【技術實現步驟摘要】
本申請涉及蒸鍍領域，特別涉及一種片狀精細金屬掩模版。
技術介紹
1、有機電致發光器件(oled)由于具有亮度高、色彩飽和、輕薄、可彎曲等優點在顯示面板領域占比逐漸增大。
2、oled、?amoled等制程工藝中，蒸鍍為決定oled或amoled性能關鍵的工藝之一，與蒸鍍系統配合的掩膜版（mask）是決定蒸鍍系統性能的關鍵，掩膜版（mask）的結構如圖1，掩膜版（mask）包括frame（框架）1、fmask?sheet2和fmm?sheet3，其中，frame1為金屬框架，起結構穩定作用，fmm?sheet3起掩膜，形成小孔蒸鍍像素的作用，fmask?sheet2起間隔作用。fmask?sheet2包括howlling21和cover22,掩膜版（mask）組裝時，先將每根howlling21焊到frame1上，再將cover22焊到frame1上，最后將fmm?sheet3焊到frame1上，形成如圖1的結構。fmm?sheet3的結構如圖2，fmm?sheet3包括兩端頭31，兩端頭31之間設置有蒸鍍作業區32，該蒸鍍作業區32由若干網格形的蒸鍍單元321組成，相鄰兩個蒸鍍單元321之間設置有分隔區322。
3、早期的fmm?sheet3的蒸鍍單元321的尺寸大小與客戶要求的產品屏幕的尺寸大小相同，以手機屏幕來說，蒸鍍單元321的尺寸大小=手機屏幕的尺寸大小，但是在實際生產中，這樣大小的蒸鍍單元321用于蒸鍍中，蒸鍍工序后的基板最終形成的產品在屏幕發光時出現彩斑或者局部區域顏色異常的不良而不能成為良品
4、經過上述預變形的fmm?sheet3用于蒸鍍中，蒸鍍工序后的基板最終形成的產品能夠成為良品供一般客戶使用，但是，這樣的fmm?sheet3用于蒸鍍工序后，沉積在基板上的蒸鍍膜的膜厚及大小也并不均勻，呈現圍繞fmmsheet3水平軸線方向（howlling21方向）為中心，在中心位置的蒸鍍膜的膜厚及大小與客戶要求的膜厚及大小基本相同，遠離中心位置的蒸鍍膜的膜厚較中心位置的膜厚要厚，膜大小卻較中心位置的要小，具體呈現離中心位置的越遠，膜厚度越厚，膜大小越小，無法滿足高端客戶的要求。
5、上述
技術介紹
是為了便于理解本技術，并非是申請本技術之前已向普通公眾公開的公知技術。
技術實現思路
1、基于上述問題，本申請提供一種fmm?sheet，該fmm?sheet用于蒸鍍后，基板上形成厚度及大小均基本均勻的沉積蒸鍍膜，從而提高了產品的質量性能，生產出的產品可供高端客戶使用。
2、一種fmm?sheet，包括兩端頭，兩端頭之間設置有蒸鍍作業區，該蒸鍍作業區由若干網格形的蒸鍍單元組成，相鄰兩個蒸鍍單元之間設置有分隔區，該分隔區的數目為單數，該分隔區包括中間分隔區和以該中間分隔區為對稱分布的上分隔區和下分隔區，兩端頭與蒸鍍單元臨近位置設置有雙面減薄區，雙面減薄區的厚度<上分隔區的厚度<中間分隔區厚度。
3、可選地，所述上分隔區中，遠離中間分隔區的厚度<臨近中間分隔區的厚度，逐漸變??；雙面減薄區的厚度<下分隔區的厚度<中間分隔區厚度，下分隔區中，遠離中間分隔區的厚度<臨近中間分隔區的厚度，逐漸變薄。
4、可選地，所述分隔區的數目為3個，上分隔區的下表面、下分隔區的下表面、中間分隔區的下表面在同一平面，上分隔區的上表面與下分隔區的上表面在同一平面，上分隔區的上表面與下分隔區的上表面低于中間分隔區的上表面。
5、可選地，所述分隔區的數目為5個、7個或9個。
6、本技術還提供一種fmm?sheet。
