【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及放射實驗，尤其涉及一種細胞工程用抗衰放射裝置。
技術介紹
1、惡性腫瘤具有發病隱匿和難以治愈的特點，嚴重威脅了人民群眾的健康，現有三種治療惡性腫瘤的方法：手術切除、放射線治療和化學治療，其中放射線治療是利用一些腫瘤細胞對輻射敏感的特點，利用放射線誘導這類癌細胞dna損傷而發生細胞凋亡，其中一種放射線治療的方式是將放射性粒子植入腫瘤內進行治療，但由于同一類癌細胞在不同的患者體內存在不同的放射敏感性，故而在進行放射性粒子植入前需要了解該患者體內癌細胞的放射敏感性，即了解癌細胞在輻射條件下抵抗衰老的能力，并根據放射性實驗數據調整植入患者體內放射性粒子的數量和分布情況，現有為了解癌細胞的放射敏感性通常對患者體內的癌細胞進行取樣，隨后利用培養箱模擬患者體內環境并對癌細胞進行繁殖培養，在癌細胞到達一定數量后，將癌細胞暴露在輻射條件下，并定時對癌細胞進行取樣觀察其存活情況，但在對培養皿中的癌細胞進行取樣時，需要將培養箱完全打開，導致培養箱內的環境完全與外界環境接觸，破壞了培養箱內的環境，對實驗結果的準確性造成影響。
技術實現思路
1、本專利技術提供了一種細胞工程用抗衰放射裝置，以克服現有對細胞進行放射性實驗時，中途取樣時會破壞細胞培養環境，對實驗結果的精準性產生影響的缺點。
2、技術方案為：一種細胞工程用抗衰放射裝置，包括有殼體，所述殼體上密封滑動連接有放料環，所述殼體上設置有環形分布且均與所述放料環封堵配合的放料孔，所述殼體固接有位于環形分布所述放料孔上方的分料盤，所
3、更進一步地，環形分布的所述分料孔的數量為環形分布所述放置件數量的整數倍，且所述分料孔未處于所述放置件于所述分料盤表面的投影內，用于提高培養皿中細胞受輻射的均勻性。
4、更進一步地，所述動力組件包括有電機，所述電機安裝于所述殼體內，所述電機的輸出軸固接有主動齒環，所述殼體轉動連接有環形分布且分別與相鄰所述放置件轉動連接的被動齒環，所述被動齒環與所述主動齒環嚙合，所述被動齒環滑動連接有三叉限位件，所述放置件上設置有與相鄰所述三叉限位件限位配合的凹槽，所述三叉限位件轉動連接有限位環，所述限位環固接有與所述殼體滑動連接的控制架，所述控制架與所述殼體摩擦配合。
5、更進一步地，所述支撐件與相鄰所述滑動件之間的摩擦力于所述放置件上半球沿所述引導槽切線方向的分力大于所述支撐件及其上零件的重力于所述放置件上半球沿所述引導槽切線方向的分力，用于控制所述支撐件的運動。
6、更進一步地，所述遮擋組件包括有遮擋膜，所述遮擋膜固接于相鄰的所述放置件遠離相鄰所述被動齒環的一側，所述遮擋膜靠近相鄰所述放置件中心軸線的一側固接有彈性環，所述彈性環固接有環形分布的拉繩，所述滑動件轉動連接有連接環，所述拉繩穿過相鄰所述放置件并與相鄰所述連接環固接。
7、更進一步地，所述遮擋膜為彈性不透光材質，且所述遮擋膜的彈性系數小于所述彈性環的彈性系數，用于使所述遮擋膜不受力的情況下不遮擋相鄰所述放置件。
8、更進一步地，所述支撐組件包括有三叉擠壓件，所述三叉擠壓件滑動連接于相鄰的所述放置件遠離相鄰所述被動齒環的一側，所述三叉擠壓件轉動連接有與相鄰所述控制架固接的帶動環，所述放置件靠近相鄰所述三叉擠壓件的位置限位滑動連接有環形分布的擠壓彈片，所述擠壓彈片與相鄰所述三叉擠壓件擠壓配合。
9、更進一步地，還包括有散料件，所述散料件轉動連接于所述殼體內靠近所述分料盤的位置，所述散料件與所述分料盤接觸，所述分料盤與所述殼體配合形成與環形分布的所述分料孔均連通的布料腔，所述散料件遠離所述殼體中心軸線的位置設置有斜面和限位槽，且上述限位槽遠離所述殼體中心軸線的一側位于環形分布所述分料孔遠離所述殼體中心軸線的一側所組成的圓上。
10、更進一步地，所述遮擋環上固接并連通有環形分布的下料殼，環形分布的所述下料殼與環形分布的所述透光片交錯分布，環形分布的所述下料殼部分所述下料殼靠近所述殼體中心軸線的一側固接有連接件，所述連接件上設置有存料槽，所述下料殼靠近所述連接件中心軸線的位置在水平面內的投影位于所述存料槽內。
11、更進一步地，所述散料件和所述分料盤一同密封滑動且轉動連接有推桿，所述推桿位于所述殼體內的一側轉動連接有傳動架，所述傳動架與所述連接件之間固接有扭簧，所述電機的輸出軸固接有摩擦輪，所述摩擦輪與所述傳動架摩擦配合，所述分料盤內滑動連接有擠壓柱，且二者之間固接有彈簧，所述遮擋環上設置有環形分布的半圓槽，所述半圓槽與所述擠壓柱擠壓配合，所述半圓槽的數量為環形分布所述透光片數量的三倍，且所述透光片和所述下料殼分別與相鄰的所述半圓槽對應。
