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    一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽制造技術(shù)

    技術(shù)編號:43839518 閱讀:6 留言:0更新日期:2024-12-31 18:35
    本技術(shù)公開了一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,涉及電解槽技術(shù)領(lǐng)域,包括電解池,所述電解池的內(nèi)部前后兩側(cè)均固定連接有安裝槽,兩組所述安裝槽內(nèi)部設(shè)置有離子膜板,所述電解池的內(nèi)部與離子膜板的左側(cè)形成陰極反應(yīng)池,所述電解池的上側(cè)左端固定連接有第一安裝板,所述第一安裝板的上側(cè)右端固定安裝有推桿,所述推桿的輸出端貫穿第一安裝板的上側(cè)并固定連接有清銅板。本技術(shù)通過設(shè)置了第一安裝板、推桿、清銅板、輸液管和離子膜板,可以有效的將銅離子聚集在陰極反應(yīng)池,并不斷地將陰極反應(yīng)棒上生成的銅清理掉,防止銅產(chǎn)生遮擋,有效地保證銅離子能夠容易得到電子,提高還原反應(yīng)的速率,保證了堿性蝕刻液再生循環(huán)工作效率。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本技術(shù)涉及電解槽,具體是涉及一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽


    技術(shù)介紹

    1、堿性蝕刻液再生循環(huán)技術(shù)采用溶劑萃取—電解還原法,從失效蝕銅液中分離回收銅,同時通過補加藥劑,使失效蝕銅液得到有效回收并循環(huán)使用,整個工藝具有操作可連續(xù)自動化、設(shè)備新穎、成本低等特點,電解槽是用于進行電解過程的設(shè)備,失效蝕銅液在電解槽的陰極銅離子發(fā)生還原反應(yīng)形成銅,在陽極氫氧根離子發(fā)生氧化反應(yīng)生成氧氣。

    2、一般的電解槽在電解過程中,陰極反應(yīng)棒上銅離子得到電子發(fā)生還原反應(yīng)生成銅,銅附著在反應(yīng)棒上,銅離子不容易得到電子,導致還原反應(yīng)的速率降低,堿性蝕刻液再生循環(huán)工作效率降低,電解失效蝕銅液時,電解槽內(nèi)的溫度和氫氧根離子的濃度會影響電解反應(yīng)的速率,陽極反應(yīng)棒上氫氧根離子會發(fā)生氧化反應(yīng),氫氧根離子濃度會不斷降低,一般的電解槽很難對溫度和氫氧根離子的濃度進行實時跟蹤,溫度和氫氧根離子濃度發(fā)生較大改變時,電解反應(yīng)速率容易下降,針對上述的問題,現(xiàn)提出一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽來進行解決。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、為解決上述技術(shù)問題,提供一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,解決了上述的目前的一般的電解槽在電解過程中,陰極反應(yīng)棒上銅離子得到電子發(fā)生還原反應(yīng)生成銅,銅附著在反應(yīng)棒上,銅離子不容易得到電子,導致還原反應(yīng)的速率降低,堿性蝕刻液再生循環(huán)工作效率降低,電解失效蝕銅液時,電解槽內(nèi)的溫度和氫氧根離子的濃度會影響電解反應(yīng)的速率,陽極反應(yīng)棒上氫氧根離子會發(fā)生氧化反應(yīng),氫氧根離子濃度會不斷降低,一般的電解槽很難對溫度和氫氧根離子的濃度進行實時跟蹤,溫度和氫氧根離子濃度發(fā)生較大改變時,電解反應(yīng)速率容易下降的問題。

    2、為達到以上目的,本技術(shù)采用的技術(shù)方案為:一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,包括電解池,所述電解池的內(nèi)部前后兩側(cè)均固定連接有安裝槽,兩組所述安裝槽內(nèi)部設(shè)置有離子膜板,所述電解池的內(nèi)部與離子膜板的左側(cè)形成陰極反應(yīng)池,所述電解池的內(nèi)部與離子膜板的右側(cè)形成陽極反應(yīng)池,所述電解池的上側(cè)左端固定連接有第一安裝板,所述第一安裝板的上側(cè)右端固定安裝有推桿,所述第一安裝板的下側(cè)右端固定連接有陰極反應(yīng)棒,所述推桿的輸出端貫穿第一安裝板的上側(cè)并固定連接有清銅板,所述陰極反應(yīng)棒的表面與清銅板的內(nèi)部滑動連接,所述陰極反應(yīng)池的內(nèi)部左側(cè)中間位置處固定安裝有溫度傳感器,所述電解池的上側(cè)右端固定連接有第二安裝板,所述陽極反應(yīng)池的內(nèi)部下側(cè)中心位置處固定安裝有ph檢測器,所述電解池的右側(cè)中心位置處固定連接有安裝支撐,所述安裝支撐上側(cè)固定安裝有水泵,所述水泵的輸入端固定連接有連接管,所述連接管的左端貫穿電解池的右側(cè)板并與陽極反應(yīng)池的內(nèi)部下端連通。

