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    微小內孔的光學檢測方法以及裝置制造方法及圖紙

    技術編號:43736403 閱讀:25 留言:0更新日期:2024-12-20 12:59
    本發明專利技術公開了一種微小內孔的光學檢測方法以及裝置,觸發光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔;待檢測件具有微小內孔,微小內孔的孔徑為小于2mm。在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移,并采集光纖探頭因偏移而輸出光強變化量,從而基于光纖探頭的偏移而匹配對應的光強變化量,以便于針對各光強變化量以及對應的偏移方向進行運算,從而根據各光強變化量以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度,進而針對微小內孔的內側壁的粗糙度進行有效的探測,保證了微小內孔的內側壁的粗糙度的檢測進度。解決了無法針對微小內孔的內側壁檢測情況,提高了微小內孔的光學檢測方法的通用性。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及微小內孔的光學檢測的,尤其涉及一種微小內孔的光學檢測方法以及裝置。


    技術介紹

    1、近年來,燃油噴射嘴、化纖紡絲噴嘴、光纖鐵套、醫療設備等領域對微孔精度的測量方法需求日益增加。然而,針對待試驗件,由于工藝要求,待試驗件的微小內孔通常使用光學顯微鏡進行測量,然而,這種方法無法評估微小內孔的內側壁的粗糙度的技術問題。


    技術實現思路

    1、本專利技術的目的在于克服現有技術的不足,本專利技術提供了一種微小內孔的光學檢測方法以及裝置,定位待檢測件,并觸發光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔;在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移,并采集光纖探頭因偏移而輸出光強變化量,從而基于光纖探頭的偏移而匹配對應的光強變化量,以便于針對各光強變化量以及對應的偏移方向進行運算,從而根據各光強變化量以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度,進而針對微小內孔的內側壁的粗糙度進行有效的探測,保證了微小內孔的內側壁的粗糙度的檢測進度,解決了無法針對微小內孔的內側壁的檢測的情況,提高了微小內孔的光學檢測方法的通用性。

    2、為了解決上述技術問題,本專利技術實施例提供了一種微小內孔的光學檢測方法,應用于微小內孔的光學檢測場景;所述微小內孔的光學檢測方法包括:

    3、定位待檢測件,并觸發光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔;待檢測件具有微小內孔,微小內孔的孔徑為小于2mm;

    4、在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移,并采集光纖探頭因偏移而輸出光強變化量;

    5、根據各光強變化量以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度。

    6、可選的,所述定位待檢測件,并觸發光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔,包括:

    7、采集壓電微動平臺所在的位置坐標;

    8、基于壓電微動平臺所在的位置坐標調控待檢測件的位置,使得待檢測件放置于壓電微動平臺;此時,基于壓電微動平臺所在的位置坐標匹配待檢測件的位置坐標;

    9、基于待檢測件的位置坐標定位待檢測件,并定義待檢測件的微小內孔的位置坐標;

    10、基于待檢測件的微小內孔的位置坐標觸發光纖探頭的移動,直至光纖探頭沿微小內孔的軸線方向進入至待檢測件的微小內孔。

    11、可選的,所述光纖探頭包括光纖主體和探頭部,所述光纖主體和所述探頭部相互連接,并沿光纖探頭的軸線方向豎直布置;

    12、此時,基于所述探頭部接觸待檢測件的微小內孔的內側壁;所述光纖主體接收經激光二極管輸出的激光,并將對應的激光信號傳導至對應的光電二極管。

    13、可選的,光纖主體通過酸蝕工藝進行制造,在光纖主體的制造過程中,首先,去除階躍型多模光纖的塑料層,然后,將光纖浸入25%的氫氟酸溶液中,在27度下進行氫氟酸蝕刻,在氫氟酸蝕刻后,用水和丙酮沖洗光纖主體;

    14、或者,探頭部由熔融玻璃制成,首先,使用氫氧火焰熔化光纖尖端,使其形成球形,通過熔融時間獲得對應直徑的探頭部。

    15、可選的,所述在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移,并采集光纖探頭因偏移而輸出光強變化量,包括:

    16、在光纖探頭接觸待檢測件的微小內孔的內側壁時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移;

    17、采集同一方向的兩個光電二極管所檢測的光強度,此時,兩個光電二極管所檢測的光強度不一致;

