【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本申請(qǐng)屬于顯示面板檢測(cè)，尤其涉及一種檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法以及檢測(cè)設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、目前，隨著技術(shù)的發(fā)展，由于oled具有更輕薄、亮度高、功耗低、響應(yīng)快、清晰度高、柔性好、發(fā)光效率高等優(yōu)點(diǎn)，用于高端顯示設(shè)備，同時(shí)對(duì)oled的質(zhì)量要求較高，為提高oled顯示設(shè)備的質(zhì)量和生產(chǎn)的良率，因此，在生產(chǎn)過程中就需要對(duì)oled的基板進(jìn)行缺陷檢測(cè)，以保證產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)良率。然而，由于oled的尺寸較大，故如何提高oled基板的檢測(cè)速度和檢測(cè)準(zhǔn)確性是現(xiàn)在亟待解決的一個(gè)問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法以及檢測(cè)設(shè)備，其旨在解決現(xiàn)有的對(duì)顯示基板的檢測(cè)準(zhǔn)確性較低的問題。
2、本專利技術(shù)提出一種檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法，所述檢測(cè)設(shè)備包括機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊，所述檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法包括以下步驟：
3、使用所述機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行粗對(duì)準(zhǔn)，所述待測(cè)物表面具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，使所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記位于所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊的視場(chǎng)中；
4、所述粗對(duì)準(zhǔn)之后，使用所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行精對(duì)準(zhǔn)，使所述待測(cè)物處于預(yù)定位置。
5、可選地，所述檢測(cè)設(shè)備包括承載臺(tái)，包括承載區(qū)，用于承載待測(cè)物；所述機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊包括設(shè)置于所述承載區(qū)外圍的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)滾柱；
6、所述使用所述機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行粗對(duì)準(zhǔn)，使所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記位于所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊的視場(chǎng)中包括以下分步驟：
7、使所述對(duì)準(zhǔn)滾柱朝向所述待測(cè)物運(yùn)動(dòng)，直至運(yùn)
8、可選地，所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊包括至少一個(gè)光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭，所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組包括至少兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)，所述粗對(duì)準(zhǔn)之后，使用所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行精對(duì)準(zhǔn)，使所述待測(cè)物處于預(yù)定位置包括以下分步驟：
9、通過所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行拍攝，獲取所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)圖像；
10、根據(jù)所述對(duì)準(zhǔn)圖像獲取所述標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息；
11、根據(jù)至少兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息，獲取所述待測(cè)物的位置偏差；
12、根據(jù)所述位置偏差對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行調(diào)整，使所述待測(cè)物處于預(yù)定位置。
13、可選地，所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭的個(gè)數(shù)為多個(gè)，多個(gè)光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭包括第一光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭和第二光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭；所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組包括第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；
14、根據(jù)所述對(duì)準(zhǔn)圖像獲取標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息包括：根據(jù)所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)圖像獲取第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中心的第一位置信息；根據(jù)所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)圖像獲取第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記中心的第二位置信息；
15、所述位置偏差包括所述待測(cè)物的平移偏移量和旋轉(zhuǎn)偏移量中的一者或兩者組合；根據(jù)至少兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息，獲取所述待測(cè)物的位置偏差包括：根
16、據(jù)所述第一位置信息與第一光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭視場(chǎng)中心之間的偏移，獲取所述待測(cè)物的平移偏移量；和/或，根據(jù)所述第一位置信息和所述第二位置信息獲取所述待測(cè)物的旋轉(zhuǎn)偏移量。
17、可選地，根據(jù)所述位置偏差對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行調(diào)整，使所述待測(cè)物處于預(yù)定位置的步驟包括：
18、根據(jù)所述待測(cè)物的位置偏差獲取需調(diào)整量；
19、對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行調(diào)整，直至所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭的視場(chǎng)中心與對(duì)應(yīng)的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的中心重合。
20、本專利技術(shù)還提出一種檢測(cè)設(shè)備，所述檢測(cè)設(shè)備包括：
21、機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊；
22、所述機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊被配置為對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行粗對(duì)準(zhǔn)，所述待測(cè)物表面具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，使所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記位于所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊的視場(chǎng)中；
23、所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊被配置為所述粗對(duì)準(zhǔn)之后，使用所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行精對(duì)準(zhǔn)，使所述待測(cè)物處于預(yù)定位置。
24、可選地，包括承載臺(tái)，包括承載區(qū)，用于承載待測(cè)物；所述機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊包括設(shè)置于所述承載區(qū)外圍的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)滾柱；驅(qū)動(dòng)裝置，用于驅(qū)動(dòng)所述對(duì)準(zhǔn)滾柱朝向所述承載區(qū)移動(dòng)。
