【技術實現步驟摘要】
本技術涉及光通信，尤其涉及一種準直光纖陣列及光模式復用器。
技術介紹
1、多分立的相位平面組成了被稱為mplc(multi-plane?light?converter)的光模式復用器，
2、該光模式復用器包括三個部分，分別是輸入端，調制結構和輸出端，其中，輸入端為準直光纖陣列，調制結構則由鍍金相位片和反射鏡組成，輸出端則是集成有漸變折射率透鏡的少模光纖。
3、在光模式復用器中，是由準直光纖陣列實現光輸入，目前，準直光纖陣列的最大定位精度在封裝應力中引入的偏移，均與調制結構所需的最佳精度等相差較遠，這將給光模式復用器帶來額外的大量損耗，當損耗過大時，光模式復用器成倍增加的傳輸容量產生的有益效果將被成倍衰減的功率所抵消，導致光模式復用器的使用效果較差。
4、現有的準直光纖陣列存在定位精度低的問題，無法應用于對定位精度要求較高的場景如模式復用器，因此，設計一種具有高定位精度的準直光纖陣列是目前亟待解決的問題。
技術實現思路
1、基于此，有必要針對上述問題，提出了一種準直光纖陣列及光模式復用器，以實現高定位精度的準直光纖陣列。
2、本技術第一方面提出一種準直光纖陣列，所述準直光纖陣列包括：
3、光纖陣列，波導陣列及微透鏡陣列；
4、所述光纖陣列由多根單模光纖插芯構成，用于傳輸激光，且將所述激光輸入至所述波導陣列；
5、所述波導陣列由多個定位精度滿足預設高定位精度要求的波導通道平行組成，且所述光纖陣列中的單模
6、所述微透鏡陣列由多個透鏡組合排列構成，且所述波導陣列中的波導通道的位置與所述微透鏡陣列中的透鏡的位置一一對應，所述波導通道輸出的激光入射至對應位置的透鏡，以實現光束準直。
7、進一步的，所述波導陣列采用三維飛秒激光直寫系統在樣品上加工得到。
8、進一步的，所述樣品為玻璃基板。
9、進一步的，所述預設高定位精度要求為小于0.5um。
10、進一步的，所述微透鏡陣列面向所述波導陣列的一側設置有抗反射涂層。
11、進一步的，所述三維飛秒激光直寫系統包括：飛秒激光器、第一反射鏡、凹透鏡、柱透鏡、機械狹縫、物鏡、分束器及位移臺；
12、所述飛秒激光器用于輸出激光光束，所述激光光束經過所述第一反射鏡入射至所述凹透鏡；
13、所述凹透鏡用于對所述激光光束進行放大，放大后的激光光束入射至所述柱透鏡；
14、所述柱透鏡用于對入射的激光光速進行壓縮，壓縮后的激光光束入射至所述機械狹縫；
15、所述機械狹縫用于對入射的激光光束進行調制，調制后的激光光束經所述分束器入射至所述物鏡；
16、所述物鏡用于對入射的激光光束進行聚焦，聚焦后的激光光束打在所述位移臺的樣品上，對所述樣品進行加工，得到所述波導陣列。
17、進一步的，所述三維飛秒激光直寫系統還包括：第二反射鏡及相機；
18、所述聚焦后的激光光束打在所述位移臺的樣品后，產生反射光束，所述反射光束經過所述分束器入射至所述第二反射鏡，所述第二反射鏡用于將所述反射光束反射至所述相機，所述相機用于基于所述反射光束成像。
19、進一步的，所述三維飛秒激光直寫系統支持最大100*100*20mm空間范圍內的三維波導的加工。
20、進一步的，所述三維飛秒激光直寫系統支持最長100mm長度的波導通道的加工。
21、本技術第二方面提出一種光模式復用器，所述光模式復用器包括：如第一方面任意一項所述的準直光纖陣列，還包括調制結構及輸出端。
22、采用本技術實施例，具有如下有益效果：
23、本申請提供一種準直光纖陣列，該準直光纖陣列包括：光纖陣列，波導陣列及微透鏡陣列，其中，光纖陣列由多根單模光纖插芯構成，用于傳輸激光，且將所述激光輸入至所述波導陣列，所述波導陣列由多個定位精度滿足預設高定位精度要求的波導通道平行組成，且光纖陣列中的單模光纖的位置與波導陣列中的波導通道的位置一一對應，單模光纖輸出的激光入射至對應位置的波導通道，微透鏡陣列則由多個透鏡組合排列構成，且波導陣列中的波導通道的位置與微透鏡陣列中的透鏡的位置一一對應，波導通道輸出的激光入射至對應位置的透鏡，以實現光束準直，通過設置定位精度滿足預設高定位精度要求的波導陣列，使得準直光纖陣列也能夠滿足高定位精度要求，有效提高準直光纖陣列的定位精度。
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1.一種準直光纖陣列，其特征在于，所述準直光纖陣列包括：
2.根據權利要求1所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述波導陣列采用三維飛秒激光直寫系統在樣品上加工得到。
3.根據權利要求2所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述樣品為玻璃基板。
4.根據權利要求1所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述預設高定位精度要求為小于0.5um。
5.根據權利要求1所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述微透鏡陣列面向所述波導陣列的一側設置有抗反射涂層。
6.根據權利要求2所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述三維飛秒激光直寫系統包括：飛秒激光器、第一反射鏡、凹透鏡、柱透鏡、機械狹縫、物鏡、分束器及位移臺；
7.根據權利要求6所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述三維飛秒激光直寫系統還包括：第二反射鏡及相機；
8.根據權利要求6所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述三維飛秒激光直寫系統支持最大100*100*20mm空間范圍內的三維波導的加工。
9.根據權利要求6所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述三維飛秒激光直寫系
10.一種光模式復用器，其特征在于，所述光模式復用器包括：如權利要求1至9任意一項所述的準直光纖陣列，還包括調制結構及輸出端。
...【技術特征摘要】
1.一種準直光纖陣列，其特征在于，所述準直光纖陣列包括：
2.根據權利要求1所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述波導陣列采用三維飛秒激光直寫系統在樣品上加工得到。
3.根據權利要求2所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述樣品為玻璃基板。
4.根據權利要求1所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述預設高定位精度要求為小于0.5um。
5.根據權利要求1所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述微透鏡陣列面向所述波導陣列的一側設置有抗反射涂層。
6.根據權利要求2所述的準直光纖陣列，其特征在于，所述三維飛秒激光直寫系統包括：飛秒激光器、第...
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