    3、優(yōu)選的,所述電解池的左側(cè)上端固定連接有輸液管,所述輸液管的右端貫穿電解池的左側(cè)板與陰極反應(yīng)池的內(nèi)部連通。

    4、優(yōu)選的,所述第一安裝板的上側(cè)左端開設(shè)有陰極端口。

    5、優(yōu)選的,所述第二安裝板的上側(cè)右端開設(shè)有陽極端口。

    6、優(yōu)選的,所述第二安裝板的下側(cè)左端固定連接有陽極反應(yīng)棒。

    7、優(yōu)選的,所述ph檢測器的上側(cè)中心位置處開設(shè)有取樣口。

    8、優(yōu)選的,所述水泵的輸出端固定連接有排液管。

    9、優(yōu)選的,所述電解池的前側(cè)中心位置處固定連接有操作面板。

    10、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本技術(shù)的優(yōu)點在于:本技術(shù)通過設(shè)置了第一安裝板、推桿、清銅板、輸液管和離子膜板,可以有效的將銅離子聚集在陰極反應(yīng)池,并不斷地將陰極反應(yīng)棒上生成的銅清理掉,防止銅產(chǎn)生遮擋,有效地保證銅離子能夠容易得到電子,提高還原反應(yīng)的速率,保證了堿性蝕刻液再生循環(huán)工作效率,通過設(shè)置了溫度傳感器、ph檢測器、取樣口和操作面板,可以有效地對電解池內(nèi)的溫度和氫氧根離子濃度進行實時測定,當溫度和氫氧根離子濃度發(fā)生改變時,通過外界添加劑進行溫度和氫氧根離子濃度的調(diào)節(jié),避免電解反應(yīng)速率容易下降。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】

    1.一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,包括電解池(1),其特征在于:所述電解池(1)的內(nèi)部前后兩側(cè)均固定連接有安裝槽(2),兩組所述安裝槽(2)內(nèi)部設(shè)置有離子膜板(3),所述電解池(1)的內(nèi)部與離子膜板(3)的左側(cè)形成陰極反應(yīng)池(4),所述電解池(1)的內(nèi)部與離子膜板(3)的右側(cè)形成陽極反應(yīng)池(5),所述電解池(1)的上側(cè)左端固定連接有第一安裝板(7),所述第一安裝板(7)的上側(cè)右端固定安裝有推桿(9),所述第一安裝板(7)的下側(cè)右端固定連接有陰極反應(yīng)棒(10),所述推桿(9)的輸出端貫穿第一安裝板(7)的上側(cè)并固定連接有清銅板(11),所述陰極反應(yīng)棒(10)的表面與清銅板(11)的內(nèi)部滑動連接,所述陰極反應(yīng)池(4)的內(nèi)部左側(cè)中間位置處固定安裝有溫度傳感器(12),所述電解池(1)的上側(cè)右端固定連接有第二安裝板(13),所述陽極反應(yīng)池(5)的內(nèi)部下側(cè)中心位置處固定安裝有PH檢測器(16),所述電解池(1)的右側(cè)中心位置處固定連接有安裝支撐(18),所述安裝支撐(18)上側(cè)固定安裝有水泵(19),所述水泵(19)的輸入端固定連接有連接管(20),所述連接管(20)的左端貫穿電解池(1)的右側(cè)板并與陽極反應(yīng)池(5)的內(nèi)部下端連通。

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,其特征在于:所述電解池(1)的左側(cè)上端固定連接有輸液管(6),所述輸液管(6)的右端貫穿電解池(1)的左側(cè)板與陰極反應(yīng)池(4)的內(nèi)部連通。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,其特征在于:所述第一安裝板(7)的上側(cè)左端開設(shè)有陰極端口(8)。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,其特征在于:所述第二安裝板(13)的上側(cè)右端開設(shè)有陽極端口(14)。

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,其特征在于:所述第二安裝板(13)的下側(cè)左端固定連接有陽極反應(yīng)棒(15)。

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,其特征在于:所述PH檢測器(16)的上側(cè)中心位置處開設(shè)有取樣口(17)。

    7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,其特征在于:所述水泵(19)的輸出端固定連接有排液管(21)。

    8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,其特征在于:所述電解池(1)的前側(cè)中心位置處固定連接有操作面板(22)。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種堿性蝕刻液循環(huán)再生用電解槽,包括電解池(1),其特征在于:所述電解池(1)的內(nèi)部前后兩側(cè)均固定連接有安裝槽(2),兩組所述安裝槽(2)內(nèi)部設(shè)置有離子膜板(3),所述電解池(1)的內(nèi)部與離子膜板(3)的左側(cè)形成陰極反應(yīng)池(4),所述電解池(1)的內(nèi)部與離子膜板(3)的右側(cè)形成陽極反應(yīng)池(5),所述電解池(1)的上側(cè)左端固定連接有第一安裝板(7),所述第一安裝板(7)的上側(cè)右端固定安裝有推桿(9),所述第一安裝板(7)的下側(cè)右端固定連接有陰極反應(yīng)棒(10),所述推桿(9)的輸出端貫穿第一安裝板(7)的上側(cè)并固定連接有清銅板(11),所述陰極反應(yīng)棒(10)的表面與清銅板(11)的內(nèi)部滑動連接,所述陰極反應(yīng)池(4)的內(nèi)部左側(cè)中間位置處固定安裝有溫度傳感器(12),所述電解池(1)的上側(cè)右端固定連接有第二安裝板(13),所述陽極反應(yīng)池(5)的內(nèi)部下側(cè)中心位置處固定安裝有ph檢測器(16),所述電解池(1)的右側(cè)中心位置處固定連接有安裝支撐(18),所述安裝支撐(18)上側(cè)固定安裝有水泵(19),所述水泵(19)的輸入端固定連接有連接管(20),所述連接管(20)的左端貫穿電解池(1)的右側(cè)板并與陽極反應(yīng)池(5)的內(nèi)部下端連通。...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:龍正邰康乾
    申請(專利權(quán))人:昆山華拓環(huán)保科技有限公司
    類型:新型
    國別省市:

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