【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專(zhuān)利技術(shù)涉及真空干燥設(shè)備，尤其是指一種基板頂升支撐機(jī)構(gòu)及真空干燥設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、vcd(vacuum?concentrat?ion?dryi?ng)，即真空干燥設(shè)備，具有能夠提供負(fù)壓環(huán)境的真空腔體，通過(guò)抽真空的方式降低真空腔體內(nèi)的氣壓，近年來(lái)，很多領(lǐng)域都應(yīng)用真空干燥設(shè)備對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行干燥和固化。
2、為了對(duì)真空腔體中的產(chǎn)品進(jìn)行支撐，并帶動(dòng)產(chǎn)品升降移動(dòng)，在現(xiàn)有技術(shù)中，一般采用頂升機(jī)構(gòu)與真空腔體配合，即：設(shè)置支撐桿穿設(shè)在真空腔體中，并設(shè)置支撐桿驅(qū)動(dòng)源與支撐桿連接，采用支撐桿支撐產(chǎn)品，采用支撐桿驅(qū)動(dòng)源帶動(dòng)產(chǎn)品升降移動(dòng)。
3、然而，傳統(tǒng)的vcd設(shè)備的尺寸較小，用于承載待干燥基板的頂升平臺(tái)尺寸也較小，因此，升降機(jī)構(gòu)只需要采用一個(gè)電缸驅(qū)動(dòng)平臺(tái)升降即可；但是，隨著vcd設(shè)備應(yīng)用的領(lǐng)域越來(lái)越多，待干燥基板的面積也越來(lái)越大，當(dāng)需要承載大面積的基板的時(shí)候，現(xiàn)有的單電機(jī)驅(qū)動(dòng)的升降機(jī)構(gòu)存在頂升效果差、穩(wěn)定性不好、頂升時(shí)容易出現(xiàn)卡頓的問(wèn)題；
4、并且，隨著待干燥基板的面積不斷增加，需要支撐結(jié)構(gòu)對(duì)其進(jìn)行支撐的位置就也隨之增加，現(xiàn)有的支撐結(jié)構(gòu)采用橫桿的支撐方式，當(dāng)橫桿的數(shù)量增多的時(shí)候，一方面會(huì)遮擋位置傳感器發(fā)射光束，從而影響對(duì)基板位置的檢測(cè)，另一方面，橫桿增多也就意味著基板上的遮擋面積增多，這樣也會(huì)影響基板的干燥效果。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為此，本專(zhuān)利技術(shù)所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于克服現(xiàn)有技術(shù)的頂升機(jī)構(gòu)在大尺寸vcd設(shè)備中不適用的問(wèn)題，提供一種基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，對(duì)現(xiàn)有的頂升組件
2、為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本專(zhuān)利技術(shù)提供了一種基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，應(yīng)用在真空干燥設(shè)備中，包括：頂升組件和支撐組件，所述支撐組件的一端與所述頂升組件連接，所述支撐組件的另一端部穿設(shè)在所述真空干燥設(shè)備中，所述頂升組件帶動(dòng)所述支撐組件在所述真空干燥設(shè)備中升降移動(dòng)，所述支撐組件用于支撐放置在所述真空干燥設(shè)備中的基板；其中：
3、所述頂升組件包括：頂升驅(qū)動(dòng)源、傳動(dòng)裝置和頂升臺(tái)，所述傳動(dòng)裝置能夠接收所述頂升驅(qū)動(dòng)源的動(dòng)力，并形成多個(gè)動(dòng)力支撐點(diǎn)作用在所述頂升臺(tái)上，多個(gè)動(dòng)力支撐點(diǎn)由同一頂升驅(qū)動(dòng)源控制同步升降支撐所述頂升臺(tái)；
4、所述支撐組件包括：多根支撐桿，設(shè)置在所述頂升臺(tái)上，多根所述支撐桿的端部穿設(shè)在所述真空干燥設(shè)備中，多根所述支撐桿共同支撐放置在所述真空干燥設(shè)備中的基板，每個(gè)所述支撐桿實(shí)現(xiàn)對(duì)所述基板的點(diǎn)支撐。
5、在本專(zhuān)利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例中，所述傳動(dòng)裝置包括：
6、第一傳動(dòng)桿，沿第一方向延伸設(shè)置，與所述頂升驅(qū)動(dòng)源連接，所述頂升驅(qū)動(dòng)源帶動(dòng)所述第一傳動(dòng)桿轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第一傳動(dòng)桿具有兩個(gè)輸出端頭；
