【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及引線框架清洗，尤其涉及一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置。
技術介紹
1、引線框架是集成電路、分立器件等微電子封裝中的關鍵結構，負責電氣連接芯片與外部電路，其表面質量直接影響到芯片的粘接、引線鍵合以及最終產品的電氣性能和壽命，所以在引線框架進行工藝加工前，通常需要進行清洗以保證其表面清潔度，超聲波清洗為其中一種清洗方式，現有技術中，通常為引線框架裝載在金屬籃中浸入超聲波清洗裝置的清洗劑中進行靜置清洗，若不對引線框架進行固定，在清洗過程中，相鄰兩個引線框架可能會發生相互粘附，降低清洗效果，而若對引線框架進行固定，引線框架的固定部分在清理過程中又難以清理，導致引線框架出現清潔死角，綜上兩種情況，均會影響引線框架在超聲波清洗時的效果，進而影響芯片的粘接、引線鍵合以及最終產品的電氣性能和壽命。
技術實現思路
1、為了克服現有技術對引線框架進行清洗時不能達到均勻清洗的缺點，本專利技術提供了一種可改變固定的連續式的引線框架超聲波清洗裝置。
2、技術方案：一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，包括有超聲波清洗箱，所述超聲波清洗箱上設置有超聲波產生裝置，所述超聲波清洗箱的上方設置有清洗籃，所述清洗籃內可拆卸式連接有等距分布的載料框，所述載料框上轉動連接有等距且鏡像分布的轉動塊，所述轉動塊上設置有電動滑軌，所述轉動塊的電動滑軌內設置有鏡像分布的滑塊，鏡像分布的所述轉動塊的電動滑軌內等高的滑塊之間共同固接有夾料板，所述夾料板滑動連接有鏡像分布的封堵板，所述夾料板與相鄰所述封堵板
3、作為上述方案的改進，一側所述夾料板上固接有等距分布的擠壓板，另一側所述夾料板上設置有凹槽，所述擠壓板為軟性材質，且所述擠壓板與另一側且相鄰的所述夾料板接觸配合，用于固定引線框架。
4、作為上述方案的改進，所述限位機構包括有鏡像分布的限位框，鏡像分布的所述限位框均通過安裝架固接于相鄰所述轉動塊上，所述轉動塊通過安裝架固接有鏡像分布的第一滑動框，所述第一滑動框內滑動連接有鏡像分布的滑動塊，鏡像分布的所述滑動塊之間設置有彈簧，所述滑動塊滑動連接有限位架，所述限位架與相鄰所述滑動塊之間設置有拉簧，所述限位架與相鄰所述封堵板限位配合，所述限位架與相鄰所述夾料板滑動連接，所述限位架遠離相鄰所述夾料板的一側固接有第一固定架，鏡像分布的所述第一固定架均與相鄰所述限位框限位滑動配合。
5、作為上述方案的改進，所述輸送機構包括有輸送裝置，所述輸送裝置設置于所述超聲波清洗箱的上方，所述輸送裝置上設置有輸送鉤，所述輸送鉤位于所述輸送裝置與所述清洗籃之間，所述清洗籃上固接有第二固定架，所述第二固定架滑動連接有第一擠壓塊，所述第一擠壓塊與所述清洗籃之間設置有拉簧，所述第一擠壓塊與所述輸送鉤擠壓配合。
6、作為上述方案的改進，還包括有用于引導清洗液流動的導流機構，所述導流機構設置于所述清洗籃上，所述導流機構包括有鏡像分布的電動轉軸，鏡像分布的所述電動轉軸均設置于所述清洗籃上，所述電動轉軸上固接有固定桿，鏡像分布的所述固定桿共同滑動連接有第二滑動框，所述固定桿與所述第二滑動框之間設置有彈簧，所述第二滑動框上設置有等距分布的導流葉扇，所述第二滑動框上設置有鏡像分布的第二擠壓塊，所述清洗籃上固接有鏡像分布的第二固定框，所述第二固定框與相鄰所述第二擠壓塊擠壓配合。
7、作為上述方案的改進，還包括有用于轉動引線框架的翻面機構，所述翻面機構設置于等距分布的所述載料框上，所述翻面機構包括有等距且鏡像分布的滑動架，等距且鏡像分布的所述滑動架分別滑動連接于相鄰所述載料框上，所述轉動塊靠近相鄰所述載料框的一側固接有齒輪，所述滑動架靠近相鄰所述載料框的一側固接有等距分布的齒條，所述齒條與相鄰所述齒輪嚙合，所述滑動架的一側固接有第一固定板，所述第一固定板與相鄰所述載料框之間設置有拉簧。
