【技術實現步驟摘要】
本技術屬于實驗配套設備，特別涉及一種水浴鍋。
技術介紹
1、水浴是一種常用于實驗室的加熱技術，它利用水作為熱傳導介質，以實現對樣品或反應物的溫和、均勻加熱。由于水的比熱容較高，它可以在較寬的溫度范圍內提供穩定的溫度環境，通常不超過水的沸點。水浴的主要優點包括溫度控制精度高、加熱過程溫和且均勻，以及操作簡便安全。
2、水浴鍋是實現水浴加熱的設備，它配備有加熱元件和控制系統，可以根據需要調節水溫。現代水浴鍋通常具備數字顯示屏和自動控溫功能，能夠精確地維持設定的溫度。一些高級的水浴鍋還具有可編程溫度曲線、磁力攪拌和多個加熱孔等功能，以滿足不同實驗的需求。
3、但是，大多數水浴鍋都是采用托盤來支撐水浴容器，但是如果水的浮力大于水浴容器整體的重力，那么水浴容器在水浴鍋中不穩定，在水加熱產生的熱浪涌現象下，會發生漂浮移動，并且使用托盤支撐容器在水浴中會影響溫度的傳遞，因為托盤本身可以起到一定的隔熱作用，減緩容器與水直接接觸時的熱量交換速度，這會導致容器內部物質加熱的時間稍微延長，并且會導致水浴容器與托盤接觸的位置和與水接觸的位置溫度不一致，從而影響實驗的精確性。
技術實現思路
1、針對上述存在的問題，本技術的目的是提供一種水浴鍋，通過夾持固定的方式將水浴容器固定在水浴槽內，既能避免托盤等影響水浴熱傳遞效果，又能夠通過夾持組件帶動水浴容器晃動震蕩，并且還能夠避免熱量傳遞至水浴容器上部，造成操作人員燙傷。
2、本技術的技術方案是：一種水浴鍋，包括：
4、加熱循環組件，設置在所述水浴槽側面，所述加熱循環組件用于向所述水浴槽內循環供給熱水；
5、蓋板，活動扣接在所述水浴槽上端面，所述蓋板上設有多個水浴孔；
6、夾持組件，每個所述水浴孔內側設有一個夾持組件，所述夾持組件包括三個等距設置在所述水浴孔內側下端邊緣的電動轉軸、固定設置在所述電動轉軸上的伸縮桿和鉸接在所述伸縮桿遠端的夾持弧板；
7、循環冷卻組件，包括設置在所述水浴槽外側的冷卻循環泵和設置在所述夾持弧板內部的冷卻夾層，所述冷卻循環泵與所述冷卻夾層之間通過冷卻管道連接，所述冷卻管道中段盤設在所述蓋板內部；
8、控制組件，設置在所述水浴槽外側，所述控制組件分別與所述加熱循環組件、電動轉軸、伸縮桿、冷卻循環泵控制連接。
9、進一步地，所述水浴槽包括：
10、分隔板，活動插接在所述水浴槽內部，所述分隔板用于將所述水浴槽內部分隔成多個水浴區，每個所述水浴區對應一個所述水浴孔，每個所述水浴區至少有一個面與水浴槽側面相鄰；
11、多個進水管，分別設置在所述水浴槽側面，多個所述進水管分別與多個所述水浴區一一對應連通；
12、多個出水管，分別設置在所述水浴槽側面，多個所述出水管分別與多個所述水浴區一一對應連通；
13、多個液位傳感器，每個所述水浴區與水浴槽相鄰的一面設有一個所述液位傳感器，所述液位傳感器分別與所述控制組件控制連接；
14、泄水閥，設置在所述水浴槽側面，所述泄水閥用于將水浴槽內水排出。
15、進一步地，所述加熱循環組件包括：
16、加熱槽，設置在所述水浴槽側面，所述加熱槽內部設有加熱件，所述加熱件用于加熱加熱槽內的水；
17、供水組件，分別與所述加熱槽、冷卻循環泵連接，用于向加熱槽和冷卻管道內供給冷水；
18、中轉槽，設置在所述加熱槽一側，所述中轉槽與加熱槽通過第一電磁閥連通；
19、供水泵，設置在所述中轉槽內，所述供水泵輸出端與所述進水管分別連接，每個進水管與供水泵之間設有第二電磁閥；
20、熱水循環泵，設置在所述加熱槽一側，所述熱水循環泵分別與加熱槽和多個所述出水管連接，用于將水浴槽內的水泵至加熱槽內。
21、進一步地，每個所述水浴孔下端一側均設有一個溫度監測探針，所述溫度監測探針分別與所述控制組件連接。
22、進一步地，每個所述水浴區底部設有攪拌組件，所述攪拌組件包括：
23、電磁組件，設置在所述水浴區下方；
24、磁力棒，活動吸附在所述水浴區內底部，所述電磁組件通電后帶動所述磁力棒旋轉對水浴區內的水進行攪拌。
25、進一步地，所述控制組件包括：
26、控制箱，設置在所述水浴槽側面，所述控制箱內集成設有控制器；
27、觸摸控制屏，設置在所述控制箱表面，所述觸摸控制屏與所述控制器連接，用于設置加熱時間、加熱溫度、液位高低的參數。
28、進一步地，所述夾持弧板包括：