7、凸輪傳動(dòng)結(jié)構(gòu)，在所述第一傳動(dòng)桿的兩個(gè)輸出端頭上均設(shè)置有所述凸輪傳動(dòng)結(jié)構(gòu)，所述凸輪傳動(dòng)結(jié)構(gòu)將所述第一傳動(dòng)桿的軸向轉(zhuǎn)動(dòng)力轉(zhuǎn)化為線性驅(qū)動(dòng)力；
8、第二傳動(dòng)桿，沿第二方向延伸設(shè)置，與所述凸輪傳動(dòng)結(jié)構(gòu)的輸出端連接，由所述凸輪傳動(dòng)結(jié)構(gòu)帶動(dòng)沿第三方向移動(dòng)，所述第二傳動(dòng)桿具有兩個(gè)支撐端頭，每個(gè)所述支撐端頭上均設(shè)置有支撐件；
9、所述第一方向、第二方向和第三方向兩兩垂直延伸。
10、在本專(zhuān)利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例中，所述凸輪傳動(dòng)結(jié)構(gòu)包括：
11、傳動(dòng)輪，套設(shè)在所述第一傳動(dòng)桿的兩個(gè)輸出端頭上，所述傳動(dòng)輪能夠隨所述第一傳動(dòng)桿轉(zhuǎn)動(dòng)；
12、聯(lián)軸，設(shè)置在所述傳動(dòng)輪的輪面上，所述聯(lián)軸突出于所述傳動(dòng)輪；
13、直線軸承，與所述聯(lián)軸連接，所述直線軸承套設(shè)在所述第二傳動(dòng)桿上，所述直線軸承在所述第二傳動(dòng)桿上滑動(dòng)。
14、在本專(zhuān)利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例中，所述傳動(dòng)裝置還包括：支撐架，用于支撐所述傳動(dòng)輪。
15、在本專(zhuān)利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例中，所述傳動(dòng)裝置還包括：滑軌和滑塊，所述滑軌設(shè)置在所述支撐架上，所述滑塊設(shè)置在所述第二傳動(dòng)桿的支撐端頭上，所述滑塊能夠在所述滑軌上滑動(dòng)。
16、在本專(zhuān)利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例中，所述頂升組件還包括到導(dǎo)向裝置，所述導(dǎo)向裝置與所述頂升臺(tái)連接，所述導(dǎo)向裝置限制所述頂升臺(tái)的升降方向。
17、在本專(zhuān)利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例中，所述支撐組件還包括：
18、基座，設(shè)置在所述頂升臺(tái)上，所述基座用于支撐所述支撐桿；
19、伸縮密封件，套設(shè)在所述支撐桿外，所述伸縮密封件能夠隨支撐桿伸縮改變長(zhǎng)度，且所述伸縮密封件的兩端分別與所述真空腔體和所述基座密封連接。
20、在本專(zhuān)利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例中，所述支撐桿的端部設(shè)置有支撐所述基板的p?i?n針。
21、為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本專(zhuān)利技術(shù)還提供了一種真空干燥設(shè)備，包括：上述基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，還包括：
22、真空腔室，由上板和下板扣合形成，所述支撐組件的一端從所述下板中穿過(guò)，進(jìn)入到所述真空腔室中支撐所述基板在所述真空腔室中移動(dòng)。
23、在本專(zhuān)利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例中，所述上板和下板還設(shè)置有密封圈和調(diào)整墊片，所述密封圈和調(diào)整墊片共同支撐所述上板和下板，所述密封圈的支撐高度高于所述調(diào)整墊片的支撐高度。
24、本專(zhuān)利技術(shù)的上述技術(shù)方案相比現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn)：
25、本專(zhuān)利技術(shù)所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，應(yīng)用在真空干燥設(shè)備中，采用頂升組件和支撐組件配合對(duì)放置在真空干燥設(shè)備中的基板進(jìn)行支撐并帶動(dòng)其升降移動(dòng)；相比于現(xiàn)有技術(shù)的頂升機(jī)構(gòu)，本專(zhuān)利技術(shù)的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)更適用于大尺寸的真空干燥設(shè)備，其中：設(shè)置頂升組件包括：頂升驅(qū)動(dòng)源、傳動(dòng)裝置和頂升臺(tái)，通過(guò)傳動(dòng)裝置將頂升驅(qū)動(dòng)源的動(dòng)力分解，將單個(gè)動(dòng)力支撐點(diǎn)分解成多個(gè)動(dòng)力支撐點(diǎn)作用在頂升臺(tái)上，保證頂升臺(tái)升降的穩(wěn)定性；