8、作為上述方案的改進，所述第二固定框遠離所述清洗籃的一側通過安裝架固接有第一固定殼，所述第一固定殼滑動連接有第一活塞桿，所述第一活塞桿與相鄰所述第一固定殼之間設置有彈簧，鏡像分布的所述第一活塞桿共同固接有第二固定板，所述第二固定板與所述超聲波清洗箱接觸配合。
9、作為上述方案的改進，所述清洗籃遠離所述第一固定板的一側通過安裝架固接有鏡像分布的第二固定殼，所述第一固定殼與相鄰所述第二固定殼之間通過管道連通，所述第一固定殼與所述第二固定殼內均注有氣體，所述第二固定殼內固接有鏡像分布的雙向壓力閥，所述清洗籃內通過安裝架固接有等距且鏡像分布的第三固定殼，等距分布的所述第三固定殼均通過管道與相鄰所述第二固定殼連通，等距分布的所述第三固定殼與相鄰所述第二固定殼的連通處和相鄰且鏡像分布的雙向壓力閥交錯分布，所述第三固定殼內滑動連接有第二活塞桿，所述第二活塞桿與相鄰所述第一固定板接觸配合。
10、作為上述方案的改進，靠近所述第二固定架的所述雙向壓力閥的開啟壓力大于遠離所述第二固定架的所述雙向壓力閥的開啟壓力，用于控制等距分布的所述第二活塞桿探出時間。
11、作為上述方案的改進，所述滑動架上固接有等距分布的第三固定架，所述轉動塊上固接有固定塊，所述固定塊上設置有按鈕，所述固定塊上按鈕與相鄰所述轉動塊上電動滑軌電連接，所述第三固定架與相鄰所述固定塊上按鈕擠壓配合。
12、與現有技術相比，本專利技術具有如下有益效果：本專利技術通過封堵板與夾料板配合對引線框架進行固定狀態和自由狀態的切換，使引線框架的所有部分均能受到均勻的清洗，提高了本裝置對引線框架的清洗效果；通過第二固定框對第二滑動框和導流葉扇移動路徑的限定，且整個過程中三個導流葉扇與清洗籃之間的距離均在穩定范圍內，從而保證引線框架所受沖擊力度的穩定；通過導流葉扇對清洗液的帶動方向不斷改變，而引線框架上清洗下的雜質也會隨著清洗液遠離引線框架，保證雜質清洗下后不會繼續殘留在引線框架附近，加強了本裝置對引線框架的清洗效果；通過第一固定殼與第二固定殼配合將引線框架浸入清洗液后逐漸進行轉動，配合不同方向上的清洗液沖擊，提高了引線框架表面清理的均勻度。
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1.一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，包括有超聲波清洗箱（1），所述超聲波清洗箱（1）上設置有超聲波產生裝置，所述超聲波清洗箱（1）的上方設置有清洗籃（2），其特征是，還包括有等距分布的載料框（3），等距分布的所述載料框（3）均可拆卸式連接于所述清洗籃（2）內，所述載料框（3）上轉動連接有等距且鏡像分布的轉動塊（4），所述轉動塊（4）上設置有電動滑軌，所述轉動塊（4）的電動滑軌內設置有鏡像分布的滑塊，鏡像分布的所述轉動塊（4）的電動滑軌內等高的滑塊之間共同固接有夾料板（5），所述夾料板（5）滑動連接有鏡像分布的封堵板（6），所述夾料板（5）與相鄰所述封堵板（6）之間設置有彈簧，相鄰所述封堵板（6）接觸配合，一側所述夾料板（5）固接有等距分布的第一固定框（7），所述第一固定框（7）與另一側且相鄰的所述夾料板（5）滑動連接，所述轉動塊（4）上設置有用于控制所述封堵板（6）狀態的限位機構（9），所述超聲波清洗箱（1）的上方設置有用于輸送所述清洗籃（2）的輸送機構（10）。
2.根據權利要求1所述的一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，其特征是，一側所述夾料板（5）上固接有等
