【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本技術涉薄膜蒸鍍領域，具體涉及一種蒸發(fā)容器、蒸發(fā)源、鍍膜設備和薄膜產品。
技術介紹
1、鍍膜設備是一種工業(yè)裝置，用于在基材上形成薄膜或涂層，通過將涂層材料加熱至蒸發(fā)點，使其蒸發(fā)并在基材表面凝結。這種技術廣泛應用于電子、光學、裝飾和防護涂層等領域。
2、蒸鍍過程通常在真空環(huán)境中進行，以減少涂層材料與空氣中雜質的相互作用，從而提高涂層的質量和純度。在鍍膜設備中，蒸發(fā)源是核心組件之一，它負責提供足夠的熱量將涂層材料加熱至蒸發(fā)狀態(tài)。
3、但是，當前的蒸發(fā)源中坩堝加熱效率不高。
技術實現(xiàn)思路
1、有鑒于此，本技術實施例的目的在于提供一種蒸發(fā)容器、蒸發(fā)源、鍍膜設備和薄膜產品，以解決當前蒸發(fā)源中的坩堝加熱效率不高的技術問題。
2、為達上述目的，第一方面，本技術實施例提供了一種蒸發(fā)容器，所述蒸發(fā)容器具有用于容納待蒸鍍材料的容納腔，所述容納腔的頂端具有開口，所述容納腔的壁體上設置有涂層，所述涂層的發(fā)射率小于0.9。
3、在一些可能的實施方式中，所述蒸發(fā)容器包括坩堝，所述坩堝內表面設置有涂層，所述涂層的發(fā)射率小于0.5。
4、第二方面，本技術實施例提供了一種蒸發(fā)源，其包括：
5、根據(jù)第一方面所述的蒸發(fā)容器，以及用于容納所述蒸發(fā)容器并對所述蒸發(fā)容器進行加熱的加熱容器。
6、在一些可能的實施方式中，所述的蒸發(fā)源還包括：石墨紙，設置在所述蒸發(fā)容器的外側周圍，所述石墨紙的發(fā)射率為大于等于0.3且小于1；保溫棉，設置在在所述石墨
7、在一些可能的實施方式中，所述蒸發(fā)容器包括坩堝，所述坩堝包括如下中的任意一項或多項特征：
8、所述坩堝的直徑為20mm-200mm；
9、所述坩堝的形狀為圓柱形，中間中空且頂部開口；
10、所述坩堝的內側表面設置的一層涂層包括：氮化鋁防護涂層、氮化硅防護涂層或者氧化鋁防護涂層；
11、所述坩堝由石墨、氮化硼、氮化鋁、金屬合金中的至少一種材料制成。
12、在一些可能的實施方式中，所述防護涂層的厚度為3nm-1um；所述加熱容器包括石墨加熱容器。
13、第三方面，本技術實施例提供了一種鍍膜設備，其包括：真空腔體以及設置于所述真空腔體內的如下部件：
14、用于放卷原膜的放卷裝置；
15、用于在蒸鍍過程中對經(jīng)過的原膜進行冷卻的冷卻主輥；
16、根據(jù)第二方面所述的蒸發(fā)源，設置在所述冷卻主輥之下，用于對所述原膜進行蒸鍍；
17、用于對蒸鍍后的原膜進行收卷的收卷裝置。
18、在一些可能的實施方式中，所述原膜為聚乙烯、聚丙烯、乙烯丙烯共聚物、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酰對苯二胺、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、聚對苯二甲酰對苯二胺、聚丙乙烯、聚甲醛、環(huán)氧樹脂、酚醛樹脂、聚四氟乙烯、聚偏氟乙烯、硅橡膠和聚碳酸酯中的一種。
19、第四方面，本技術實施例提供了由第三方面所述的鍍膜設備生產的薄膜產品，其包括：原膜和形成在所述原膜上的涂層。
20、在一些可能的實施方式中，所述涂層的厚度為10nm-1000nm，所述薄膜產品的總厚度為3um-8um，所述原膜的厚度為3um-8um；和/或，
21、所述涂層為金屬或非金屬，所述金屬包括銅、鋁、鋁合金、鎳合金、鈦合金、鎳合金中的至少一種，所述非金屬包括氮化鋁、碳化硅、氮化硅或聚乙二醇類。
22、上述技術方案具有如下有益效果：