25、可選地，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組包括第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭的個(gè)數(shù)為多個(gè)，多個(gè)對(duì)準(zhǔn)探頭包括第一光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭和第二光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭，所述第一光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭用于拍攝所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的圖像，所述第二光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭用于拍攝所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的圖像。
26、在本申請(qǐng)的技術(shù)方案的有益效果如下：由于本申請(qǐng)的檢測(cè)設(shè)備設(shè)有機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊，故在基板進(jìn)行檢測(cè)之前，可以通過機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊及承載臺(tái)來調(diào)整好基板的方向，使得基板的長(zhǎng)邊方向與承載臺(tái)的運(yùn)動(dòng)方向一致，即均為第一方向，從而能夠減少全檢模塊的漏檢，有效提高檢測(cè)
27、的準(zhǔn)確性。
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1.一種檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，所述檢測(cè)設(shè)備包括機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊，所述檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法包括以下步驟：
2.如權(quán)利要求1所述的檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，所述檢測(cè)設(shè)備包括承載臺(tái)，包括承載區(qū)，用于承載待測(cè)物；所述機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊包括設(shè)置于所述承載區(qū)外圍的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)滾柱；
3.如權(quán)利要求1所述的檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭的個(gè)數(shù)為多個(gè)，多個(gè)光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭包括第一光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭和第二光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭；所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組包括第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；
4.一種檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，包括：機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊；
5.如權(quán)利要求4所述的檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊包括至少一個(gè)光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭，設(shè)置對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組且包括至少兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)；所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊具體被配置為：
6.如權(quán)利要求5所述的檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述根據(jù)所述位置偏差對(duì)所述待測(cè)物進(jìn)行調(diào)整，使所述待測(cè)物處于預(yù)定位置，包括：
7.如權(quán)利要求4所述的檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，包括承載臺(tái)，包括承載區(qū)，用于承載待測(cè)物；所述機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊包括設(shè)置
8.如權(quán)利要求4所述的檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，設(shè)置對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組包括兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)且分別記為第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭的個(gè)數(shù)為多個(gè)，多個(gè)對(duì)準(zhǔn)探頭包括第一光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭和第二光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭，所述第一光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭用于拍攝所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的圖像，所述第二光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭用于拍攝所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的圖像。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，所述檢測(cè)設(shè)備包括機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊，所述檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法包括以下步驟：
2.如權(quán)利要求1所述的檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，所述檢測(cè)設(shè)備包括承載臺(tái)，包括承載區(qū)，用于承載待測(cè)物；所述機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊包括設(shè)置于所述承載區(qū)外圍的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)滾柱；
3.如權(quán)利要求1所述的檢測(cè)設(shè)備的對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭的個(gè)數(shù)為多個(gè)，多個(gè)光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭包括第一光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭和第二光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭；所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組包括第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；
4.一種檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，包括：機(jī)械對(duì)準(zhǔn)模塊和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊；
5.如權(quán)利要求4所述的檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)模塊包括至少一個(gè)光學(xué)對(duì)準(zhǔn)探頭，設(shè)置對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組且包括...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：陳魯，黃有為，王天民，龐芝亮，崔高增，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：深圳中科飛測(cè)科技股份有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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