【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及食品以及醫藥領域，尤其涉及一種d-色氨酸協同低溫等離子體的應用。
技術介紹
1、食品腐敗變質的一個最主要原因是微生物污染，這些微生物將食品中的蛋白質、多糖、脂質等轉化為生長繁殖的營養物質進行消耗和降解，改變了食品外觀、氣味等感官品質，最終導致食品腐敗變質，給人類帶來安全隱患，并且造成了環境污染和資源浪費。其中在腐敗過程中占優勢的這些微生物稱為特定腐敗微生物，如水產品中主要的特定腐敗微生物如希瓦氏菌屬、假單胞菌屬等通過調節自身的生長代謝和產物生產進而引起食品變質。因此，研究一種能夠有效殺菌抑菌方法極其重要。
2、等離子體是一種新興的非熱殺菌保鮮技術，等離子體的形成是通過高壓電場電離在一定空間內的氣體，從而產生活性氮氧化物，這些活性氮氧化物會破壞細菌細胞膜、dna、相關酶活性等，導致嚴重的氧化損傷最終導致細菌死亡，具有殺菌效率高，無化學殘留、無污染等優點，在食品殺菌領域具有很大的應用潛力。目前，主要的等離子體主要有：介質阻擋放電等離子體、射流等離子體、電暈放電等離子體等。然而，在低頻率的情況下，等離子體殺菌效果會明顯減弱。
3、申請公布號為cn?109675195?a的中國專利技術專利，公開了一種基于等離子體協同助劑的殺菌方法。該殺菌方法包括以下步驟：（1）助劑的制備：將過硫酸鹽放于超純水中，攪拌使過硫酸鹽溶解，然后加入甘油、醋酸繼續攪拌混勻，制得助劑，助劑ph值范圍在3.4~6.8；（2）將助劑加入感染的生物樣品中，然后放置在等離子體發生裝置中進行等離子體放電處理。該殺菌方法能夠治療皮膚指甲真
技術實現思路
1、為解決上述問題，本專利技術提供了一種d-色氨酸協同低溫等離子體的應用，可應用于食品殺菌等多種領域。
2、本專利技術解決上述問題的技術方案如下：
3、本專利技術提供了d-色氨酸協同低溫等離子體在食品抑菌殺菌方面的應用，d-色氨酸為天然材料，安全性高，能夠用于食品殺菌領域。
4、等離子體是指向氣體注入足夠的能量使其部分或完全電離而產生的一種包含離子、電子、自由基和中性分子等物質的混合物，總體上呈現電中性，也被稱為物質的“第四態”。一般來說，人們使用溫度對等離子體進行區分，這里的溫度通常是指電子溫度。高溫等離子體一般用于核聚變，所產生溫度達到數百萬開爾文。低溫等離子體是指帶電粒子能量在幾個ev量級的等離子體，這種情況下發生的反應主要是自由電子與價電子參與，不涉及核反應與x射線，但也足以引發化合物的解離和電離，離子和氣體的溫度可以接近室溫。
5、作為優選，所述d-色氨酸的濃度不低于2.5mmol/l。
6、進一步優選，所述d-色氨酸溶液的濃度為2.5~40mmol/l。
7、作為優選，所述菌為波羅的海希瓦氏菌、腐敗希瓦氏菌、熒光假單胞菌、金黃色葡萄球菌、大腸桿菌中的至少一種。
8、作為優選，所述菌的濃度為101~108cfu/ml。
9、作為優選，分別將d-色氨酸和待處理對象制成溶液和菌懸液，然后將所述溶液與菌懸液按體積比(0.5~1.5):(8.5~9.5)混勻，然后用低溫等離子體處理。
10、作為優選，所述低溫等離子體為高壓電場低溫等離子體。
11、作為優選，所述高壓電場低溫等離子體用高壓電場低溫等離子體設備制造；所述高壓電場低溫等離子體的介質為空氣。
12、作為優選，所述高壓電場低溫等離子體設備產生的峰值電壓為80~160?kv，作用時間大于20s，所述高壓電場低溫等離子體設備的介質阻擋放電板的板間距離20~35?mm，設備工作頻率為15~75hz。
