【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體光罩制作，尤其涉及一種光罩weakpoint的處理修正方法、存儲(chǔ)介質(zhì)和電子設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、在半導(dǎo)體領(lǐng)域，為了將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片(wafer)上，需要先根據(jù)電路圖案進(jìn)行版圖設(shè)計(jì)，設(shè)計(jì)出光罩圖案，然后根據(jù)光罩圖案制作光罩，最后將光罩上的圖案轉(zhuǎn)移到硅片上面。
2、隨著科技的發(fā)展，硅片上電路的尺寸越來(lái)越小，對(duì)光罩的要求也越來(lái)越高，光罩的好壞，直接影響了芯片的良率。
3、版圖設(shè)計(jì)時(shí)可以進(jìn)行光學(xué)臨近修正(optical?proximity?correction，opc)，opc處理過(guò)的版圖，在制作光罩前會(huì)進(jìn)行驗(yàn)證，即對(duì)opc處理過(guò)后的圖形進(jìn)行仿真計(jì)算，確定是否符合工藝窗口的要求，工藝窗口指的是一系列工藝參數(shù)值的范圍，在這個(gè)范圍內(nèi)，制造出的硅片上的電路圖案能夠滿足設(shè)計(jì)規(guī)范的要求。工藝窗口定義了在制造過(guò)程中可以容忍的參數(shù)波動(dòng)范圍，不符合工藝窗口要求的點(diǎn)位稱為weakpoint。
4、然而在實(shí)際生產(chǎn)中，光罩的設(shè)計(jì)廠商找到weakpoint之后沒(méi)有有效的方法修復(fù)weakpoint，需要移交至光罩的制造廠商去修復(fù)。或者對(duì)于設(shè)計(jì)廠商來(lái)說(shuō)，修復(fù)weakpoint需要的時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，以至于放棄修復(fù)。而且對(duì)于制造廠商來(lái)說(shuō)，即使對(duì)于一些常見(jiàn)的weakpoint，也難以在制作之前發(fā)現(xiàn)所有weakpoint，增大了光罩制作不合格的風(fēng)險(xiǎn)，缺少防范機(jī)制，最終可能需要等到光罩制作完成后，才可以發(fā)現(xiàn)光罩是否合格。
5、對(duì)于光罩的制造廠商，如何在制作之前發(fā)現(xiàn)weakpoint并進(jìn)行修復(fù)，是本申請(qǐng)要解決的技術(shù)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)的目的在于提供一種光罩weakpoint的處理修正方法、存儲(chǔ)介質(zhì)和電子設(shè)備，以幫助光罩的制造廠商在制作之前發(fā)現(xiàn)weakpoint并進(jìn)行修復(fù)。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本申請(qǐng)實(shí)施例采取了如下技術(shù)方案。
3、第一方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種光罩weakpoint的處理修正方法，用于修正光罩圖案中的weakpoint，所述光罩weakpoint的處理修正方法包括：
4、在光罩制作之前，將光罩圖案切分成多個(gè)子圖片；
5、針對(duì)各所述子圖片在weakpoint圖形庫(kù)中分別進(jìn)行相應(yīng)的匹配搜索，當(dāng)存在匹配到所述weakpoint圖形庫(kù)中的任意一個(gè)需修正圖形的目標(biāo)子圖片時(shí)，根據(jù)該需修正圖形對(duì)應(yīng)的修正規(guī)則，對(duì)所述目標(biāo)子圖片進(jìn)行修正。
6、可選地，所述光罩weakpoint的處理修正方法還包括：
7、在完成光罩制作之后，根據(jù)光罩制作結(jié)果確定是否存在新的需修正圖形；
8、若根據(jù)光罩制作結(jié)果發(fā)現(xiàn)了新的需修正圖形，將所述新的需修正圖形加入所述weakpoint圖形庫(kù)。
9、可選地，將光罩圖案切分成多個(gè)子圖片的步驟包括：
10、對(duì)光罩圖案進(jìn)行至少兩次切分，切分為至少兩組子圖片，其中一組子圖片邊緣位于另外一組子圖片的非邊緣位置。
11、可選地，所述至少兩組子圖片中，其中一組子圖片的中心位于另外一組子圖片的邊緣。
12、可選地，所述至少兩組子圖片中，其中一組子圖片的中心位于另外一組子圖片的邊緣的中點(diǎn)。
13、可選地，任意一個(gè)所述需修正圖形均包括主關(guān)心圖形；
14、針對(duì)各所述子圖片在weakpoint圖形庫(kù)中分別進(jìn)行相應(yīng)的匹配搜索的步驟包括：
15、根據(jù)所述需修正圖形中的主關(guān)心圖形，對(duì)所述子圖片進(jìn)行匹配。
16、可選地，所述主關(guān)心圖形設(shè)置有對(duì)應(yīng)的第一相似度閾值；
17、根據(jù)所述需修正圖形中的主關(guān)心圖形，對(duì)所述子圖片進(jìn)行匹配的步驟包括：
18、當(dāng)需修正圖形僅包括主關(guān)心圖形時(shí)，計(jì)算該需修正圖形中的主關(guān)心圖形與所述子圖片中的圖形的相似度，當(dāng)存在相似度達(dá)到所述第一相似度閾值的子圖片時(shí)，確定該子圖片為匹配該需修正圖形的目標(biāo)子圖片。
19、可選地，部分所述需修正圖形還包括次關(guān)心圖形；所述次關(guān)心圖形設(shè)置有對(duì)應(yīng)的第二相似度閾值；任意一個(gè)所述需修正圖形中，第二相似度閾值小于第一相似度閾值；
20、針對(duì)各所述子圖片在weakpoint圖形庫(kù)中分別進(jìn)行相應(yīng)的匹配搜索的步驟包括：
