【技術實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本公開涉及磁性微粒子成像裝置。
技術介紹
1、已知具備交流磁場施加線圈和直流磁場施加單元的磁性微粒子檢測裝置(例如參照專利文獻1)。只有存在于直流磁場施加單元形成的零磁場區(qū)域周邊的磁性微粒子由于勵磁場而磁化變動，所以通過掃描零磁場區(qū)域與磁性微粒子的相對位置，能夠得到磁性微粒子的分布信息。通過掃描零磁場區(qū)域而得到包含于被檢查物內(nèi)的磁性微粒子的分布，從而進行成像。專利文獻1的磁性微粒子檢測裝置抑制從檢測磁場的測量線圈輸出的信號的基波分量，僅抽出高次諧波分量。
2、現(xiàn)有技術文獻
3、專利文獻
4、專利文獻1：日本特開2003-199767號公報
技術實現(xiàn)思路
1、在專利文獻1記載的磁性微粒子成像裝置中，在交流磁場施加線圈中，起因于連接的交流電源的特性，不僅流過基波的電流，而且還流過高次諧波的電流。其結果，在勵磁的交流磁場中也包含高次諧波。因此，測量線圈會同時測量到從磁性微粒子輸出的高次諧波和利用交流磁場施加線圈勵磁的高次諧波。測量線圈無法僅測量從本來希望測量的磁性微粒子輸出的高次諧波，所以磁性微粒子的檢測精度劣化。
2、因此，本公開的目的在于，提供一種具有比以往高的檢測精度的磁性微粒子成像裝置。
3、本公開所涉及的磁性微粒子成像裝置是決定檢查區(qū)域中的被檢查物內(nèi)的磁性微粒子的空間分布的磁性微粒子成像裝置，其中，具備：交流磁場施加線圈，生成使磁性微粒子的磁性變化的交流磁場；卷框，用于保持交流磁場施加線圈；直流磁場施加器，以僅使被檢查
4、本公開的磁性微粒子成像裝置由于卷框的中空圓柱的徑向的厚度以及卷框的凸緣的厚度中的至少1個是第1表皮厚度以上并且第2表皮厚度以下，所以具有比以往高的檢測精度。
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1.一種磁性微粒子成像裝置，決定檢查區(qū)域中的被檢查物內(nèi)的磁性微粒子的空間分布，所述磁性微粒子成像裝置具備：
2.根據(jù)權利要求1所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
3.根據(jù)權利要求1或者2所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
4.根據(jù)權利要求1～3中的任意一項所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
5.根據(jù)權利要求4所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
6.根據(jù)權利要求4或者5所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
7.根據(jù)權利要求1～6中的任意一項所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
8.根據(jù)權利要求7所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
9.根據(jù)權利要求7或者8所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
1.一種磁性微粒子成像裝置，決定檢查區(qū)域中的被檢查物內(nèi)的磁性微粒子的空間分布，所述磁性微粒子成像裝置具備：
2.根據(jù)權利要求1所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
3.根據(jù)權利要求1或者2所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
4.根據(jù)權利要求1～3中的任意一項所述的磁性微粒子成像裝置，其中，
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【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：野村航大，松田哲也，鷲野將臣，
申請(專利權)人：三菱電機株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：
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