3.根據權利要求2所述的一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，其特征是，所述限位機構（9）包括有鏡像分布的限位框（901），鏡像分布的所述限位框（901）均通過安裝架固接于相鄰所述轉動塊（4）上，所述轉動塊（4）通過安裝架固接有鏡像分布的第一滑動框（902），所述第一滑動框（902）內滑動連接有鏡像分布的滑動塊（903），鏡像分布的所述滑動塊（903）之間設置有彈簧，所述滑動塊（903）滑動連接有限位架（904），所述限位架（904）與相鄰所述滑動塊（903）之間設置有拉簧，所述限位架（904）與相鄰所述封堵板（6）限位配合，所述限位架（904）與相鄰所述夾料板（5）滑動連接，所述限位架（904）遠離相鄰所述夾料板（5）的一側固接有第一固定架（905），鏡像分布的所述第一固定架（905）均與相鄰所述限位框（901）限位滑動配合。
4.根據權利要求1所述的一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，其特征是，所述輸送機構（10）包括有輸送裝置（1001），所述輸送裝置（1001）設置于所述超聲波清洗箱（1）的上方，所述輸送裝置（1001）上設置有輸送鉤（1002），所述輸送鉤（1002）位于所述輸送裝置（1001）與所述清洗籃（2）之間，所述清洗籃（2）上固接有第二固定架（1003），所述第二固定架（1003）滑動連接有第一擠壓塊（1004），所述第一擠壓塊（1004）與所述清洗籃（2）之間設置有拉簧，所述第一擠壓塊（1004）與所述輸送鉤（1002）擠壓配合。
5.根據權利要求4所述的一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，其特征是，還包括有用于引導清洗液流動的導流機構（11），所述導流機構（11）設置于所述清洗籃（2）上，所述導流機構（11）包括有鏡像分布的電動轉軸（1101），鏡像分布的所述電動轉軸（1101）均設置于所述清洗籃（2）上，所述電動轉軸（1101）上固接有固定桿（1102），鏡像分布的所述固定桿（1102）共同滑動連接有第二滑動框（1103），所述固定桿（1102）與所述第二滑動框（1103）之間設置有彈簧，所述第二滑動框（1103）上設置有等距分布的導流葉扇（1104），所述第二滑動框（1103）上設置有鏡像分布的第二擠壓塊（1105），所述清洗籃（2）上固接有鏡像分布的第二固定框（1106），所述第二固定框（1106）與相鄰所述第二擠壓塊（1105）擠壓配合。
6.根據權利要求5所述的一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，其特征是，還包括有用于轉動引線框架的翻面機構（12），所述翻面機構（12）設置于等距分布的所述載料框（3）上，所述翻面機構（12）包括有等距且鏡像分布的滑動架（1201），等距且鏡像分布的所述滑動架（1201）分別滑動連接于相鄰所述載料框（3）上，所述轉動塊（4）靠近相鄰所述載料框（3）的一側固接有齒輪（1202），所述滑動架（1201）靠近相鄰所述載料框（3）的一側固接有等距分布的齒條（1203），所述齒條（1203）與相鄰所述齒輪（1202）嚙合，所述滑動架（1201）的一側固接有第一固定板（1204），所述第一固定板（1204）與相鄰所述載料框（3）之間設置有拉簧。
7.根據權利要求6所述的一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，其特征是，所述第二固定框（1106）遠離所述清洗籃（2）的一側通過安裝...
