【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本公開大體上涉及散射疊加計量，且更特定來說，本公開涉及具有正交細間距的對目標的散射疊加計量。
技術介紹
1、利用光柵上覆光柵結構的疊加計量技術(例如但不限于散射疊加(scol)或波紋(moiré)技術)提供相對緊湊的疊加目標。然而，歸因于不需要的信號(例如但不限于鏡面反射(例如，dc信號)的存在，此類技術可遭受降低的對比度或信噪比。因此，需要開發解決上述不足的系統及方法。
技術實現思路
1、根據一或多個說明性實施例，公開一種疊加計量系統。在一個說明性實施例中，所述系統包含經配置以產生照明光束的照明源。在另一說明性實施例中，所述系統包含一或多個照明光學器件以在實施計量配方時將所述照明光束引導到具有包含一或多個疊加目標的視場的樣本。在另一說明性實施例中，根據所述計量配方的所述一或多個疊加目標中的特定疊加目標包含由具有第一粗間距的下光柵結構及具有第二粗間距的上光柵結構形成的一或多個光柵上覆光柵結構，其中所述上光柵結構及所述下光柵結構在所述樣本上重疊。在另一說明性實施例中，所述上光柵結構或所述下光柵結構中的至少一者進一步包含具有小于所述照明光束的波長的細間距的特征且經布置以相對于來自所述樣本的頂部表面的鏡面反射或來自所述一或多個光柵上覆光柵結構的零級衍射中的至少一者旋轉與所述第一粗間距或所述第二粗間距中的至少一者相關聯的所述照明光束的一級衍射。在另一說明性實施例中，所述系統包含物鏡以在實施所述計量配方時在所述視場內收集來自所述樣本的光。在另一說明性實施例中，所述系統包含經布置以使來自與一級
2、根據一或多個說明性實施例，公開一種疊加計量目標。在一個說明性實施例中，所述目標包含由樣本的第一層中的具有第一粗間距的下光柵結構及所述樣本的第二層中的具有第二粗間距的上光柵結構形成的一或多個光柵上覆光柵結構，其中所述上光柵結構及所述下光柵結構在所述樣本上重疊。在另一說明性實施例中，所述上光柵結構或所述下光柵結構中的至少一者進一步包含具有小于照明光束的波長的細間距的特征且經布置以相對于來自所述樣本的頂部表面的鏡面反射或來自所述一或多個光柵結構的零級衍射中的至少一者旋轉與所述第一粗間距或所述第二粗間距中的至少一者相關聯的所述照明光束的一級衍射。在另一說明性實施例中，可基于所述一級衍射從所述一或多個光柵結構的圖像確定所述樣本的所述第一層與所述第二層之間的疊加。
3、根據一或多個說明性實施例，公開一種疊加計量方法。在一個說明性實施例中，所述方法包含在樣本上制造一或多個疊加目標。在另一說明性實施例中，所述一或多個疊加目標中的特定疊加目標包含由具有第一粗間距的下光柵結構及具有第二粗間距的上光柵結構形成的一或多個光柵上覆光柵結構，其中所述上光柵結構及所述下光柵結構在所述樣本上重疊。在另一說明性實施例中，所述上光柵結構或所述下光柵結構中的至少一者進一步包含具有小于照明光束的波長的細間距的特征且經布置以相對于來自所述樣本的頂部表面的鏡面反射或來自所述一或多個光柵上覆光柵結構的零級衍射中的至少一者旋轉與所述第一粗間距或所述第二粗間距中的至少一者相關聯的所述照明光束的一級衍射。在另一說明性實施例中，所述方法包含使用所述照明光束照明疊加目標中的所述一或多者。在另一說明性實施例中，所述方法包含通過經對準以使所述一級衍射通過的偏光器來產生所述樣本的圖像。在另一說明性實施例中，所述方法包含基于所述樣本的所述圖像來確定疊加測量。
4、根據一或多個說明性實施例，公開一種疊加計量系統。在一個說明性實施例中，所述系統包含經配置以產生至少一個照明光束的照明源。在另一說明性實施例中，所述系統包含一或多個照明光學器件以在實施計量配方時以斜角將所述照明光束引導到具有包含一或多個疊加目標的視場的樣本。在另一說明性實施例中，所述一或多個疊加目標中的特定疊加目標包含由具有第一粗間距的下光柵結構及具有不同于所述第一間距的第二粗間距的上光柵結構形成的一或多個波紋光柵上覆光柵結構，其中所述上光柵結構及所述下光柵結構在所述樣本上重疊。在另一說明性實施例中，所述系統包含物鏡以在實施所述計量配方時在所述視場內收集來自所述樣本的光衍射，其中來自所述樣本的鏡面反射或來自所述一或多個疊加目標的零級衍射中的至少一者在所述物鏡的收集數值孔徑外部。在另一說明性實施例中，所述系統包含檢測器以產生包含所述一或多個疊加目標的所述樣本的圖像。在另一說明性實施例中，所述系統包含控制器以基于所述一或多個疊加目標的所述圖像來確定所述樣本的疊加測量。
5、應了解，以上一般描述及以下詳細描述兩者僅供示范及說明且未必限制如主張的本專利技術。并入本說明書中且構成本說明書的部分的附圖說明本專利技術的實施例且與一般描述一起用于說明本專利技術的原理。
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1.一種疊加計量系統，其包括：