29、載板，其側面與所述伸縮桿遠端鉸接；
30、防滑墊，固定設置在所述載板的另一側面，且所述冷卻夾層設置在所述防滑墊與載板之間。
31、進一步地，每個所述水浴孔上設有一組組合式密封蓋，所述組合式密封蓋包括多個不同直徑的密封圈，多個所述密封圈用于拼接成所述組合式密封蓋。
32、本技術的工作原理：
33、單區單溫：取下組合式密封蓋，將水浴容器經水浴孔放入水浴槽內，通過觸摸控制屏控制夾持組件的電動轉軸旋轉，同時伸縮桿伸縮，使夾持弧板夾持在水浴容器外側，然后將密封圈按照從大到小的順序套設在水浴容器上，直至將水浴容器與水浴孔之間密封，然后通過觸摸控制屏設置水浴溫度和時間，供水組件向加熱槽內加水，加熱件將水加熱至設定溫度后經第一電磁閥進入中轉槽內，然后由供水泵經第二電磁閥和進水管將熱水泵入水浴槽內，對水浴容器進行水浴，在水浴過程中，由熱水循環泵經出水管將水浴槽內的熱水抽至加熱槽內重新加熱至設定溫度，由溫度監測探針實時監測水浴槽內水溫，保證水溫在設定范圍內，并且在熱水循環過程中液位傳感器實時監測液位高度，保證液位高度在設定范圍內，并且在水浴過程中，供水組件持續向冷卻循環泵提供冷水，冷水在冷卻管道和冷卻夾層中循環，對蓋板進行冷卻，以及阻斷熱量傳遞至水浴容器上部，避免人員在取用水浴容器時燙傷；
34、多區多溫：取下蓋板，將分隔板插入水浴槽，隔出多個水浴區，在每個水浴區放入不同的水浴容器，然后分別設置每個水浴區的溫度、液位和時間，由加熱槽分別將水加熱至不同溫度后導入中轉槽，然后由供水泵經不同的第二電磁閥和進水管將對應溫度的熱水分別泵入水浴區內，熱水循環步驟與單區單溫模式下相同；
35、上述兩種模式下都能夠對水浴容器進行震蕩操作，通過控制電動轉軸相應旋轉和伸縮桿對應伸縮，即可在夾持固定水浴容器的前提下，使水浴容器晃動震蕩。
36、與現有技術相比，本技術的有益效果在于：本技術提供的一種水浴鍋，將加熱槽設置在水浴槽側面，由加熱槽將水浴用水加熱后再送入水浴槽內，與傳統直接在水浴槽內加水再進行加熱相比，避免了某些在低溫下能發生反應的物質水浴效果變差，并且在蓋板上的多個水浴孔下方設置夾持組件，能夠將水浴容器夾持固定，使水浴容器底部整體與熱水接觸，無其它多余的熱量傳遞介質，增強本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種水浴鍋，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的一種水浴鍋，其特征在于，所述水浴槽(1)包括：
3.如權利要求2所述的一種水浴鍋，其特征在于，所述加熱循環組件(2)包括：
4.如權利要求1所述的一種水浴鍋，其特征在于，每個所述水浴孔(31)下端一側均設有一個溫度監測探針(7)，所述溫度監測探針(7)分別與所述控制組件(6)連接。
5.如權利要求2所述的一種水浴鍋，其特征在于，每個所述水浴區(12)底部設有攪拌組件(8)，所述攪拌組件(8)包括：
6.如權利要求1所述的一種水浴鍋，其特征在于，所述控制組件(6)包括：
7.如權利要求1所述的一種水浴鍋，其特征在于，所述夾持弧板(43)包括：
8.如權利要求1所述的一種水浴鍋，其特征在于，每個所述水浴孔(31)上設有一組組合式密封蓋(32)，所述組合式密封蓋(32)包括多個不同直徑的密封圈(321)，多個所述密封圈(321)用于拼接成所述組合式密封蓋(32)。
【技術特征摘要】
1.一種水浴鍋，其特征在于，包括：
2.如權利要求1所述的一種水浴鍋，其特征在于，所述水浴槽(1)包括：
3.如權利要求2所述的一種水浴鍋，其特征在于，所述加熱循環組件(2)包括：
4.如權利要求1所述的一種水浴鍋，其特征在于，每個所述水浴孔(31)下端一側均設有一個溫度監測探針(7)，所述溫度監測探針(7)分別與所述控制組件(6)連接。
5.如權利要求2所述的一種水浴鍋，其特征在于，每個所述水浴區(12...
【專利技術屬性】
技術研發人員：崔媛媛，武宏斌，院江，呂剛，郭學義，孫倩，劉雪梅，寇茜茜，孫雪梅，
申請(專利權)人：新疆泰昆集團有限責任公司，
類型：新型
國別省市：
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