12、本專利技術與現有技術相比的優點和積極效果是：本專利技術通過取樣時開啟單個培養皿位置的取料孔，無需開啟整個培養箱，減小了取樣時培養箱內環境與外界環境接觸的面積，降低取樣過程對培養箱內環境的影響，進而提高了實驗結果的準確性。
13、通過周向分布的擠壓彈片對培養箱內的培養皿進行夾持固定，提高了培養皿的穩定性，降低外界環境對培養皿中細胞造成影響的概率。
14、通過散料件將放射性粒子散布至對應的位置，提高工作效率的同時減小了醫生受輻射的時長，降低了放射性粒子對醫生身體造成的傷害。
15、通過扭簧蓄力使遮擋環快速解除對分料孔的封堵，使培養箱內所有的培養皿同時接受輻射，提高了實驗結果的準確性。
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1.一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：包括有殼體（1），所述殼體（1）上密封滑動連接有放料環（2），所述殼體（1）上設置有環形分布且均與所述放料環（2）封堵配合的放料孔（201），所述殼體（1）固接有位于環形分布所述放料孔（201）上方的分料盤（3），所述分料盤（3）上設置有環形分布的分料孔（301），所述分料盤（3）的下側轉動連接有與環形分布的所述分料孔（301）均封堵配合的遮擋環（4），所述遮擋環（4）上設置有環形分布的透光片（401），所述殼體（1）上設置有環形分布且分別位于相鄰所述放料孔（201）下方的取料孔（501），所述殼體（1）內固接有環形分布且分別與相鄰所述取料孔（501）連通的連通殼（5），所述連通殼（5）轉動連接有與所述殼體（1）轉動連接的放置件（6），所述放置件（6）內密封滑動且轉動連接有支撐件（7），所述支撐件（7）上設置有引導槽（701），所述放置件（6）上設置有與相鄰所述引導槽（701）滑動連接的半球，所述殼體（1）內靠近所述放置件（6）的位置均固接有限位筒（8），所述限位筒（8）內限位滑動連接有與相鄰所述支撐件（7）轉動連接且摩擦配合的滑動件（9
2.根據權利要求1所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：環形分布的所述分料孔（301）的數量為環形分布所述放置件（6）數量的整數倍，且所述分料孔（301）未處于所述放置件（6）于所述分料盤（3）表面的投影內，用于提高培養皿中細胞受輻射的均勻性。
3.根據權利要求1所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述動力組件包括有電機（10），所述電機（10）安裝于所述殼體（1）內，所述電機（10）的輸出軸固接有主動齒環（11），所述殼體（1）轉動連接有環形分布且分別與相鄰所述放置件（6）轉動連接的被動齒環（12），所述被動齒環（12）與所述主動齒環（11）嚙合，所述被動齒環（12）滑動連接有三叉限位件（13），所述放置件（6）上設置有與相鄰所述三叉限位件（13）限位配合的凹槽，所述三叉限位件（13）轉動連接有限位環（14），所述限位環（14）固接有與所述殼體（1）滑動連接的控制架（15），所述控制架（15）與所述殼體（1）摩擦配合。
4.根據權利要求3所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述支撐件（7）與相鄰所述滑動件（9）之間的摩擦力于所述放置件（6）上半球沿所述引導槽（701）切線方向的分力大于所述支撐件（7）及其上零件的重力于所述放置件（6）上半球沿所述引導槽（701）切線方向的分力，用于控制所述支撐件（7）的運動。
5.根據權利要求3所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述遮擋組件包括有遮擋膜（16），所述遮擋膜（16）固接于相鄰的所述放置件（6）遠離相鄰所述被動齒環（12）的一側，所述遮擋膜（16）靠近相鄰所述放置件（6）中心軸線的一側固接有彈性環（17），所述彈性環（17）固接有環形分布的拉繩（18），所述滑動件（9）轉動連接有連接環（19），所述拉繩（18）穿過相鄰所述放置件（6）并與相鄰所述連接環（19）固接。
6.根據權利要求5所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述遮擋膜（16）為彈性不透光材質，且所述遮擋膜（16）的彈性系數小于所述彈性環（17）的彈性系數，用于使所述遮擋膜（16）不受力的情況下不遮擋相鄰所述放置件（6）。
