【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及集成電路制造領域，尤其涉及一種用于研磨機臺的過濾裝置及機臺。
技術介紹
1、ipec?776wcmp機臺的單個研磨頭工作原理是上行電機頭通過鍵連接帶動中間軸轉動，中間軸再通過鍵連接帶動晶片頭進行逆時針轉動，轉速為22轉/分鐘，下行電機頭通過皮帶連接帶動拋光喇叭口進行順時針轉動，轉速為370轉/分鐘。
2、晶圓夾在晶片頭和拋光喇叭口之間，晶面朝下，上下各施加一個壓力，上部施加的壓力為4.9psi，下部施加的壓力為5psi，頂起晶圓，并通過管路留出研磨液，以達到鎢金屬平坦化的目的。
3、機臺的上半部分施加壓力時，需要連接一根氣管，為了確保氣管不跟著中間軸一起轉動，原廠在軸上方設置有旋轉接頭，旋轉接頭內部有軸承，可以通過自轉，從而達到氣管不跟轉的目的。
4、但是，長期使用后，內部的軸承會發生磨損，會吹落一些金屬微粒至氣路中，產生研磨刮傷原料。
5、因此設計一款能夠過濾可能產生的微粒的過濾器就成為了急需解決的問題。
6、有鑒于此，應當對現有技術進行改進，以解決現有技術中存在的上述技術問題。
技術實現思路
1、本專利技術的主要目的在于提供一種用于研磨機臺的過濾裝置及機臺，通過在原有機臺的基礎上，加裝了過濾器，過濾器通過螺紋連接，內部設置有密封圈，這樣進行改進后，過濾器能攔截很大一部分晶渣，降低機臺異常率，提升異常處理效率，也不會造成晶圓的大面積報廢。
2、根據本專利技術的一個方面，提出一種用于研磨機臺的過濾
3、根據本專利技術的一個實施例，所述上座和下座通過螺紋固定連接。
4、根據本專利技術的一個實施例，所述上座和下座為同軸設置的筒體結構。
5、根據本專利技術的一個實施例，所述上座和下座為不銹鋼材質。
6、根據本專利技術的一個實施例，所述濾芯為合成纖維過濾棉，原材料是聚酯纖維。
7、根據本專利技術的一個實施例，所述過濾器中能通過的金屬微粒的最大直徑為50μm。
8、根據本專利技術的一個實施例，所述上座和下座的連接處設置有密封圈。
9、根據本專利技術的另一個方面，提出一種研磨機臺，其包括上述技術方案任一項所述的用于研磨機臺的過濾裝置。
10、根據本專利技術的一個實施例，所述過濾裝置的上座與研磨頭的旋轉接頭固定連接，所述過濾裝置的下座與研磨頭的旋轉軸固定連接。
11、在根據本專利技術的實施例的一種用于研磨機臺的過濾裝置及研磨機臺中，在機臺上的研磨頭上加裝過濾器，過濾器通過螺紋連接，內部設置有密封圈，這樣進行改進后，過濾器能攔截很大一部分晶渣，降低機臺異常率，提升異常處理效率，也不會造成晶圓的大面積報廢，從而降低成本，使得效益更為可觀。
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1.一種用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，包括：上座和下座，所述上座和下座固定連接，所述上座和下座的連接處設置有過濾器，過濾器內部設置有可替換濾芯。
2.根據權利要求1所述的用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，所述上座和下座通過螺紋固定連接。
3.根據權利要求1所述的用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，所述上座和下座為同軸設置的筒體結構。
4.根據權利要求1所述的用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，所述上座和下座為不銹鋼材質。
5.根據權利要求1所述的用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，所述濾芯為合成纖維過濾棉，原材料是聚酯纖維。
6.根據權利要求1所述的用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，所述過濾器中能通過的金屬微粒的最大直徑為50μm。
7.根據權利要求1所述的用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，所述上座和下座的連接處設置有密封圈。
8.一種研磨機臺，其特征在于，所述研磨機臺在研磨頭上加裝權利要求1-7任一項所述的過濾裝置。
9.根據權利要求8所述的研磨機臺，其特征在于，所述過濾
...【技術特征摘要】
1.一種用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，包括：上座和下座，所述上座和下座固定連接，所述上座和下座的連接處設置有過濾器，過濾器內部設置有可替換濾芯。
2.根據權利要求1所述的用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，所述上座和下座通過螺紋固定連接。
3.根據權利要求1所述的用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，所述上座和下座為同軸設置的筒體結構。
4.根據權利要求1所述的用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在于，所述上座和下座為不銹鋼材質。
5.根據權利要求1所述的用于研磨機臺的過濾裝置，其特征在...
【專利技術屬性】
技術研發人員：翟文龍，
申請(專利權)人：和艦芯片制造蘇州股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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