【技術實現步驟摘要】
本技術涉及硅片加工設備領域，特別涉及一種硅片刻蝕機的下料裝置。
技術介紹
1、刻蝕工藝是把未被抗蝕劑掩蔽的薄膜層除去，從而在薄膜上得到與抗蝕劑膜上完全相同圖形的工藝，在集成電路制造過程中，經過掩模套準、曝光和顯影，在抗蝕劑膜上復印出所需的圖形，或者用電子束直接描繪在抗蝕劑膜上產生圖形，然后把此圖形精確地轉移到抗蝕劑下面的氧化硅上去，制造出所需的薄層圖案，而在硅片進行刻蝕加工之后需要下料。
2、申請人經過檢索發現中國專利公開了“一種激光刻蝕機自動上下料機構”，其公開號為“cn217913494u”，該專利主要通過上料裝置控制最上端產品的高度位置，為產品的上料提供基礎，通過上料搬運機械手將上料裝置最上端的產品搬運至工作臺上進行加工，同時下料搬運機械手將工作臺上加工完成的產品搬運至下料裝置中進行收集，驅動總成驅動上料搬運機械手與下料搬運機械手同步工作，提高上下料的效率；
3、上述裝置通過一系列結構能夠完成對加工完成的產品進行上料和下料，并且提高上下料的效率，但是上述裝置在將加工完成的產品進行下料時通過機械手進行夾持容易導致機械手碰到硅片對硅片造成傷害，從而影響硅片的使用并且影響硅片刻蝕的良品率。
技術實現思路
1、本技術的目的在于提供一種硅片刻蝕機的下料裝置，以解決上述
技術介紹
中提出的上述裝置使用時機械手容易對硅片造成損害，從而影響硅片的使用和硅片刻蝕良品率的問題。
2、為實現上述目的，本技術提供如下技術方案：一種硅片刻蝕機的下料裝置，包括兩個支撐腿，
3、優選的，所述收納組件包括固定板，所述固定板表面的一側與支撐板的一面固定連接，所述固定板的頂面四角處均固定連接有限位柱，四個所述限位柱的內壁共同滑動連接有收納筐，所述收納筐表面的兩側均固定連接有把手，所述收納筐的內壁固定連接有緩沖墊。
4、優選的，所述收納組件還包括加強筋，所述加強筋的一面與支撐腿的一面固定連接，所述加強筋的頂面與固定板的底面固定連接。
5、優選的，所述傳動組件包括傳動箱以及固定于傳動箱表面一側的第二電機，所述傳動箱的底面與兩個支撐柱的頂面固定連接，所述傳動箱內壁的一側轉動連接有傳動絲桿，所述傳動絲桿的桿壁螺紋連接有兩個傳動塊，所述傳動絲桿的一端貫傳動箱內壁的一側并延伸至傳動箱表面的一側與第二電機的輸出端固定連接。
6、優選的，所述傳動組件還包括開設在傳動箱表面一側的滑動槽以及開設在傳動箱內壁一側的限位槽，所述滑動槽與傳動箱的內部相通，所述滑動槽的內壁與兩個傳動塊的表面滑動連接，所述限位槽的內壁滑動連接有兩個限位塊，兩個所述限位塊的一面分別與兩個傳動塊的一面固定連接。
7、優選的，所述吸附組件包括兩個連接板，兩個所述連接板的一面分別與對應的傳動塊的一面固定連接，兩個所述連接板的底面共同固定連接有安裝板，所述安裝板底面的兩側分別固定連接有第一電動伸縮桿以及第二電動伸縮桿，所述第一電動伸縮桿以及第二電動伸縮桿的底端均固定連接有電動吸盤。
8、優選的，兩個所述電動吸盤之間的距離與傳送帶中心位置到其中一個收納筐的中心處距離相等。
9、優選的，兩個所述支撐板的頂面均固定連接有擋塊。
10、本技術的技術效果和優點：本實用性新型通過傳送帶將已經刻蝕完成的硅片送出，然后再由傳動組件帶動吸附組件進行移動，然后將刻蝕完成的硅片進行吸附，然后將刻蝕完成的硅片送至收納組件里進行收納，從而避免了因為機械手對硅片進行抓取時造成硅片損壞而影響硅片的使用和硅片刻蝕良品率的問題，并且通過傳動組件與吸附組件的配合能夠提高下料的效率。
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1.一種硅片刻蝕機的下料裝置，包括兩個支撐腿(1)，其特征在于：兩個所述支撐腿(1)的頂面均固定連接有支撐板(5)，兩個所述支撐板(5)的頂面共同固定連接有刻蝕機本體(9)，兩個所述支撐板(5)之間共同設有傳送帶(7)，兩個所述支撐板(5)的頂面均固定連接有支撐柱(10)，其中一個所述支撐板(5)表面的一側固定連接有第一電機(8)，兩個所述支撐板(5)的相反一面均設有對刻蝕完成的硅片進行收納的收納組件(4)，兩個所述支撐柱(10)的頂面共同設有能夠進行平移的傳動組件(2)，所述傳動組件(2)上設有能夠上下移動對刻蝕完成的硅片進行吸附的吸附組件(3)。