    18、根據兩個光電二極管所檢測的光強度確定光強變化量,并根據兩個光電二極管所檢測的光強度的變化而定義光纖探頭的偏移方向。

    19、可選的,所述在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移,并采集光纖探頭因偏移而輸出光強變化量,還包括:

    20、在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭未接觸待檢測件的微小內孔的內側壁,同一方向的兩個光電二極管所檢測的光強度相一致。

    21、可選的,所述根據各光強變化量以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度,包括:

    22、定格各光強變化量;

    23、根據各光強變化量匹配對應的電壓信號。

    24、可選的,所述根據各光強變化量以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度,還包括:

    25、根據多個電壓信號構建電壓集合;

    26、基于電壓集合以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度。

    27、可選的,一種微小內孔的光學檢測裝置,所述微小內孔的光學檢測裝置應用于上述的微小內孔的光學檢測方法,所述微小內孔的光學檢測裝置包括:

    28、觸發模塊,用于定位待檢測件,并觸發光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔;

    29、光強變化量模塊,用于在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移,并采集光纖探頭因偏移而輸出光強變化量;

    30、粗糙度模塊,用于根據各光強變化量以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度。

    31、在本專利技術實施例中,通過本專利技術實施例中的方法,定位待檢測件,并觸發光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔。在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移,并采集光纖探頭因偏移而輸出光強變化量,從而基于光纖探頭的偏移而匹配對應的光強變化量,以便于針對各光強變化量以及對應的偏移方向進行運算。根據各光強變化量以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度,進而針對微小內孔的內側壁的粗糙度進行有效的探測,保證了微小內孔的內側壁的粗糙度的檢測進度。解決了無法針對微小內孔的內側壁的檢測的情況,提高了微小內孔的光學檢測方法的通用性。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,應用于微小內孔的光學檢測場景;所述微小內孔的光學檢測方法包括:

    2.根據權利要求1所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,所述定位待檢測件,并觸發光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔,包括:

    3.根據權利要求2所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,所述光纖探頭包括光纖主體和探頭部,所述光纖主體和所述探頭部相互連接,并沿光纖探頭的軸線方向豎直布置;

    4.根據權利要求3所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,光纖主體通過酸蝕工藝進行制造,在光纖主體的制造過程中,首先,去除階躍型多模光纖的塑料層,然后,將光纖浸入25%的氫氟酸溶液中,在27度下進行氫氟酸蝕刻,在氫氟酸蝕刻后,用水和丙酮沖洗光纖主體;

    5.根據權利要求4所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,所述在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移,并采集光纖探頭因偏移而輸出光強變化量,包括:

    6.根據權利要求5所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,所述在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移,并采集光纖探頭因偏移而輸出光強變化量,還包括:

    7.根據權利要求1所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,所述根據各光強變化量以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度,包括:

    8.根據權利要求7所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,所述根據各光強變化量以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度,還包括:

    9.根據權利要求8所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,所述基于電壓集合以及對應的偏移方向確定微小內孔的內側壁的粗糙度,還包括:

    10.一種微小內孔的光學檢測裝置,其特征在于,所述微小內孔的光學檢測裝置應用于如權利要求1-9中任一所述的微小內孔的光學檢測方法,所述微小內孔的光學檢測裝置包括:

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    【技術特征摘要】

    1.一種微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,應用于微小內孔的光學檢測場景;所述微小內孔的光學檢測方法包括:

    2.根據權利要求1所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,所述定位待檢測件,并觸發光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔,包括:

    3.根據權利要求2所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,所述光纖探頭包括光纖主體和探頭部,所述光纖主體和所述探頭部相互連接,并沿光纖探頭的軸線方向豎直布置;

    4.根據權利要求3所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,光纖主體通過酸蝕工藝進行制造,在光纖主體的制造過程中,首先,去除階躍型多模光纖的塑料層,然后,將光纖浸入25%的氫氟酸溶液中,在27度下進行氫氟酸蝕刻,在氫氟酸蝕刻后,用水和丙酮沖洗光纖主體;

    5.根據權利要求4所述的微小內孔的光學檢測方法,其特征在于,所述在光纖探頭進入至待檢測件的微小內孔時,光纖探頭基于待檢測件的微小內孔的內側壁而產生偏移,并采集光纖探頭...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:易新華程曉民,
    申請(專利權)人:寧波工程學院
    類型:發明
    國別省市:

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