【技術實現步驟摘要】
本技術屬于曝光，具體涉及一種通用曝光治具。
技術介紹
1、全息光柵的制作過程一般如下：
2、1.在基底上制備光柵掩膜：在基底表面旋涂一層一定厚度的光刻膠，得到設置光刻膠掩膜的基底；將設置光刻膠掩膜的基底放入全息曝光系統中進行曝光，基底上的光刻膠掩膜受到曝光光場周期性明暗條紋的調制，光刻膠掩膜的性質發生變化，從而在基底上得到性質改變的光刻膠掩膜；將基底上性質改變的光刻膠掩膜進行顯影操作，在基底上得到光柵掩膜。
3、2.利用光柵掩膜在基底上制作光柵：利用離子束刻蝕機對基底進行刻蝕，將光柵掩膜的形貌分布復制到基底上，完成光柵的制作。
4、現有全息曝光系統中通常利用曝光治具放置基底。在實際工作中，針對不同項目的需求，需要將基底在曝光治具內進行不同角度的固定，進而在基底上實現不同方向的曝光操作，從而在基底上得到對應方向的光柵柵線。
5、但現有采用一個曝光治具無法實現基底多個不同角度的固定，需要針對不同項目需求的基底在曝光治具中的固定角度設計專門的曝光治具，增加曝光治具的設計時間，增加曝光治具的制作成本，降低曝光操作效率，造成曝光治具堆積。
技術實現思路
1、為了克服現有技術的缺陷，本技術提供一種通用曝光治具。
2、本技術通過如下技術方案實現：
3、本技術提供一種通用曝光治具，包括底座部件、基底固定部件；
4、所述基底固定部件與所述底座部件轉動連接；
5、所述基底固定部件內設置固定部；
7、進一步的，所述底座部件的內部開設第一連接通孔，所述第一連接通孔為圓形通孔；
8、所述基底固定部件與所述底座部件連接一側設置環形凸起，所述環形凸起靠近基底固定部件的邊緣位置設置；
9、所述環形凸起的外壁轉動卡接在所述圓形通孔內。
10、進一步的，還包括軸承；
11、所述圓形通孔內卡接所述軸承；
12、所述軸承內卡接所述環形凸起。
13、進一步的，所述基底固定部件內開設安裝通孔；
14、所述待曝光基底卡接在所述安裝通孔內。
15、進一步的，所述安裝通孔靠近所述待曝光基底的待曝光面的一端向內部延伸形成第一限位部，第一限位部對所述待曝光基底的待曝光面的邊緣位置進行接觸限位。
16、進一步的，還包括第一壓接組件；
17、所述第一壓接組件包括第一壓塊、第一螺紋桿和第二螺紋桿；
18、所述第一壓塊的兩端分別設置第二連接通孔和第三連接通孔，所述第二連接通孔內設置螺紋；
19、所述基底固定部件靠近所述安裝通孔的邊緣位置設置第四連接通孔，所述第四連接通孔內設置螺紋；
20、所述第一螺紋桿從所述待曝光基底的非曝光面一側穿過第三連接通孔與所述第四連接通孔螺紋連接；所述第二螺紋桿的桿身與所述第二連接通孔螺紋連接，所述第二螺紋桿的頂部穿過第二連接通孔與所述待曝光基底的非曝光面的邊緣抵接。
21、進一步的，還包括第一壓接組件；
22、所述第一壓接組件包括第一壓塊、第一螺紋桿；
23、所述第一壓塊的一端設置第二連接通孔，所述第二連接通孔內設置螺紋，所述第一壓塊的另一端設置凸起部；
24、所述基底固定部件靠近所述安裝通孔的邊緣位置設置第四連接通孔，所述第四連接通孔內設置螺紋；
25、所述第一螺紋桿從所述待曝光基底的非曝光面一側穿過第二連接通孔與所述第四連接通孔螺紋連接，使得所述第一壓塊的凸起部與所述待曝光基底的非曝光面的邊緣抵接。
26、進一步的，所述基底固定部件位于所述待曝光基底的非曝光面的一側設置刻度線。
27、進一步的，還包括第二壓接組件；
28、所述第二壓接組件包括第二壓塊、第三螺紋桿和第四螺紋桿；
29、所述第二壓塊的兩端分別設置第五連接通孔和第六連接通孔，所述第六連接通孔內設置螺紋；
30、所述底座部件靠近所述圓形通孔的邊緣位置設置第七連接通孔，所述第七連接通孔內設置螺紋；
31、所述第三螺紋桿從所述待曝光基底的非曝光面一側穿過所述第五連接通孔與所述第七連接通孔螺紋連接；
32、所述第四螺紋桿的桿身與所述第六連接通孔螺紋連接，所述第四螺紋桿的頂部穿過第六連接通孔與所述基底固定部件的邊緣抵接。
33、進一步的，所述基底固定部件靠近所述安裝通孔的位置開設取放槽，所述取放槽靠近所述安裝通孔的側壁頂端與所述安裝通孔的側壁頂端連通。