2.根據權利要求1所述的一種硅片刻蝕機的下料裝置，其特征在于：所述收納組件(4)包括固定板(405)，所述固定板(405)表面的一側與支撐板(5)的一面固定連接，所述固定板(405)的頂面四角處均固定連接有限位柱(404)，四個所述限位柱(404)的內壁共同滑動連接有收納筐(401)，所述收納筐(401)表面的兩側均固定連接有把手(403)，所述收納筐(401)的內壁固定連接有緩沖墊(402)。
3.根據權利
4.根據權利要求1所述的一種硅片刻蝕機的下料裝置，其特征在于：所述傳動組件(2)包括傳動箱(201)以及固定于傳動箱(201)表面一側的第二電機(202)，所述傳動箱(201)的底面與兩個支撐柱(10)的頂面固定連接，所述傳動箱(201)內壁的一側轉動連接有傳動絲桿(204)，所述傳動絲桿(204)的桿壁螺紋連接有兩個傳動塊(205)，所述傳動絲桿(204)的一端貫傳動箱(201)內壁的一側并延伸至傳動箱(201)表面的一側與第二電機(202)的輸出端固定連接。
5.根據權利要求4所述的一種硅片刻蝕機的下料裝置，其特征在于：所述傳動組件(2)還包括開設在傳動箱(201)表面一側的滑動槽(203)以及開設在傳動箱(201)內壁一側的限位槽(207)，所述滑動槽(203)與傳動箱(201)的內部相通，所述滑動槽(203)的內壁與兩個傳動塊(205)的表面滑動連接，所述限位槽(207)的內壁滑動連接有兩個限位塊(206)，兩個所述限位塊(206)的一面分別與兩個傳動塊(205)的一面固定連接。
6.根據權利要求4所述的一種硅片刻蝕機的下料裝置，其特征在于：所述吸附組件(3)包括兩個連接板(301)，兩個所述連接板(301)的一面分別與對應的傳動塊(205)的一面固定連接，兩個所述連接板(301)的底面共同固定連接有安裝板(302)，所述安裝板(302)底面的兩側分別固定連接有第一電動伸縮桿(303)以及第二電動伸縮桿(304)，所述第一電動伸縮桿(303)以及第二電動伸縮桿(304)的底端均固定連接有電動吸盤(305)。
7.根據權利要求6所述的一種硅片刻蝕機的下料裝置，其特征在于：兩個所述電動吸盤(305)之間的距離與傳送帶(7)中心位置到其中一個收納筐(401)的中心處距離相等。
8.根據權利要求1所述的一種硅片刻蝕機的下料裝置，其特征在于：兩個所述支撐板(5)的頂面均固定連接有擋塊(6)。
...【技術特征摘要】
1.一種硅片刻蝕機的下料裝置，包括兩個支撐腿(1)，其特征在于：兩個所述支撐腿(1)的頂面均固定連接有支撐板(5)，兩個所述支撐板(5)的頂面共同固定連接有刻蝕機本體(9)，兩個所述支撐板(5)之間共同設有傳送帶(7)，兩個所述支撐板(5)的頂面均固定連接有支撐柱(10)，其中一個所述支撐板(5)表面的一側固定連接有第一電機(8)，兩個所述支撐板(5)的相反一面均設有對刻蝕完成的硅片進行收納的收納組件(4)，兩個所述支撐柱(10)的頂面共同設有能夠進行平移的傳動組件(2)，所述傳動組件(2)上設有能夠上下移動對刻蝕完成的硅片進行吸附的吸附組件(3)。
2.根據權利要求1所述的一種硅片刻蝕機的下料裝置，其特征在于：所述收納組件(4)包括固定板(405)，所述固定板(405)表面的一側與支撐板(5)的一面固定連接，所述固定板(405)的頂面四角處均固定連接有限位柱(404)，四個所述限位柱(404)的內壁共同滑動連接有收納筐(401)，所述收納筐(401)表面的兩側均固定連接有把手(403)，所述收納筐(401)的內壁固定連接有緩沖墊(402)。
3.根據權利要求2所述的一種硅片刻蝕機的下料裝置，其特征在于：所述收納組件(4)還包括加強筋(406)，所述加強筋(406)的一面與支撐腿(1)的一面固定連接，所述加強筋(406)的頂面與固定板(405)的底面固定連接。
4.根據權利要求1所述的一種硅片刻蝕機的下料裝置，其特征在于：所述傳動組件(2)包括傳動箱(201)以及固定于傳動箱(201)表面一側的第二電機(202)，所述傳動箱(201)的底面與兩個支撐柱(10)的頂面固定連接，所述傳...
【專利技術屬性】
技術研發人員：馬勝南，馬勝北，
申請(專利權)人：南軒天津科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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