7、一種fmm?sheet，包括兩端頭，兩端頭之間設置有蒸鍍作業區，該蒸鍍作業區由若干網格形的蒸鍍單元組成，相鄰兩個蒸鍍單元之間設置有分隔區，分隔區的數目為雙數，該分隔區包括對稱分布的上分隔區和下分隔區，兩端頭與蒸鍍單元臨近位置設置有雙面減薄區，雙面減薄區的厚度<上分隔區的厚度，雙面減薄區的厚度<下分隔區的厚度。
8、可選地，所述上分隔區中，遠離fmm?sheet3軸線的厚度<臨近fmm?sheet3軸線的的厚度，逐漸變薄，下分隔區中，遠離fmm?sheet3軸線的厚度<臨近fmm?sheet3軸線的厚度，逐漸變薄。
9、可選地，所述分隔區的數目為2個，上分隔區的下表面、下分隔區的下表面在同一平面，上分隔區的上表面與下分隔區的上表面在同一平面，雙面減薄區的下表面低于上分隔區的下表面，雙面減薄區的上表面與上分隔區的上表面齊平。
10、可選地，所述分隔區的數目為4個、6個或8個。
11、本技術還提供一種掩膜版。
12、一種掩膜版，該掩膜版包括frame、fmask?sheet和fmm?sheet，該fmmsheet包括兩端頭，兩端頭之間設置有蒸鍍作業區，該蒸鍍作業區由若干網格形的蒸鍍單元組成，相鄰兩個蒸鍍單元之間設置有分隔區，分隔區的數目為雙數，該分隔區包括對稱分布的上分隔區和下分隔區，所述兩端頭與蒸鍍單元臨近位置設置有雙面減薄區，雙面減薄區的厚度<上分隔區的厚度，雙面減薄區的厚度<下分隔區的厚度，上分隔區中，遠離fmm?sheet3軸線的厚度<臨近fmm?sheet3軸線的的厚度，逐漸變薄，下分隔區中，遠離fmm?sheet3軸線的厚度<臨近fmm?sheet3軸線的厚度，逐漸變薄。
13、可選地，所述分隔區的數目為2個，上分隔區的下表面、下分隔區的下表面在同一平面，上分隔區的上表面與下分隔區的上表面在同一平面本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種片狀精細金屬掩模版，包括兩端頭（31），兩端頭（31）之間設置有蒸鍍作業區（32），該蒸鍍作業區（32）由若干網格形的蒸鍍單元（321）組成，相鄰兩個蒸鍍單元（321）之間設置有分隔區（322），該分隔區（322）的數目為單數，該分隔區（322）包括中間分隔區（3221）和以該中間分隔區（3221）為對稱分布的上分隔區（3222）和下分隔區（3223），其特征在于，所述兩端頭（31）與蒸鍍單元（321）臨近位置設置有雙面減薄區（33），雙面減薄區（33）的厚度<上分隔區（3222）的厚度<中間分隔區（3221）厚度。
2.根據權利要求1所述的片狀精細金屬掩模版，其特征在于，所述上分隔區（3222）中，遠離中間分隔區（3221）的厚度<臨近中間分隔區（3221）的厚度，逐漸變薄；雙面減薄區（33）的厚度<下分隔區（3223）的厚度<中間分隔區（3221）厚度，下分隔區（3223）中，遠離中間分隔區（3221）的厚度<臨近中間分隔區（3221）的厚度，逐漸變薄。
3.根據權利要求1-2任一所述的片狀精細金屬掩模版，其
4.根據權利要求1-2任一所述的片狀精細金屬掩模版，其特征在于，所述分隔區（322）的數目為5個、7個或9個。
5.根據權利要求3所述的片狀精細金屬掩模版，其特征在于，所述分隔區（322）的數目為5個、7個或9個。