2.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中所述一或多個疊加目標中的至少一者包含位于所述樣本上的裸片的非相鄰部分中的不同單元中的所述一或多個光柵結構中的兩者或更多者。
3.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中所述圖像包含多于100個疊加目標。
4.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中所述一或多個疊加目標中的至少一者的所述第一粗間距及所述第二粗間距相等以形成至少一個散射疊加(SCOL)目標。
5.根據權利要求4所述的疊加計量系統，其中所述至少一個SCOL目標包含在所述構成上光柵結構與下光柵結構之間具有不同預定偏移的兩個或更多個光柵上覆光柵結構。
6.根據權利要求4所述的疊加計量系統，其中包含所述至少一個SCOL目標的所述圖像的一部分基于與來自所述上光柵結構的-1級衍射組合的來自所述下光柵結構的+1級衍射或與來自所述上光柵結構的+1級衍射組合的來自所述下光柵結構的-1級衍射中的至少一者。
7.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中所述一或多個疊加目標中的至少一者的所述第一粗間距及
8.根據權利要求7所述的疊加計量系統，其中所述至少一個波紋目標包含在所述構成上光柵結構與下光柵結構之間具有不同預定偏移的兩個或更多個光柵上覆光柵結構。
9.根據權利要求7所述的疊加計量系統，其中包含所述至少一個波紋目標的所述圖像的一部分是基于由與來自所述上光柵結構的-1級衍射組合的來自所述下光柵結構的+1級衍射形成的波紋衍射級或由與來自所述上光柵結構的+1級衍射組合的來自所述下光柵結構的-1級衍射形成的波紋衍射級中的至少一者。
10.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中所述一或多個疊加目標中的所述一或多個光柵上覆光柵結構在所述一或多個疊加目標的所述圖像中未分辨且以灰度強度出現。
11.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中具有所述細間距的所述特征僅位于所述一或多個疊加目標中的至少一者中的所述下光柵結構中。
12.根據權利要求11所述的疊加計量系統，其中所述下光柵結構在所述樣本的工藝層中。
13.根據權利要求12所述的疊加計量系統，其中所述下光柵結構在所述樣本的抗蝕劑層中。
14.根據權利要求12所述的疊加計量系統，其中所述下光柵結構在所述樣本的額外工藝層中。
15.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中具有所述細間距的所述特征布置于所述第一粗間距內的兩個區中，其中所述兩個區中的第一區中的所述細間距的方向正交于所述兩個區中的第二區中的所述細間距的方向。
16.根據權利要求15所述的疊加計量系統，其中所述兩個區在所述第一粗間距內具有1:1的工作周期。
17.根據權利要求15所述的疊加計量系統，其中所述第一區中的所述細間距等于所述第二區中的所述細間距。
18.根據權利要求15所述的疊加計量系統，其中所述第一區中的所述細間距具有不同于所述第二區中的所述細間距的值。
19.根據權利要求15所述的疊加計量系統，其中所述第一區中的所述細間距的方向平行于所述第一粗間距或所述第二粗間距中的至少一者的方向。
20.根據權利要求15所述的疊加計量系統，其中所述第一區中的所述細間距的方向與所述第一粗間距或所述第二粗間距中的至少一者的方向成45度角。
21.一種疊加計量目標，其包括：
22.根據權利要求21所述的疊加計量目標，其中所述第一粗間距及所述第二粗間距相等以形成散射疊加(SCOL)目標。
23.根據權利要求22所述的疊加計量目標，其中所述SCOL目標包含在所述構成上光柵結構與下光柵結構之間具有不同預定偏移的兩個或更多個光柵上覆光柵結構。
24.根據權利要求21所述的疊加計量目標，其中所述第一粗間距及所述第二粗間距不同以形成波紋目標。
25.根據權利要求24所述的疊加計量目標，其中所述波紋目標包含在所述構成上光柵結構與下光柵結構之間具有不同預定偏移的兩個或更多個光柵上覆光柵結構。
26.根據權利要求21所述的疊加計量目標，其中具有所述細間距的所述特征僅位于所述一或多個疊加目標中的至少一者中的所述下光柵結構中。
27.根據權利要求26所述的疊加計量目標，其中所述下光柵結構在所述樣本的工藝層中。
28.根據權利要求27所述的疊加計量目標，其中所述下光柵結構在所述樣本的抗蝕劑層中。
29.根據權利要求27所述的疊加計量目標，其中所述下光柵結構在所述樣本的額外工藝層中。...