7.根據權利要求5所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述支撐組件包括有三叉擠壓件（20），所述三叉擠壓件（20）滑動連接于相鄰的所述放置件（6）遠離相鄰所述被動齒環（12）的一側，所述三叉擠壓件（20）轉動連接有與相鄰所述控制架（15）固接的帶動環（21），所述放置件（6）靠近相鄰所述三叉擠壓件（20）的位置限位滑動連接有環形分布的擠壓彈片（22），所述擠壓彈片（22）與相鄰所述三叉擠壓件（20）擠壓配合。
8.根據權利要求3所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：還包括有散料件（23），所述散料件（23）轉動連接于所述殼體（1）內靠近所述分料盤（3）的位置，所述散料件（23）與所述分料盤（3）接觸，所述分料盤（3）與所述殼體（1）配合形成與環形分布的所述分料孔（301）均連通的布料腔（231），所述散料件（23）遠離所述殼體（1）中心軸線的位置設置有斜面和限位槽，且上述限位槽遠離所述殼體（1）中心軸線的一側位于環形分布所述分料孔（301）遠離所述殼體（1）中心軸線的一側所組成的圓上。
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【技術特征摘要】
1.一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：包括有殼體（1），所述殼體（1）上密封滑動連接有放料環（2），所述殼體（1）上設置有環形分布且均與所述放料環（2）封堵配合的放料孔（201），所述殼體（1）固接有位于環形分布所述放料孔（201）上方的分料盤（3），所述分料盤（3）上設置有環形分布的分料孔（301），所述分料盤（3）的下側轉動連接有與環形分布的所述分料孔（301）均封堵配合的遮擋環（4），所述遮擋環（4）上設置有環形分布的透光片（401），所述殼體（1）上設置有環形分布且分別位于相鄰所述放料孔（201）下方的取料孔（501），所述殼體（1）內固接有環形分布且分別與相鄰所述取料孔（501）連通的連通殼（5），所述連通殼（5）轉動連接有與所述殼體（1）轉動連接的放置件（6），所述放置件（6）內密封滑動且轉動連接有支撐件（7），所述支撐件（7）上設置有引導槽（701），所述放置件（6）上設置有與相鄰所述引導槽（701）滑動連接的半球，所述殼體（1）內靠近所述放置件（6）的位置均固接有限位筒（8），所述限位筒（8）內限位滑動連接有與相鄰所述支撐件（7）轉動連接且摩擦配合的滑動件（9），所述殼體（1）內設置有為環形分布所述放置件（6）提供動力的動力組件，所述殼體（1）內設置有環形分布且減小培養箱與外界環境接觸面積的遮擋組件和環形分布且提高培養皿穩定性的支撐組件。
2.根據權利要求1所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：環形分布的所述分料孔（301）的數量為環形分布所述放置件（6）數量的整數倍，且所述分料孔（301）未處于所述放置件（6）于所述分料盤（3）表面的投影內，用于提高培養皿中細胞受輻射的均勻性。
3.根據權利要求1所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述動力組件包括有電機（10），所述電機（10）安裝于所述殼體（1）內，所述電機（10）的輸出軸固接有主動齒環（11），所述殼體（1）轉動連接有環形分布且分別與相鄰所述放置件（6）轉動連接的被動齒環（12），所述被動齒環（12）與所述主動齒環（11）嚙合，所述被動齒環（12）滑動連接有三叉限位件（13），所述放置件（6）上設置有與相鄰所述三叉限位件（13）限位配合的凹槽，所述三叉限位件（13）轉動連接有限位環（14），所述限位環（14）固接有與所述殼體（1）滑動連接的控制架（15），所述控制架（15）與所述殼體（1）摩擦配合。
4.根據權利要求3所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述支撐件（7）與相鄰所述滑動件（9）之間的摩擦力于所述放置件（6）上半球沿所述引導槽（701）切線方向的分力大于所述支撐件（7）及其上零件的重力于所述放置件（6）上半球沿所述引導槽（701）切線方向的分力，用于控制所述支撐件（7）的運動。
5.根據權利要求3所述的一種細胞工程用抗衰放射裝置，其特征是：所述遮擋組件包括有遮擋膜（16），所述遮擋膜（16）固接于相鄰的所述放置件（6）遠離相鄰所述被動齒環（12）的一側...
【專利技術屬性】
技術研發人員：潘夢雪，姬小佳，楊洋，王東陽，趙偉康，
申請(專利權)人：北京中科光析科學技術研究所山東分所，
類型：發明
國別省市：
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