26、并且，在本專(zhuān)利技術(shù)中還設(shè)置支撐組件包括多根支撐桿，通過(guò)多根支撐桿分布共同支撐基板，將現(xiàn)有技術(shù)的桿支撐結(jié)構(gòu)變?yōu)辄c(diǎn)支撐結(jié)構(gòu)，在保證支撐強(qiáng)度的同時(shí)，不僅能夠避免遮擋傳感器光束，還能夠盡量減少支撐組件與基板的接觸面積，保證基板的干燥效果。
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1.一種基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于，應(yīng)用在真空干燥設(shè)備中，包括：頂升組件和支撐組件，所述支撐組件的一端與所述頂升組件連接，所述支撐組件的另一端部穿設(shè)在所述真空干燥設(shè)備中，所述頂升組件帶動(dòng)所述支撐組件在所述真空干燥設(shè)備中升降移動(dòng)，所述支撐組件用于支撐放置在所述真空干燥設(shè)備中的基板；其中：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述傳動(dòng)裝置包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述凸輪傳動(dòng)結(jié)構(gòu)包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述傳動(dòng)裝置還包括：支撐架，用于支撐所述傳動(dòng)輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述傳動(dòng)裝置還包括：滑軌和滑塊，所述滑軌設(shè)置在所述支撐架上，所述滑塊設(shè)置在所述第二傳動(dòng)桿的支撐端頭上，所述滑塊能夠在所述滑軌上滑動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述頂升組件還包括到導(dǎo)向裝置，所述導(dǎo)向裝置與所述頂升臺(tái)連接，所述導(dǎo)向裝置限制所述頂升臺(tái)的升降方向。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板頂升支
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述支撐桿的端部設(shè)置有支撐所述基板的PIN針。
9.一種真空干燥設(shè)備，其特征在于：包括：上述權(quán)利要求1～8任意一項(xiàng)所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，還包括：
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的真空干燥設(shè)備，其特征在于：所述上板和下板還設(shè)置有密封圈和調(diào)整墊片，所述密封圈和調(diào)整墊片共同支撐所述上板和下板，所述密封圈的支撐高度高于所述調(diào)整墊片的支撐高度。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于，應(yīng)用在真空干燥設(shè)備中，包括：頂升組件和支撐組件，所述支撐組件的一端與所述頂升組件連接，所述支撐組件的另一端部穿設(shè)在所述真空干燥設(shè)備中，所述頂升組件帶動(dòng)所述支撐組件在所述真空干燥設(shè)備中升降移動(dòng)，所述支撐組件用于支撐放置在所述真空干燥設(shè)備中的基板；其中：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述傳動(dòng)裝置包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述凸輪傳動(dòng)結(jié)構(gòu)包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述傳動(dòng)裝置還包括：支撐架，用于支撐所述傳動(dòng)輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板頂升支撐機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述傳動(dòng)裝置還包括：滑軌和滑塊，所述滑軌設(shè)置在所述支撐架上，所述滑塊設(shè)置在所述第二...
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
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