34、進一步的，所述圓形通孔靠近所述待曝光基底的待曝光面的一側向內部延伸形成第二限位部，第二限位部對所述軸承的外環邊緣進行接觸限位。
35、進一步的，所述底座部件上開設第八連接通孔，所述第八連接通孔內設置螺紋；
36、所述第八連接通孔一側連通所述圓形通孔的內側壁，所述第八連接通孔的另一側連通所述底座部件的外側壁。
37、進一步的，還包括卡接組件；
38、所述卡接組件包括卡塊、螺紋連接件；
39、所述螺紋連接件包括第五螺紋桿以及擋塊，所述第五螺紋桿的一端固定連接所述擋塊；
40、所述基底固定部件開設第九連接通孔，所述卡塊一端開設第十連接通孔，所述第十連接通孔內設置螺紋；
41、所述第五螺紋桿的自由端從所述待曝光基底的非曝光面一側穿過所述第九連接通孔與所述卡塊一端的第十連接通孔螺紋連接，所述卡塊的另一端與所述軸承的內環邊緣抵接。
42、和現有技術比，本技術的技術方案具有如下有益效果：
43、本技術提供一種通用曝光治具，包括底座部件、基底固定部件，基底固定部件與底座部件轉動連接，基底固定部件內設置固定部，固定部內固定待曝光基底。通過基底固定部件相對底座部件的轉動，實現待曝光基底在曝光治具內進行不同角度的固定，進而在基底上實現不同方向的曝光操作，從而在基底上得到對應方向的光柵柵線，滿足不同項目的曝光需求。且相較于現有技術，降低曝光治具的設計時間，降低曝光治具的制作成本，提高曝光操作效率，不會造成曝光治具堆積，避免操作者誤用曝光治具。
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1.一種通用曝光治具，其特征在于，包括底座部件、基底固定部件；
2.根據權利要求1所述的通用曝光治具，其特征在于，
3.根據權利要求2所述的通用曝光治具，其特征在于，還包括軸承；
4.根據權利要求1所述的通用曝光治具，其特征在于，
5.根據權利要求4所述的通用曝光治具，其特征在于，所述安裝通孔靠近所述待曝光基底的待曝光面的一端向內部延伸形成第一限位部，第一限位部對所述待曝光基底的待曝光面的邊緣位置進行接觸限位。
6.根據權利要求4所述的通用曝光治具，其特征在于，還包括第一壓接組件；
7.根據權利要求4所述的通用曝光治具，其特征在于，還包括第一壓接組件；
8.根據權利要求1所述的通用曝光治具，其特征在于，所述基底固定部件位于所述待曝光基底的非曝光面的一側設置刻度線。
9.根據權利要求2所述的通用曝光治具，其特征在于，還包括第二壓接組件；
10.根據權利要求4所述的通用曝光治具，其特征在于，所述基底固定部件靠近所述安裝通孔的位置開設取放槽，所述取放槽靠近所述安裝通孔的側壁頂端與
11.根據權利要求3所述的通用曝光治具，其特征在于，所述圓形通孔靠近所述待曝光基底的待曝光面的一側向內部延伸形成第二限位部，第二限位部對所述軸承的外環邊緣進行接觸限位。
12.根據權利要求3所述的通用曝光治具，其特征在于，所述底座部件上開設第八連接通孔，所述第八連接通孔內設置螺紋；
13.根據權利要求3所述的通用曝光治具，其特征在于，還包括卡接組件；
...【技術特征摘要】
1.一種通用曝光治具，其特征在于，包括底座部件、基底固定部件；
2.根據權利要求1所述的通用曝光治具，其特征在于，
3.根據權利要求2所述的通用曝光治具，其特征在于，還包括軸承；
4.根據權利要求1所述的通用曝光治具，其特征在于，
5.根據權利要求4所述的通用曝光治具，其特征在于，所述安裝通孔靠近所述待曝光基底的待曝光面的一端向內部延伸形成第一限位部，第一限位部對所述待曝光基底的待曝光面的邊緣位置進行接觸限位。
6.根據權利要求4所述的通用曝光治具，其特征在于，還包括第一壓接組件；
7.根據權利要求4所述的通用曝光治具，其特征在于，還包括第一壓接組件；
8.根據權利要求1所述的通用曝光治具，其特征在于，所述基底固定...
【專利技術屬性】
技術研發人員：孫逸享，冒新宇，
申請(專利權)人：北京至格科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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