【技術實現步驟摘要】
本申請涉及半導體清洗，涉及一種半導體清洗系統，尤其涉及一種半導體供液裝置及半導體清洗系統。
技術介紹
1、在半導體生產過程中，為了最大限度降低雜質對芯片良率的影響，半導體晶圓的清洗十分重要。濕法清洗是利用各種溶液通過腐蝕、溶解、化學反應等方法，消除雜質或使其脫落。目前市場以濕法清洗為主，其中單片和槽式清洗設備是目前主流的清洗設備。而單片清洗由于清洗更加徹底，正逐漸取代槽式清洗，成為清洗設備的主流。
2、目前，市面上大多單片清洗設備的供液系統都是將藥液配比后進入儲存槽，再供液到腔體中。但由于清洗過程中，對于不同污染物類型，需要相應改變清洗液，而現有的供液系統只能提供溶液配比固定的單一溶液，不能靈活地更改溶液配比，難以滿足市場實際需求。且現有的供液系統占用空間大，使得目前的清洗設備生產成本較高，不利于半導體晶圓清洗的實際應用。
3、因此，如何減小半導體清洗設備的體積并能實時改變溶液配比，是本領域技術人員亟待解決的。
技術實現思路
1、鑒于以上所述現有技術的缺點，本申請的目的在于提供一種半導體供液裝置及半導體清洗系統，用于解決半導體供液設備占用空間大，且只能提供單一清洗液的問題。
2、為實現上述目的及其他相關目的，第一方面，本申請提供一種半導體供液裝置，包括至少一套供液設備以及與所有所述供液設備連接的混液設備；
3、所述供液設備包括通過管路依次連接的供液進液端口、緩沖器、輸送泵、供液出液端口；
4、所述混液設備包括通過管路依次連
5、其中，所述混合閥進行可實時溶液混合，不需要儲存槽儲液，極大減小了半導體供液裝置的體積，有效地提高了空間利用率，從而降低了生產成本，所述第一流量控制器能夠精確控制進入所述混合閥的溶液量，以使得溶液配比更加精確，實現更高的清洗要求。同時，多個所述供液設備可提供多種不同溶液，通過不同混液進液端口進入混液設備，實現靈活多變的清洗液配比，以滿足不同的清洗需求。
6、優選地，所述供液設備還包括第一過濾器和第二過濾器；
7、所述第一過濾器設置于所述供液進液端口和所述緩沖器之間的管路上，所述第二過濾器設置于所述輸送泵和所述供液出液端口之間的管路上。
8、所述第一過濾器和所述第二過濾器，用于過濾溶液，以得到更潔凈的溶液，滿足更高的清洗要求。
9、優選地，所述供液設備還包括：依次設置于所述供液進液端口與所述第一過濾器之間的管路上的第一手動閥和第一氣動閥。
10、所述第一手動閥和所述第一氣動閥，用于控制溶液進入所述供液設備。
11、優選地，所述供液設備還包括供液流量計，設置于于所述第二過濾器和所述供液出液端口之間的管路上。
12、所述供液流量計，用于精確測量所述供液設備輸出的溶液量。溶液通過所述供液系統進入混液系統進行混合，所述供液流量計能夠獲得精確的溶液量，以精確控制溶液配比。
13、優選地，所述供液設備還包括供液進水端口；所述供液進水端口通過管路與所述緩沖器相連接。
14、所述供液進水端口，用于輸送純水進入供液設備，以使得純水能夠進入所述供液設備進行清洗，避免了每次溶液配比后殘留在管道內的液體對溶液配比精度造成的影響。
15、優選地，所述供液設備還包括：依次設置于所述供液進水端口與所述緩沖器之間的管路上的第二手動閥和第二氣動閥，用于控制純水進入所述供液設備。
16、優選地，所述供液設備還包括設置于緩沖器中的液位傳感器，用于檢測所述緩沖器內接收的溶液量是否達到需要的液位。
17、優選地，所述混液設備還包括第二流量控制器，所述第二流量控制器設置于所述混合閥和所述混液出液端口之間的管路上，用于控制輸出所述混液設備的溶液量，以精確控制清洗晶圓的清洗液多少，節約成本。
18、優選地，所述第一流量控制器包括第一流量計和第一針閥；所述第二流量控制器包括第二流量計和第二針閥。
19、所述第一第二流量計，用于精確測量通過的溶液量；所述第一第二針閥，用于控制溶液的輸送，是一種微調閥，當所述第一第二針閥關閉時，溶液停止輸送，當所述第一第二針閥開啟時，溶液持續輸送。通過流量計和針閥的配合使用，即可以實現溶液流量的精準控制。
20、第二方面，本申請還提供一種半導體清洗系統，包括：
21、通過管道相連的半導體供液裝置和清洗腔；
22、其中，所述半導體供液裝置為前述的半導體供液裝置。