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
1.一種疊加計量系統，其包括：
2.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中所述一或多個疊加目標中的至少一者包含位于所述樣本上的裸片的非相鄰部分中的不同單元中的所述一或多個光柵結構中的兩者或更多者。
3.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中所述圖像包含多于100個疊加目標。
4.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中所述一或多個疊加目標中的至少一者的所述第一粗間距及所述第二粗間距相等以形成至少一個散射疊加(scol)目標。
5.根據權利要求4所述的疊加計量系統，其中所述至少一個scol目標包含在所述構成上光柵結構與下光柵結構之間具有不同預定偏移的兩個或更多個光柵上覆光柵結構。
6.根據權利要求4所述的疊加計量系統，其中包含所述至少一個scol目標的所述圖像的一部分基于與來自所述上光柵結構的-1級衍射組合的來自所述下光柵結構的+1級衍射或與來自所述上光柵結構的+1級衍射組合的來自所述下光柵結構的-1級衍射中的至少一者。
7.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中所述一或多個疊加目標中的至少一者的所述第一粗間距及所述第二粗間距不同以形成至少一個波紋目標。
8.根據權利要求7所述的疊加計量系統，其中所述至少一個波紋目標包含在所述構成上光柵結構與下光柵結構之間具有不同預定偏移的兩個或更多個光柵上覆光柵結構。
9.根據權利要求7所述的疊加計量系統，其中包含所述至少一個波紋目標的所述圖像的一部分是基于由與來自所述上光柵結構的-1級衍射組合的來自所述下光柵結構的+1級衍射形成的波紋衍射級或由與來自所述上光柵結構的+1級衍射組合的來自所述下光柵結構的-1級衍射形成的波紋衍射級中的至少一者。
10.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中所述一或多個疊加目標中的所述一或多個光柵上覆光柵結構在所述一或多個疊加目標的所述圖像中未分辨且以灰度強度出現。
11.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中具有所述細間距的所述特征僅位于所述一或多個疊加目標中的至少一者中的所述下光柵結構中。
12.根據權利要求11所述的疊加計量系統，其中所述下光柵結構在所述樣本的工藝層中。
13.根據權利要求12所述的疊加計量系統，其中所述下光柵結構在所述樣本的抗蝕劑層中。
14.根據權利要求12所述的疊加計量系統，其中所述下光柵結構在所述樣本的額外工藝層中。
15.根據權利要求1所述的疊加計量系統，其中具有所述細間距的所述特征布置于所述第一粗間距內的兩個區中，其中所述兩個區中的第一區中的所述細間距的方向正交于所述兩個區中的第二區中的所述細間距的方向。
16.根據權利要求15所述的疊加計量系統，其中所述兩個區在所述第一粗間距內具有1:1的工作周期。
17.根據權利要求15所述的疊加計量系統，其中所述第一區中的所述細間距等于所述第二區中的所述細間距。
18.根據權利要求15所述的疊加計量系統，其中所述第一區中的所述細間距具有不同于所述第二區中的所述細間距的值。
19.根據權利要求15所述的疊加計量系統，其中所述第一區中的所述細間距的方向平行于所述第一粗間距或所述第二粗間距中的至少一者的方向。
20.根據權利要求15所述的疊加計量系統，其中所述第一區中的所述細間距的方向與所述第一粗間距或所述第二粗間距中的至少一者的方向成45度角。
21.一種疊加計量目標，其包括：
22.根據權利要求21所述的疊加計量目標，其中所述第一粗間距及所述第二粗間距相等以形成散射疊加(scol)目標。
23.根據權利要求22所述的疊加計量目標，其中所述scol目標包含在所述構成上光柵結構與下光柵結構之間具有不同預定偏移的兩個或更多個光柵上覆光柵結構。
【專利技術屬性】
技術研發人員：V·萊溫斯基，D·內格里，A·瑪納森，
申請(專利權)人：科磊股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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