【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本公開涉及彈性波裝置。
技術介紹
1、在專利文獻1中記載了彈性波裝置。
2、在先技術文獻
3、專利文獻
4、專利文獻1：日本特開2012-257019號公報
技術實現思路
1、專利技術要解決的課題
2、在專利文獻1所示的彈性波裝置中，以得到所希望的頻率特性為目的，有時在功能電極層疊保護膜。在該情況下，由于保護膜的吸濕、因彈性波裝置的制造工序中的等離子體的暴露引起的保護膜的變質，頻率特性可能變動。
3、本公開用于解決上述的課題，其目的在于，抑制頻率特性的變動。
4、用于解決課題的手段
5、一方式所涉及的彈性波裝置具備：壓電層，其具有在第一方向上對置的第一主面及第二主面；至少一對電極，其設置在所述第一主面及所述第二主面的至少任意一者；以及保護膜，其覆蓋所述一對電極的至少一部分，所述保護膜包括與所述一對電極相接的第一成分的絕緣膜和表層的第二成分的絕緣膜，所述第一成分的絕緣膜與所述第二成分的絕緣膜相比耐濕性高，所述第二成分的絕緣膜與所述第一成分的絕緣膜相比耐等離子體性高。
6、其他方式所涉及的彈性波裝置具備：壓電層，其具有在第一方向上對置的第一主面及第二主面；至少一對電極，其設置在所述第一主面及所述第二主面的至少任意一者；以及保護膜，其覆蓋所述一對電極的至少一部分，所述保護膜包括與所述一對電極相接的第一成分的絕緣膜和表層的第二成分的絕緣膜，所述第一成分的絕緣膜是硅氮化膜，所述第二成分的絕緣膜是硅
7、其他方式所涉及的彈性波裝置具備：壓電層，其具有在第一方向上對置的第一主面及第二主面；至少一對電極，其設置在所述第一主面及所述第二主面的至少任意一者；以及保護膜，其覆蓋所述一對電極的至少一部分，所述保護膜包括與所述一對電極相接的第一成分的絕緣膜和表層的第二成分的絕緣膜，所述第一成分的絕緣膜是硅氮化膜，所述第二成分的絕緣膜是硅氧化膜。
8、其他方式所涉及的彈性波裝置具備：壓電層，其具有在第一方向上對置的第一主面及第二主面；至少一對電極，其設置在所述第一主面及所述第二主面的至少任意一者；以及保護膜，其覆蓋所述一對電極的至少一部分，所述保護膜包括與所述一對電極相接的第一成分的絕緣膜和表層的第二成分的絕緣膜，所述第一成分的絕緣膜及所述第二成分的絕緣膜是硅氮氧化膜，所述第二成分的絕緣膜與所述第一成分的絕緣膜相比含氧率大。
9、其他方式所涉及的彈性波裝置具備：壓電層，其具有在第一方向上對置的第一主面及第二主面；至少一對電極，其設置在所述第一主面及所述第二主面的至少任意一者；以及保護膜，其覆蓋所述一對電極的至少一部分，所述保護膜包括與所述一對電極相接的第一成分的絕緣膜和表層的第二成分的絕緣膜，所述第一成分的絕緣膜是硅氮氧化膜，所述第二成分的絕緣膜是硅氧化膜。
10、其他方式所涉及的彈性波裝置具備：壓電層，其具有在第一方向上對置的第一主面及第二主面；至少一對電極，其設置在所述第一主面及所述第二主面的至少任意一者；以及保護膜，其覆蓋所述一對電極的至少一部分，所述保護膜包括與所述一對電極相接的第一成分的絕緣膜和表層的第二成分的絕緣膜，所述第一成分的絕緣膜及所述第二成分的絕緣膜是鋁氧化膜，所述第二成分的絕緣膜與所述第一成分的絕緣膜相比含氧率大。
11、其他方式所涉及的彈性波裝置具備：壓電層，其具有在第一方向上對置的第一主面及第二主面；至少一對電極，其設置在所述第一主面及所述第二主面的至少任意一者；以及保護膜，其覆蓋所述一對電極的至少一部分，所述保護膜包括與所述一對電極相接的第一成分的絕緣膜和表層的第二成分的絕緣膜，所述第一成分的絕緣膜及所述第二成分的絕緣膜是鈦氧化膜，所述第二成分的絕緣膜與所述第一成分的絕緣膜相比含氧率大。
12、其他方式所涉及的彈性波裝置具備：壓電層，其具有在第一方向上對置的第一主面及第二主面；至少一對電極，其設置在所述第一主面及所述第二主面的至少任意一者；以及保護膜，其覆蓋所述一對電極的至少一部分，所述保護膜包括與所述一對電極相接的第一成分的絕緣膜和表層的第二成分的絕緣膜，所述第一成分的絕緣膜及所述第二成分的絕緣膜是鉭氧化膜，所述第二成分的絕緣膜與所述第一成分的絕緣膜相比含氧率大。
13、專利技術效果
14、根據本公開，能夠抑制頻率特性的變動。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種彈性波裝置，具備：
2.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
3.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
4.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
5.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
6.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
7.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
8.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
9.一種彈性波裝置，具備：
10.一種彈性波裝置，具備：
11.一種彈性波裝置，具備：
12.一種彈性波裝置，具備：
13.一種彈性波裝置，具備：
14.一種彈性波裝置，具備：
15.一種彈性波裝置，具備：
16.根據權利要求1至15中任一項所述的彈性波裝置，其中，
17.根據權利要求1至16中任一項所述的彈性波裝置，其中，
18.根據權利要求17所述的彈性波裝置，其中，
19.根據權利要求18所述的彈性波裝置，其中，
20.
21.根據權利要求17所述的彈性波裝置，其中，
22.根據權利要求1至21中任一項所述的彈性波裝置，其中，
23.根據權利要求1至22中任一項所述的彈性波裝置，其中，
24.根據權利要求23所述的彈性波裝置，其中，
25.根據權利要求1至24中任一項所述的彈性波裝置，其中，
26.根據權利要求1至25中任一項所述的彈性波裝置，其中，
27.根據權利要求1至20中任一項所述的彈性波裝置，其中，
28.根據權利要求1至15中任一項所述的彈性波裝置，其中，
...【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
1.一種彈性波裝置，具備：
2.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
3.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
4.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
5.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
6.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
7.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
8.根據權利要求1所述的彈性波裝置，其中，
9.一種彈性波裝置，具備：
10.一種彈性波裝置，具備：
11.一種彈性波裝置，具備：
12.一種彈性波裝置，具備：
13.一種彈性波裝置，具備：
14.一種彈性波裝置，具備：
15.一種彈性波裝置，具備：
16.根據權利要求1至15中任一項所述的彈性波裝置，其中，
【專利技術屬性】
技術研發人員：山路徹，山崎直，鈴木博也，
申請(專利權)人：株式會社村田制作所，
類型：發明
國別省市：
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