6.一種片狀精細金屬掩模版，包括兩端頭（31），兩端頭（31）之間設置有蒸鍍作業區（32），該蒸鍍作業區（32）由若干網格形的蒸鍍單元（321）組成，相鄰兩個蒸鍍單元（321）之間設置有分隔區（322），分隔區（322）的數目為雙數，該分隔區（322）包括對稱分布的上分隔區（3222）和下分隔區（3223），其特征在于，所述兩端頭（31）與蒸鍍單元（321）臨近位置設置有雙面減薄區（33），雙面減薄區（33）的厚度<上分隔區（3222）的厚度，雙面減薄區（33）的厚度<下分隔區（3223）的厚度。
7.根據權利要求6所述的片狀精細金屬掩模版，其特征在于，所述上分隔區（3222）中，遠離片狀精細金屬掩模版軸線的厚度<臨近片狀精細金屬掩模版軸線的厚度，逐漸變薄，下分隔區（3223）中，遠離片狀精細金屬掩模版軸線的厚度<臨近片狀精細金屬掩模版軸線的厚度，逐漸變薄。
8.根據權利要求6-7任一所述的片狀精細金屬掩模版，其特征在于，所述分隔區（322）的數目為2個，上分隔區（3222）的下表面、下分隔區（3223）的下表面在同一平面，上分隔區（3222）的上表面與下分隔區（3223）的上表面在同一平面，雙面減薄區（33）的下表面低于上分隔區（3222）的下表面，雙面減薄區（33）的上表面與上分隔區（3222）的上表面齊平。
9.根據權利要求6-7任一所述的片狀精細金屬掩模版，其特征在于，所述分隔區（322）的數目為4個、6個或8個。
10.根據權利要求8所述的片狀精細金屬掩模版，其特征在于，所述分隔區（322）的數目為4個、6個或8個。
...【技術特征摘要】
1.一種片狀精細金屬掩模版，包括兩端頭（31），兩端頭（31）之間設置有蒸鍍作業區（32），該蒸鍍作業區（32）由若干網格形的蒸鍍單元（321）組成，相鄰兩個蒸鍍單元（321）之間設置有分隔區（322），該分隔區（322）的數目為單數，該分隔區（322）包括中間分隔區（3221）和以該中間分隔區（3221）為對稱分布的上分隔區（3222）和下分隔區（3223），其特征在于，所述兩端頭（31）與蒸鍍單元（321）臨近位置設置有雙面減薄區（33），雙面減薄區（33）的厚度<上分隔區（3222）的厚度<中間分隔區（3221）厚度。
2.根據權利要求1所述的片狀精細金屬掩模版，其特征在于，所述上分隔區（3222）中，遠離中間分隔區（3221）的厚度<臨近中間分隔區（3221）的厚度，逐漸變?。浑p面減薄區（33）的厚度<下分隔區（3223）的厚度<中間分隔區（3221）厚度，下分隔區（3223）中，遠離中間分隔區（3221）的厚度<臨近中間分隔區（3221）的厚度，逐漸變薄。
3.根據權利要求1-2任一所述的片狀精細金屬掩模版，其特征在于，所述分隔區（322）的數目為3個，上分隔區（3222）的下表面、下分隔區（3223）的下表面、中間分隔區（3221）的下表面在同一平面，上分隔區（3222）的上表面與下分隔區（3223）的上表面在同一平面，上分隔區（3222）的上表面與下分隔區（3223）的上表面低于中間分隔區（3221）的上表面。
4.根據權利要求1-2任一所述的片狀精細金屬掩模版，其特征在于，所述分隔區（322）的數目為5個、7個或9個。
5.根據權利要求3所述的片狀精細金屬掩模版，其特...
【專利技術屬性】
技術研發人員：周俊吉，
申請(專利權)人：成都拓維高科光電科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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