13、進一步優選，所述高壓電場低溫等離子體設備產生的峰值電壓為100~160?kv，作用時間大于90~120s，所述高壓電場低溫等離子體設備的介質阻擋放電板的板間距離25~30mm，設備工作頻率為40~60hz。
14、本專利技術還提供了d-色氨酸協同低溫等離子體在其他方面的應用，如可應用于體外殺菌抑菌方面、器械殺菌消毒方面等。
15、本專利技術具有以下有益效果：
16、（1）本專利技術利用d-色氨酸協同低溫等離子體的方法進行殺菌，結果表明，該方法殺菌效果顯著并具有廣譜殺菌的特點，在較低d-色氨酸濃度存在的情況下協同低溫等離子體，能夠對濃度為107cfu/ml的大腸桿菌、熒光假單胞菌、金黃色葡萄球菌、波羅的海希瓦氏菌、波羅的海希瓦氏菌的菌懸液均產生殺滅效果；
17、（2）本專利技術選用的d-色氨酸為天然材料，安全性高，能夠應用于食品殺菌領域，適用性廣泛；
18、（3）本專利技術d-色氨酸協同低溫等離子體的殺菌方法，操作簡便、耗時短、成本低。
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1.D-色氨酸協同低溫等離子體在食品抑菌殺菌方面的應用。
2.根據權利要求1所述的應用，其特征在于：所述D-色氨酸的濃度不低于?2.5mmol/L。
3.根據權利要求1所述的應用，其特征在于：所述菌為波羅的海希瓦氏菌、腐敗希瓦氏菌、熒光假單胞菌、金黃色葡萄球菌、大腸桿菌中的至少一種。
4.根據權利要求1所述的應用，其特征在于：所述菌的濃度為101~108?CFU/mL。
5.根據權利要求1所述的應用，其特征在于：分別將D-色氨酸和待處理對象制成溶液和菌懸液，將所述溶液與菌懸液按體積比(0.5~1.5):(8.5~9.5)混勻，然后用低溫等離子體處理。
6.根據權利要求1所述的應用，其特征在于：所述低溫等離子體為高壓電場低溫等離子體。
7.根據權利要求6所述的應用，其特征在于：所述高壓電場低溫等離子體用高壓電場低溫等離子體設備制造；所述高壓電場低溫等離子體的介質為空氣。
8.根據權利要求7所述的應用，其特征在于：所述高壓電場低溫等離子體設備產生的峰值電壓為80~160?kV，作用時間大于20s，所述
9.D-色氨酸協同低溫等離子體在體外殺菌抑菌方面的應用。
10.D-色氨酸協同低溫等離子體在器械殺菌消毒方面的應用。
...【技術特征摘要】
1.d-色氨酸協同低溫等離子體在食品抑菌殺菌方面的應用。
2.根據權利要求1所述的應用，其特征在于：所述d-色氨酸的濃度不低于?2.5mmol/l。
3.根據權利要求1所述的應用，其特征在于：所述菌為波羅的海希瓦氏菌、腐敗希瓦氏菌、熒光假單胞菌、金黃色葡萄球菌、大腸桿菌中的至少一種。
4.根據權利要求1所述的應用，其特征在于：所述菌的濃度為101~108?cfu/ml。
5.根據權利要求1所述的應用，其特征在于：分別將d-色氨酸和待處理對象制成溶液和菌懸液，將所述溶液與菌懸液按體積比(0.5~1.5):(8.5~9.5)混勻，然后用低溫等離子體處理。
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【專利技術屬性】
技術研發人員：陳劍，王彥波，李歡，郭石伢，章建浩，
申請(專利權)人：浙江工商大學，
類型：發明
國別省市：
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