23、所述半導體供液裝置，用于將溶液輸送至所述清洗腔；所述清洗腔，用于存放所述半導體供液裝置提供的清洗液和需要清洗的晶圓，并實現半導體晶圓的清洗。
24、如上所述，本申請提供一種半導體供液裝置及半導體清洗系統，通過所述混合閥進行實時溶液混合，不需要儲存槽儲液，極大減小了半導體供液裝置的體積，有效地提高了空間利用率，降低了半導體清洗系統所需空間，從而降低了生產成本。同時，通過所述第一流量控制器精準控制溶液流量大小，有效地提高了溶液的精度，達到更高的清洗要求，同時，通過所述第一氣動閥和所述第一手動閥以及所述輸送泵控制各供液單元是否供液，進一步控制清洗液的成分，通過調節所述第一流量控制器，改變各溶液比例，實現了清洗溶液的靈活更改，能夠實現不同的清洗需求。本申請能夠減小半導體清洗系統所占空間，并提供配比精確的多種清洗液，實現更好的晶圓清洗效果，有利于半導體清洗系統的實際應用。
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1.一種半導體供液裝置，其特征在于，包括至少一套供液設備以及與所有所述供液設備連接的混液設備；
2.根據權利要求1所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述供液設備還包括第一過濾器和第二過濾器；
3.根據權利要求2所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述供液設備還包括：依次設置于所述供液進液端口與所述第一過濾器之間的管路上的第一手動閥和第一氣動閥。
4.根據權利要求2所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述供液設備還包括供液流量計，設置于所述第二過濾器和所述供液出液端口之間管路上。
5.根據權利要求1所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述供液設備還包括供液進水端口；所述供液進水端口通過管路與所述緩沖器相連接。
6.根據權利要求5所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述供液設備還包括：依次設置于所述供液進水端口與所述緩沖器之間的管路上的第二手動閥和第二氣動閥。
7.根據權利要求1所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述供液設備還包括設置于緩沖器中的液位傳感器。
8.根據權利要求1所述的半導體供液裝置，其特征在于
9.根據權利要求8所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述第一流量控制器包括第一流量計和第一針閥；所述第二流量控制器包括第二流量計和第二針閥。
10.一種半導體清洗系統，其特征在于，包括：
...【技術特征摘要】
1.一種半導體供液裝置，其特征在于，包括至少一套供液設備以及與所有所述供液設備連接的混液設備；
2.根據權利要求1所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述供液設備還包括第一過濾器和第二過濾器；
3.根據權利要求2所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述供液設備還包括：依次設置于所述供液進液端口與所述第一過濾器之間的管路上的第一手動閥和第一氣動閥。
4.根據權利要求2所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述供液設備還包括供液流量計，設置于所述第二過濾器和所述供液出液端口之間管路上。
5.根據權利要求1所述的半導體供液裝置，其特征在于，所述供液設備還包括供液進水端口；所述供液進水端口通過管路與所述緩沖器相連接...
【專利技術屬性】
技術研發人員：周玉云，馮安，
申請(專利權)人：上海普達特半導體設備有限公司，
類型：新型
國別省市：
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