【技術實現步驟摘要】
本申請涉及光刻領域，尤其涉及用于光刻設備的限位架構、預對準模塊和方法以及光刻設備。
技術介紹
1、光刻技術是半導體制造中的關鍵環節，隨著集成電路的集成度不斷提高，對光刻設備的精度和移動架構的要求也越來越高。光刻設備的主要功能是使用光學投影技術將圖案投射到光敏材料上，從而形成微小的圖案或圖層，主要包括以下步驟：掩膜制備、硅片涂覆、對準曝光和顯影。對準步驟是曝光前的重要環節，對精度要求極高。一旦晶圓的位置發生偏差，圖案的曝光和顯影都將發生偏差，打亂光刻節拍，造成生產效率低和良品率低等問題。在光刻過程中，光刻機的移動架構按需在x、y、z軸三個方向上精確移動晶圓，以進行曝光和顯影。隨著技術的發展，對移動架構的精度要求也越來越高。例如，極紫外光刻(euv)技術的發展，要求光刻機的光學系統反射鏡達到原子級別的平坦度，這對移動架構的穩定性和精確性提出了更高要求。移動架構要實現多方向高精度的移動，使得移動架構顯得尤為復雜。
2、因此，迫切期望一種用于光刻設備的結構簡單的精度高的移動架構。
技術實現思路
1、為克服現有技術的缺點中的一者或多者，本公開提供了用于光刻設備的限位架構、預對準模塊和方法以及光刻設備。根據本公開的用于光刻設備的限位架構能夠采用僅一個光電傳感器結合帶孔擋光片結構來確定滑塊是否到達原點和限位點，減少了傳感器數量，降低了生產成本，簡化了設備布局，提升了系統穩定性，同時還提升了設備空間利用率。根據本公開的用于光刻設備的預對準模塊能夠在不止一個方向上移動，并且在每個移動方向
2、在第一方面，本公開提供了一種用于光刻設備的限位架構。限位架構可包括：平行的兩條導軌105；設在兩條導軌105上的滑塊110；與滑塊110連接的電機115；掛載在滑塊110的一側的擋光片120；設在兩條導軌105中與擋光片120同側的導軌外側的光電傳感器130；以及控制器135。光電傳感器130的發射部發出的光信號可在滑塊110位于原點時穿過開孔125被光電傳感器130的接收部接收。擋光片120的中間可設有開孔125并且擋光片120可位于發射部與接收部之間。控制器135可與電機115連接并且可被配置成控制電機115驅動滑塊110沿兩條導軌105滑動。
3、根據本公開的一個實施例，可任選地，限位架構可進一步包括：分別設在兩條導軌105中的至少一條導軌105的兩端的限位點a和限位點b。
4、根據本公開的一個實施例，可任選地，限位架構可進一步包括：與兩條導軌105平行且位于兩條導軌105之間的導向桿140，其中導向桿140穿過滑塊110。
5、根據本公開的一個實施例，可任選地，限位架構可進一步包括：平行的兩塊定位板145，其中兩條導軌105和兩塊定位板145形成長方體，并且其中兩塊定位板145分別與導向桿140連接。
6、根據本公開的一個實施例，可任選地，控制器135可被進一步配置成：控制滑塊110在原點附近往復滑動；響應于從光電傳感器130的接收部接收到第一指示，開始計時，其中第一指示可由接收部在接收到光信號之際傳送給控制器135；響應于從光電傳感器130的接收部接收到第二指示，停止計時，其中第二指示可由接收部在接收不到光信號之際傳送給控制器135；以及響應于確定計時時間小于閾值，確定滑塊110已到達原點附近。
7、根據本公開的一個實施例，可任選地，開孔125可以為方孔，其中閾值可以為方孔孔徑除以滑塊的速度得到的值。
8、根據本公開的一個實施例，可任選地，控制器135可被進一步配置成：控制電機115驅動滑塊110往反方向移動計時時間的一半以使滑塊110到達原點。
9、根據本公開的一個實施例，可任選地，控制器135可被進一步配置成：控制電機115驅動滑塊110滑動；響應于從光電傳感器130的接收部接收到第一指示；以及確定滑塊110到達限位點a和限位點b中的一限位點。
10、根據本公開的一個實施例，可任選地，滑塊110的滑動行程可基于擋光片120的長度。
11、根據本公開的限位架構采用僅一個光電傳感器結合帶孔擋光片結構來確定滑塊是否到達原點和兩個限位點，減少了傳感器數量，簡化了限位架構。根據本公開的限位架構中的滑塊的移動行程可基于擋光片的長度。例如，滑塊的移動行程可通過調整擋光片的長度來調整。
12、在第二方面，本公開提供了一種包括如上所述的限位架構的光刻設備。
13、根據本公開的光刻設備采用了如上所述的限位架構，該限位架構采用僅一個光電傳感器結合帶孔擋光片結構來確定滑塊是否到達原點和兩個限位點，減少了傳感器數量，簡化了光刻設備布局。
14、在第三方面，本公開提供了一種用于光刻設備的預對準模塊。預對準模塊可包括：第一限位架構以及第二限位架構。第一限位架構可以為如上所述的限位架構。第二限位架構可以為如上所述的限位架構。第二限位架構可位于第一限位架構中的滑塊上并隨滑塊移動。
