【技術實現步驟摘要】
本技術涉及半導體襯底，具體涉及一種半導體顯示襯底的化學清洗設備。
技術介紹
1、半導體顯示襯底在生產制造過程中需要經過多道清洗工序，例如化學清洗、超聲波清洗以及超高壓水洗等。化學清洗是將半導體顯示襯底浸泡在化學試劑一段時間，以達到清除半導體顯示襯底表面的污垢的清洗方法。但是現有的對于半導體顯示襯底的化學清洗技術，通常是將多個半導體顯示襯底堆疊起來，并在相鄰的兩個半導體顯示襯底之間墊上襯墊以便于化學試劑與半導體襯底接觸。
2、利用這種方式清洗半導體顯示襯底，清洗時，不僅需要將半導體顯示襯底，一個一個地在清洗槽中堆疊起來，還需要在相鄰的兩個半導體顯示襯底之間墊上襯墊。而清洗完成后，又需要將半導體顯示襯底和襯墊一個一個地從清洗槽中取出，費時費力，最終導致清洗效率較低。
技術實現思路
1、本技術的目的在于針對現有技術的缺陷和不足，提供一種半導體顯示襯底的化學清洗設備。
2、本技術所述的一種半導體顯示襯底的化學清洗設備，它包括用于浸泡和清洗半導體顯示襯底的清洗箱組件，所述清洗箱組件的一側下方連接有上下移動組件，上下移動組件中底座的上方連接有頂推組件；所述上下移動組件通過連接桿與夾持組件相連；所述夾持組件中u形框的內部設置有支撐組件，支撐組件的一端與清洗箱組件中清洗箱的內壁相連。
3、進一步地，所述清洗箱組件包括清洗箱，所述清洗箱的上方一側連接有支撐板，支撐板的中間位置設置有濾網；所述清洗箱的一側從上至下依次設置有一個進水口和出水口。
4、進一步
5、進一步地，所述頂推組件包括連接在底座上方的連接柱，所述連接柱的側邊設置有第二電動伸縮桿，第二電動伸縮桿與連接柱相對一端連接有頂板。
6、進一步地，所述夾持組件包括連接在連接桿下方的u形框，u形框的開口端與主板相連，所述u形框的中間位置開設有方形孔，所述方形孔內設置有一塊與其間隙滑動配合的第一活動板，第一活動板的外圍固定連接有與其垂直的第二活動板，第一活動板的一端連接有第三活動板，所述第一活動板與第三活動板相對的一端貫穿主板，與其間隙滑動配合；所述主板與u形框相對一側連接有兩排連接板，所述兩排連接板的相對面上設置有襯墊。
7、進一步地，所述支撐組件包括一端與清洗箱內壁相連的兩塊l形板。
8、采用上述結構后，本技術有益效果為：本技術所述的一種半導體顯示襯底的化學清洗設備，它采用清洗箱組件、上下移動組件、頂推組件、夾持組件和支撐組件的組合安裝，使得該半導體顯示襯底的化學清洗設備無需將半導體顯示襯底堆疊在清洗槽中，且襯底在清洗完成后方便取出，提高了清洗效率。
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1.一種半導體顯示襯底的化學清洗設備，其特征在于：它包括用于浸泡和清洗半導體顯示襯底的清洗箱組件，所述清洗箱組件的一側下方連接有上下移動組件，上下移動組件中底座(201)的上方連接有頂推組件；所述上下移動組件通過連接桿(203)與夾持組件相連；所述夾持組件中U形框(303)的內部設置有支撐組件，支撐組件的一端與清洗箱組件中清洗箱(101)的內壁相連。
2.根據權利要求1所述的一種半導體顯示襯底的化學清洗設備，其特征在于：所述清洗箱組件包括清洗箱(101)，所述清洗箱(101)的上方一側連接有支撐板(102)，支撐板(102)的中間位置設置有濾網(105)；所述清洗箱(101)的一側從上至下依次設置有一個進水口(103)和出水口(104)。
3.根據權利要求1所述的一種半導體顯示襯底的化學清洗設備，其特征在于：所述上下移動組件包括連接在清洗箱(101)側邊的底座(201)，底座(201)為空心結構，內部設置有電源，其上方連接有第一電動伸縮桿(202)，所述第一電動伸縮桿(202)的側邊連接有連接桿(203)，所述連接桿(203)為L形結構。
4.
5.根據權利要求1所述的一種半導體顯示襯底的化學清洗設備，其特征在于：所述夾持組件包括連接在連接桿(203)下方的U形框(303)，U形框(303)的開口端與主板(301)相連，所述U形框(303)的中間位置開設有方形孔，所述方形孔內設置有一塊與其間隙滑動配合的第一活動板(304)，第一活動板(304)的外圍固定連接有與其垂直的第二活動板(305)，第一活動板(304)的一端連接有第三活動板(306)，所述第一活動板(304)與第三活動板(306)相對的一端貫穿主板(301)，與其間隙滑動配合；所述主板(301)與U形框(303)相對一側連接有兩排連接板(302)，所述兩排連接板(302)的相對面上設置有襯墊(307)。
6.根據權利要求1所述的一種半導體顯示襯底的化學清洗設備，其特征在于：所述支撐組件包括一端與清洗箱(101)內壁相連的兩塊L形板(501)。
...【技術特征摘要】
1.一種半導體顯示襯底的化學清洗設備，其特征在于：它包括用于浸泡和清洗半導體顯示襯底的清洗箱組件，所述清洗箱組件的一側下方連接有上下移動組件，上下移動組件中底座(201)的上方連接有頂推組件；所述上下移動組件通過連接桿(203)與夾持組件相連；所述夾持組件中u形框(303)的內部設置有支撐組件，支撐組件的一端與清洗箱組件中清洗箱(101)的內壁相連。
2.根據權利要求1所述的一種半導體顯示襯底的化學清洗設備，其特征在于：所述清洗箱組件包括清洗箱(101)，所述清洗箱(101)的上方一側連接有支撐板(102)，支撐板(102)的中間位置設置有濾網(105)；所述清洗箱(101)的一側從上至下依次設置有一個進水口(103)和出水口(104)。
3.根據權利要求1所述的一種半導體顯示襯底的化學清洗設備，其特征在于：所述上下移動組件包括連接在清洗箱(101)側邊的底座(201)，底座(201)為空心結構，內部設置有電源，其上方連接有第一電動伸縮桿(202)，所述第一電動伸縮桿(202)的側邊連接有連接桿(203)，所述連接桿(203)為l形結構。
4.根據權利要求1所述的一種半導體...
【專利技術屬性】
技術研發人員：武斌，盛偉，姜月，
申請(專利權)人：亞賽無錫半導體科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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