【技術特征摘要】
1.一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，包括有超聲波清洗箱（1），所述超聲波清洗箱（1）上設置有超聲波產生裝置，所述超聲波清洗箱（1）的上方設置有清洗籃（2），其特征是，還包括有等距分布的載料框（3），等距分布的所述載料框（3）均可拆卸式連接于所述清洗籃（2）內，所述載料框（3）上轉動連接有等距且鏡像分布的轉動塊（4），所述轉動塊（4）上設置有電動滑軌，所述轉動塊（4）的電動滑軌內設置有鏡像分布的滑塊，鏡像分布的所述轉動塊（4）的電動滑軌內等高的滑塊之間共同固接有夾料板（5），所述夾料板（5）滑動連接有鏡像分布的封堵板（6），所述夾料板（5）與相鄰所述封堵板（6）之間設置有彈簧，相鄰所述封堵板（6）接觸配合，一側所述夾料板（5）固接有等距分布的第一固定框（7），所述第一固定框（7）與另一側且相鄰的所述夾料板（5）滑動連接，所述轉動塊（4）上設置有用于控制所述封堵板（6）狀態的限位機構（9），所述超聲波清洗箱（1）的上方設置有用于輸送所述清洗籃（2）的輸送機構（10）。
2.根據權利要求1所述的一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，其特征是，一側所述夾料板（5）上固接有等距分布的擠壓板（8），另一側所述夾料板（5）上設置有凹槽，所述擠壓板（8）為軟性材質，且所述擠壓板（8）與另一側且相鄰的所述夾料板（5）接觸配合，用于固定引線框架。
3.根據權利要求2所述的一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，其特征是，所述限位機構（9）包括有鏡像分布的限位框（901），鏡像分布的所述限位框（901）均通過安裝架固接于相鄰所述轉動塊（4）上，所述轉動塊（4）通過安裝架固接有鏡像分布的第一滑動框（902），所述第一滑動框（902）內滑動連接有鏡像分布的滑動塊（903），鏡像分布的所述滑動塊（903）之間設置有彈簧，所述滑動塊（903）滑動連接有限位架（904），所述限位架（904）與相鄰所述滑動塊（903）之間設置有拉簧，所述限位架（904）與相鄰所述封堵板（6）限位配合，所述限位架（904）與相鄰所述夾料板（5）滑動連接，所述限位架（904）遠離相鄰所述夾料板（5）的一側固接有第一固定架（905），鏡像分布的所述第一固定架（905）均與相鄰所述限位框（901）限位滑動配合。
4.根據權利要求1所述的一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，其特征是，所述輸送機構（10）包括有輸送裝置（1001），所述輸送裝置（1001）設置于所述超聲波清洗箱（1）的上方，所述輸送裝置（1001）上設置有輸送鉤（1002），所述輸送鉤（1002）位于所述輸送裝置（1001）與所述清洗籃（2）之間，所述清洗籃（2）上固接有第二固定架（1003），所述第二固定架（1003）滑動連接有第一擠壓塊（1004），所述第一擠壓塊（1004）與所述清洗籃（2）之間設置有拉簧，所述第一擠壓塊（1004）與所述輸送鉤（1002）擠壓配合。
5.根據權利要求4所述的一種連續式的引線框架超聲波清洗裝置，其特征是，還包括有用于引導清洗液流動的導流機構（11），所述導流機構（11）設置于所述清洗籃（2）上，所述導流機構（11）包括有鏡像分布的電動轉軸（1101），鏡像分布的所述電動轉軸（1101）均設置于所述清洗籃（2）上，所述電動轉軸（1101）上固接有固定桿（1102），鏡像分布的所述固定桿（1102）共同滑動連接有第二滑動框（1103），所述...
【專利技術屬性】
技術研發人員：賈靜，莊恒業，
申請(專利權)人：泰州巨昌電子有限公司，
類型：發明
國別省市：
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