15、根據本公開的一個實施例，可任選地，第二限位架構的移動行程可基于限位架構的擋光片120的長度。
16、根據本公開的一個實施例，可任選地，預對準模塊可進一步包括第三限位架構。第三限位架構可以為如上所述的限位架構。第三限位架構可掛載在第二限位架構中的滑塊上并隨滑塊移動。
17、根據本公開的預對準模塊采用了不止一個如上所述的限位架構，每個限位架構采用僅一個光電傳感器結合帶孔擋光片結構來確定滑塊是否到達原點和兩個限位點，減少了傳感器數量。根據本公開的預對準模塊中的每個限位架構中的滑塊的移動行程可基于該滑塊所攜帶的擋光片的長度。例如，每個限位架構中的滑塊的移動行程可通過調整該滑塊所攜帶的擋光片的長度來調整。
18、根據本公開的一個實施例，可任選地，一種包括如上所述的預對準模塊的光刻設備。
19、根據本公開的光刻設備大大減少了傳感器數量，簡化了光刻設備的布局，提升了系統穩定性，同時還提升了設備空間利用率。
20、在第四方面，本公開提供了一種用于光刻設備的預對準方法。預對準方法可包括：控制器135控制電機115驅動滑塊110沿平行的兩條導軌105在原點附近往復滑動，其中滑塊110設在導軌105上；響應于從光電傳感器130的接收部接收到第一指示，控制器135開始計時，其中光電傳感器130設在兩條導軌105中的一導軌外側上并且光電傳感器130的發射部發出的光信號在滑塊110位于原點時穿過擋光片120中間所設的開孔125被光電傳感器130的接收部接收，其中擋光片120掛載在滑塊110與光電傳感器130同側的外側上且位于發射部與接收部之間，并且其中第一指示可由接收部在接收到光信號之際傳送給控制器135；響應于從光電傳感器130的接收部接收到第二指示，控制器135停止計時，其中第二指本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種用于光刻設備的限位架構，包括：
2.如權利要求1所述的限位架構，其特征在于，進一步包括：
3.如權利要求1所述的限位架構，其特征在于，進一步包括：
4.如權利要求3所述的限位架構，其特征在于，進一步包括：
5.如權利要求1所述的限位架構，其特征在于，所述控制器(135)被進一步配置成：
6.如權利要求5所述的限位架構，其特征在于，所述開孔(125)為方孔，其中所述閾值為方孔孔徑除以所述滑塊的速度得到的值。
7.如權利要求5所述的限位架構，其特征在于，所述控制器(135)被進一步配置成：
8.如權利要求7所述的限位架構，其特征在于，所述控制器(135)被進一步配置成：
9.如權利要求7所述的限位架構，其特征在于，所述滑塊的滑動行程基于所述擋光片(120)的長度。
10.一種包括如權利要求1-8中的任一項所述的限位架構的光刻設備。
11.一種用于光刻設備的預對準模塊，包括：
12.如權利要求11所述的預對準模塊，其特征在于，所述第二限位架構(21
13.如權利要求11所述的預對準模塊，其特征在于，進一步包括：第三限位架構，所述第三限位架構為如權利要求1-9中的任一項所述的限位架構，其中所述第三限位架構掛載在所述第二限位架構(210)中的滑塊上并隨所述滑塊移動。
14.一種包括如權利要求11-13中的任一項所述的預對準模塊的光刻設備。
15.一種用于光刻設備的預對準方法，包括：
16.如權利要求15所述的預對準方法，其特征在于，所述開孔(125)為方孔，其中所述閾值為方孔孔徑除以所述滑塊的速度得到的值。
17.如權利要求15所述的預對準方法，其特征在于，進一步包括：
18.如權利要求17所述的預對準方法，其特征在于，進一步包括：
...【技術特征摘要】
1.一種用于光刻設備的限位架構，包括：
2.如權利要求1所述的限位架構，其特征在于，進一步包括：
3.如權利要求1所述的限位架構，其特征在于，進一步包括：
4.如權利要求3所述的限位架構，其特征在于，進一步包括：
5.如權利要求1所述的限位架構，其特征在于，所述控制器(135)被進一步配置成：
6.如權利要求5所述的限位架構，其特征在于，所述開孔(125)為方孔，其中所述閾值為方孔孔徑除以所述滑塊的速度得到的值。
7.如權利要求5所述的限位架構，其特征在于，所述控制器(135)被進一步配置成：
8.如權利要求7所述的限位架構，其特征在于，所述控制器(135)被進一步配置成：
9.如權利要求7所述的限位架構，其特征在于，所述滑塊的滑動行程基于所述擋光片(120)的長度。
10.一種包括如權利要求1-8中的任一項所述的限位架構的光刻設備。
【專利技術屬性】
技術研發人員：沈菲，楊龍龍，張葉紅，單廷夢，
申請(專利權)人：上海圖雙精密裝備有限公司，
類型：發明
國別省市：
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