21、當(dāng)需修正圖形包括次關(guān)心圖形時(shí)，計(jì)算該需修正圖形的主關(guān)心圖形與所述子圖片中的圖形的第一相似度，計(jì)算該需修正圖形的次關(guān)心圖形與所述子圖片中的圖形的第二相似度，當(dāng)存在第一相似度達(dá)到所述第一相似度閾值且第二相似度達(dá)到所述第二相似度閾值的子圖片時(shí)，確定該子圖片為匹配該需修正圖形的目標(biāo)子圖片。
22、第二方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序或指令，當(dāng)所述計(jì)算機(jī)程序或指令被計(jì)算機(jī)執(zhí)行時(shí)，實(shí)現(xiàn)第一方面的光罩weakpoint的處理修正方法。
23、第三方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種電子設(shè)備，所述電子設(shè)備包括存儲(chǔ)器和處理器，所述存儲(chǔ)器與所述處理器電連接，所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述處理器在執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)，實(shí)現(xiàn)第一方面的光罩weakpoint的處理修正方法。
24、相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，本申請(qǐng)具有以下有益效果：
25、本申請(qǐng)實(shí)施例提供的光罩weakpoint的處理修正方法能將光罩圖案中的需要修正的圖形快速搜索并修正，較早完成合格的光罩制作，避免工期的延長(zhǎng)，有利于芯片及時(shí)生產(chǎn)和供應(yīng)。
本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，包括：
2.如權(quán)利要求1所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，所述光罩weakpoint的處理修正方法還包括：
3.如權(quán)利要求1所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，將光罩圖案切分成多個(gè)子圖片的步驟包括：
4.如權(quán)利要求3所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，所述至少兩組子圖片中，其中一組子圖片的中心位于另外一組子圖片的邊緣。
5.如權(quán)利要求4所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，所述至少兩組子圖片中，其中一組子圖片的中心位于另外一組子圖片的邊緣的中點(diǎn)。
6.如權(quán)利要求1所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，任意一個(gè)所述需修正圖形均包括主關(guān)心圖形；
7.如權(quán)利要求6所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，所述主關(guān)心圖形設(shè)置有對(duì)應(yīng)的第一相似度閾值；
8.如權(quán)利要求7所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，部分所述需修正圖形
9.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序或指令，當(dāng)所述計(jì)算機(jī)程序或指令被計(jì)算機(jī)執(zhí)行時(shí)，實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的光罩weakpoint的處理修正方法。
10.一種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備包括存儲(chǔ)器和處理器，所述存儲(chǔ)器與所述處理器電連接，所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述處理器在執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)，實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的光罩weakpoint的處理修正方法。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，包括：
2.如權(quán)利要求1所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，所述光罩weakpoint的處理修正方法還包括：
3.如權(quán)利要求1所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，將光罩圖案切分成多個(gè)子圖片的步驟包括：
4.如權(quán)利要求3所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，所述至少兩組子圖片中，其中一組子圖片的中心位于另外一組子圖片的邊緣。
5.如權(quán)利要求4所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，所述至少兩組子圖片中，其中一組子圖片的中心位于另外一組子圖片的邊緣的中點(diǎn)。
6.如權(quán)利要求1所述的光罩weakpoint的處理修正方法，其特征在于，任意一個(gè)所述需修正圖形均包括主關(guān)心圖形；
7.如權(quán)...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：陳超，喬正，張偉，祁展睿，張志剛，王佳慧，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：泉意光罩光電科技濟(jì)南有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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