，當(dāng)原料中還包括黑曲霉脂肪酶時(shí)，步驟二中，在加入螯合劑后還包括加入黑曲霉脂肪酶。
20、本專利技術(shù)相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)具有以下有益效果：
21、本專利技術(shù)的清洗劑采用植酸與輔助酸復(fù)配的方案，有效螯合和去除金屬離子和金屬氧化物污染物，確保污染物從材料表面完全脫離并隨漂洗液帶走，減少了化學(xué)殘留。
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1.一種電子材料專用清洗劑，其特征在于，按重量百分比為100％計(jì)算，包括：
2.如權(quán)利要求1所述的電子材料專用清洗劑，其特征在于，所述植酸：輔助酸的質(zhì)量比為(1-2):1。
3.如權(quán)利要求1所述的電子材料專用清洗劑，其特征在于，所述螯合劑包括EDTA、乙二醇酸、聚天冬氨酸中的至少一種。
4.如權(quán)利要求3所述的電子材料專用清洗劑，其特征在于，螯合劑為乙二醇酸和聚天冬氨酸的混合物。
5.如權(quán)利要求1所述的電子材料專用清洗劑，其特征在于，所述清洗劑還包括低分子量聚乙二醇0.5-1％，所述低分子量聚乙二醇為PEG200、PEG400或PEG600中的一種。
6.如權(quán)利要求1所述的電子材料專用清洗劑，其特征在于，所述清洗劑還包括黑曲霉脂肪酶0.2-0.5％。
7.權(quán)利要求1-6中任一所述的電子材料專用清洗劑的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
8.如權(quán)利要求7所述的電子材料專用清洗劑的制備方法，其特征在于，當(dāng)原料中還包括低分子量聚乙二醇時(shí)，步驟二中，在加入螯合劑后還包括加入低分子量聚乙二醇。
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【技術(shù)特征摘要】
1.一種電子材料專用清洗劑，其特征在于，按重量百分比為100％計(jì)算，包括：
2.如權(quán)利要求1所述的電子材料專用清洗劑，其特征在于，所述植酸：輔助酸的質(zhì)量比為(1-2):1。
3.如權(quán)利要求1所述的電子材料專用清洗劑，其特征在于，所述螯合劑包括edta、乙二醇酸、聚天冬氨酸中的至少一種。
4.如權(quán)利要求3所述的電子材料專用清洗劑，其特征在于，螯合劑為乙二醇酸和聚天冬氨酸的混合物。
5.如權(quán)利要求1所述的電子材料專用清洗劑，其特征在于，所述清洗劑還包括低分子量聚乙二醇0.5-1％，所述低分子量聚乙二醇為peg200、p...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：趙浩雨，朱良科，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：京發(fā)安徽電子材料有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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