【技術實現步驟摘要】
本技術涉及電子組裝的，具體涉及一種smt校正片。
技術介紹
1、眾所周知，smt是電子組裝行業中的一種表面組裝技術，校正片主要是表面組裝技術中使用到的配件部分。我國現有的smt校正片一般由上至下僅包括圖案層以及玻璃基底層，但是由于采用的是透明的玻璃基底，因此導致校正片周圍的裝置容易被捕捉，且校正片表面反光嚴重，不利于實際使用。
2、因此，亟需一種smt校正片來解決上述問題。
技術實現思路
1、本項技術是針對現在的技術不足，提供一種smt校正片。
2、本技術為實現上述目的所采用的技術方案是：
3、一種smt校正片，包括由上至下依次設置的反射膜層、鉻氮氧化物遮光層、基礎層以及鋼化玻璃基層，所述反射膜層的厚度為34-36nm，所述鉻氮氧化物遮光層的厚度為45-47nm，所述基礎層的厚度為19-21nm。
4、作進一步改進，所述smt校正片的正面的反射率為9％-11％，所述smt校正片的正面的波長為420-460nm。
5、作進一步改進，所述smt校正片的背面的反射率大于50％，所述smt校正片的背面的波長為430-450nm。
6、作進一步改進，所述鋼化玻璃基層的透光率為89％-91％。
7、作進一步改進，所述鋼化玻璃基層的反射率為7％-9％，折射率為1-2。
8、作進一步改進，所述鋼化玻璃基層的尺寸為3-7寸。
9、作進一步改進，所述smt校正片的光學密度為3-3.5。
<...【技術保護點】
1.一種SMT校正片，其特征在于：包括由上至下依次設置的反射膜層、鉻氮氧化物遮光層、基礎層以及鋼化玻璃基層，所述反射膜層的厚度為34-36nm，所述鉻氮氧化物遮光層的厚度為45-47nm，所述基礎層的厚度為19-21nm。
2.根據權利要求1所述的SMT校正片，其特征在于：所述SMT校正片的正面的反射率為9％-11％，所述SMT校正片的正面的波長為420-460nm。
3.根據權利要求2所述的SMT校正片，其特征在于：所述SMT校正片的背面的反射率大于50％，所述SMT校正片的背面的波長為430-450nm。
4.根據權利要求1所述的SMT校正片，其特征在于：所述鋼化玻璃基層的透光率為89％-91％。
5.根據權利要求4所述的SMT校正片，其特征在于：所述鋼化玻璃基層的反射率為7％-9％，折射率為1-2。
6.根據權利要求5所述的SMT校正片，其特征在于：所述鋼化玻璃基層的尺寸為3-7寸。
7.根據權利要求1所述的SMT校正片，其特征在于：所述SMT校正片的光學密度為3-3.5。
8.根據權利要求
...【技術特征摘要】
1.一種smt校正片，其特征在于：包括由上至下依次設置的反射膜層、鉻氮氧化物遮光層、基礎層以及鋼化玻璃基層，所述反射膜層的厚度為34-36nm，所述鉻氮氧化物遮光層的厚度為45-47nm，所述基礎層的厚度為19-21nm。
2.根據權利要求1所述的smt校正片，其特征在于：所述smt校正片的正面的反射率為9％-11％，所述smt校正片的正面的波長為420-460nm。
3.根據權利要求2所述的smt校正片，其特征在于：所述smt校正片的背面的反射率大于50％，所述smt校正片的背面的波長為430-450nm...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李由根，李娜，
申請(專利權)人：東莞市宏誠光學制品有限公司，
類型：新型
國別省市：
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