【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本技術涉及陶瓷圈的，具體涉及一種石墨舟陶瓷圈。
技術介紹
1、在晶硅電池片生產(chǎn)流程中，涉及到膜層的制備，常用的有pecvd法或者lpcvd法，亦或是ald原位沉積法。一般pecvd/lpcvd沉積均需要使用石墨舟作為載體裝載硅片，便于運輸。石墨舟由石墨舟片、陶瓷圈、陶瓷桿、石墨桿、石墨隔塊等石墨配件組成。石墨舟上固定有不同數(shù)量的石墨舟片,石墨舟片是用陶瓷桿穿套起來的,石墨舟片之間依靠同樣穿套在陶瓷桿上的陶瓷圈控制距離。
2、在topcon電池制作過程中，背面氧化層的制備是該技術的重心，背面氧化層的制備一般使用到的氣體有笑氣，硅烷，磷烷，氫氣。石墨舟在使用過程中各部分表面上會被鍍上氧化硅以及摻磷的多晶硅，隨著使用次數(shù)的增加，膜層逐漸增厚，兩片舟頁之間會導通，進而會影響硅片膜層的質(zhì)量。現(xiàn)有的石墨舟的陶瓷圈主要有兩種，一種是實心，表面無螺紋，一種表面有螺紋，內(nèi)部有鋸齒狀的凹槽，便于氣體流通，但該種結構還是難以改善石墨舟隨著使用次數(shù)的增加舟頁之間導通的問題。
技術實現(xiàn)思路
1、本技術的目的在于提供一種石墨舟陶瓷圈，以克服現(xiàn)有技術中的上述缺陷。
2、一種石墨舟陶瓷圈,包括外環(huán)及內(nèi)環(huán)，所述外環(huán)套設于內(nèi)環(huán)上并與內(nèi)環(huán)連為一體，沿內(nèi)環(huán)圓周的上下對稱設有橫截面為梯形結構的內(nèi)槽，所述外環(huán)上均布有若干環(huán)形槽。
3、優(yōu)選地，所述內(nèi)槽的內(nèi)邊與內(nèi)環(huán)的夾角為70°。
4、優(yōu)選地，所述內(nèi)環(huán)的長度大于外環(huán)的長度。
5、優(yōu)選地，每個環(huán)形環(huán)形槽的寬度為0.7mm
6、優(yōu)選地，相鄰兩個環(huán)形槽之間的距離為0.3mm。
7、本技術具有如下優(yōu)點：
8、本技術在使用時，通過外環(huán)外周表面的環(huán)形槽結構以及內(nèi)環(huán)增加一梯形的內(nèi)槽，從而能夠減緩氣體的流動，進而改善石墨舟隨著使用次數(shù)的增加舟頁之間導通導致沉積膜層質(zhì)量下降的問題。
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1.一種石墨舟陶瓷圈,其特征在于：包括外環(huán)(1)及內(nèi)環(huán)(2)，所述外環(huán)(1)套設于內(nèi)環(huán)(2)上并與內(nèi)環(huán)(2)連為一體，沿內(nèi)環(huán)(2)圓周的上下對稱設有橫截面為梯形結構的內(nèi)槽(3)，所述外環(huán)(1)上均布有若干環(huán)形槽(4)。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種石墨舟陶瓷圈,其特征在于：所述內(nèi)槽(3)的內(nèi)邊與內(nèi)環(huán)(2)的夾角為70°。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種石墨舟陶瓷圈,其特征在于：所述內(nèi)環(huán)(2)的長度大于外環(huán)(1)的長度。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種石墨舟陶瓷圈,其特征在于：每個環(huán)形環(huán)形槽(4)的寬度為0.7mm。
5.根據(jù)權利要求1所述的一種石墨舟陶瓷圈,其特征在于：相鄰兩個環(huán)形槽(4)之間的距離為0.3mm。
【技術特征摘要】
1.一種石墨舟陶瓷圈,其特征在于：包括外環(huán)(1)及內(nèi)環(huán)(2)，所述外環(huán)(1)套設于內(nèi)環(huán)(2)上并與內(nèi)環(huán)(2)連為一體，沿內(nèi)環(huán)(2)圓周的上下對稱設有橫截面為梯形結構的內(nèi)槽(3)，所述外環(huán)(1)上均布有若干環(huán)形槽(4)。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種石墨舟陶瓷圈,其特征在于：所述內(nèi)槽(3)的內(nèi)邊與內(nèi)環(huán)(2)的夾角為70°...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：謝申衡，吳群峰，胡成杰，
申請(專利權)人：合肥大恒智慧能源科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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