23、本實施例的坩堝保溫效果好，使加熱速率更快。本實施例的坩堝內部的涂層的發(fā)射率可以為小于0.9，優(yōu)選為小于0.5，這樣當坩堝內部的發(fā)射率小于0.9時，其可以起到更好的保溫吸熱保溫效果，當坩堝內部放滿需要熔融揮發(fā)的材料時，也就是在加熱開始階段，具有上述發(fā)射率的坩堝能夠更好的起著保溫的效果，使得材料被快速加熱，提高加熱速率。
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1.一種蒸發(fā)容器(10)，其特征在于，所述蒸發(fā)容器(10)具有用于容納待蒸鍍材料的容納腔(11)，所述容納腔(11)的頂端具有開口，所述容納腔(11)的壁體上設置有涂層(12)，所述涂層(12)的發(fā)射率小于0.9。
2.根據(jù)權利要求1所述的蒸發(fā)容器(10)，其特征在于，所述容納腔(11)包括側壁體和底壁體，所述側壁體與所述底壁體相連接，所述側壁體和所述底壁體的表面上均設置有所述涂層(12)；或者，
3.一種蒸發(fā)源(100)，其特征在于，包括：根據(jù)權利要求1或2所述的蒸發(fā)容器(10)，以及用于容納所述蒸發(fā)容器(10)并對所述蒸發(fā)容器(10)進行加熱的加熱容器(30)。
4.根據(jù)權利要求3所述的蒸發(fā)源(100)，其特征在于，還包括：
5.根據(jù)權利要求3所述的蒸發(fā)源(100)，其特征在于，所述蒸發(fā)容器(10)包括坩堝，所述坩堝包括如下中的任意一項或多項特征：
6.根據(jù)權利要求5所述的蒸發(fā)源(100)，其特征在于，所述防護涂層的厚度為3nm-1um；所述加熱容器(30)包括石墨加熱容器(30)。
7.一種鍍膜設備，其
8.根據(jù)權利要求7所述的鍍膜設備，其特征在于，所述原膜為聚乙烯、聚丙烯、乙烯丙烯共聚物、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酰對苯二胺、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、聚丙乙烯、聚甲醛、環(huán)氧樹脂、酚醛樹脂、聚四氟乙烯、聚偏氟乙烯、硅橡膠和聚碳酸酯中的一種。
9.一種由權利要求7所述的鍍膜設備生產的薄膜產品，其特征在于，包括：原膜和形成在所述原膜上的涂層。
10.根據(jù)權利要求9所述的薄膜產品，其特征在于，所述原膜上的涂層的厚度為10nm-1000nm，所述薄膜產品的總厚度為3um-8um，所述原膜的厚度為3um-8um；和/或，
...【技術特征摘要】
1.一種蒸發(fā)容器(10)，其特征在于，所述蒸發(fā)容器(10)具有用于容納待蒸鍍材料的容納腔(11)，所述容納腔(11)的頂端具有開口，所述容納腔(11)的壁體上設置有涂層(12)，所述涂層(12)的發(fā)射率小于0.9。
2.根據(jù)權利要求1所述的蒸發(fā)容器(10)，其特征在于，所述容納腔(11)包括側壁體和底壁體，所述側壁體與所述底壁體相連接，所述側壁體和所述底壁體的表面上均設置有所述涂層(12)；或者，
3.一種蒸發(fā)源(100)，其特征在于，包括：根據(jù)權利要求1或2所述的蒸發(fā)容器(10)，以及用于容納所述蒸發(fā)容器(10)并對所述蒸發(fā)容器(10)進行加熱的加熱容器(30)。
4.根據(jù)權利要求3所述的蒸發(fā)源(100)，其特征在于，還包括：
5.根據(jù)權利要求3所述的蒸發(fā)源(100)，其特征在于，所述蒸發(fā)容器(10)包括坩堝，所述坩堝包括如下中的任意一項或多項特征：
6.根...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：臧世偉，
申請(專利權)人：深圳金美新材料科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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