【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及電化學合成，特別涉及一種具有流場調節組件的電解槽。
技術介紹
1、隨著電化學技術的發展，其不僅在氯堿工業、強氧化劑、高活性金屬氧化物等無機化合物的工業化合成中有著廣泛的應用，在有機化合物的制備中也有不少的應用。電化學合成中電極作為電子的受體或給體避免了一些有害和危險的化學氧化還原試劑的使用，在一定程度上減少了化學廢棄物的產生，并提高了生產的安全性。電化學合成需要電解槽，其與傳統的化學反應所用的設備有所區別。電解池分為兩種：一種是無隔膜電解槽，陽極和陰極置于同一容器內；另外一種是隔膜電解槽，即陽極和陰極被隔膜分隔開，以防止陰陽極的反應相互影響。
2、目前現有的電解槽流場控制形式單一，僅能通過進出口數據進行分析內部流場，而電解過程中產生的氣泡對反應液在內部的流場分布及循環效果十分重要，為解決氣泡對流場的不利影響，增強電解反應的傳質性能，及時排出氣泡或根據氣泡大小和流速改變流場分布是有效的措施。因此，開發一種能夠調節流場結構的電解槽，并通過直觀觀察不同流場分布的影響，以研究電化學反應動力學及滿足電化學合成中高效性、高穩定性、高安全性、低運行成本的需求，是本領域的研究重點。
技術實現思路
1、為此，本專利技術提出一種具有流場調節組件的電解槽，可方便調節電解槽的流場。
2、針對上述技術問題，本專利技術提供如下技術方案：
3、一種電解槽，包括分別位于隔膜板兩側的第一電解槽體與第二電解槽體，所述第一電解槽體包括陽極室，所述第二電解槽體包括陰極室，
4、本專利技術的部分實施方式中，所述流場調節組件的支撐框分別嵌設于所述陽極室與所述陰極室的內側，所述支撐框上設有滑動支撐部，所述折流板可滑動地連接于所述滑動支撐部上。
5、本專利技術的部分實施方式中，所述支撐框相對設置的兩側壁上分別設有至少兩組所述滑動支撐部，兩組所述滑動支撐部沿豎向排列且分別成型為沿水平方向延伸設置的滑槽，所述折流板的上下兩側分別滑動連接于兩組所述滑動支撐部上。
6、本專利技術的部分實施方式中，所述流場調節組件包括位于陽極室內的第一流場調節組件與位于陰極室的第二流場調節組件，所述第一流場調節組件包括一個所述折流板和兩組所述滑動支撐部，所述折流板的上下兩側分別滑動連接于位于支撐框上的兩組所述滑動支撐部上；所述第二流場調節組件包括多個所述折流板以及多組所述滑動支撐部，每一個折流板的上下兩側分別滑動連接于位于支撐框上的兩組所述滑動支撐部上。
7、本專利技術的部分實施方式中，所述支撐外殼包括支撐圍框以及覆蓋于支撐圍框的一側的蓋板組件，所述蓋板組件包括蓋板框以及透明蓋板，所述透明蓋板密封嵌設于所述蓋板框與所述支撐圍框之間。
8、本專利技術的部分實施方式中，所述透明蓋板與所述蓋板框之間，所述透明蓋板與所述支撐圍框之間分別通過框式密封墊片密封連接。
9、本專利技術的部分實施方式中，所述第一電解槽體還包括位于所述陽極室上側并與之連通的第一氣液分離室，所述第二電解槽體還包括位于所述陰極室上側并與之連通的第二氣液分離室。
10、本專利技術的部分實施方式中，所述支撐框上設有隔板，所述隔板將所述支撐框分隔為上下布置且互相連通的第一區域與第二區域；所述第一流場調節組件的支撐框插接于所述支撐外殼內時，所述支撐框的第二區域形成所述陽極室，所述支撐框的第一區域形成所述第一氣液分離室；所述第二流場調節組件的支撐框插接于所述支撐外殼內時，所述支撐框的第二區域形成所述陰極室，所述支撐框的第一區域形成所述第二氣液分離室。
11、本專利技術的部分實施方式中，所述支撐框的上側區域設有沿豎向延伸的第一擋板，所述隔板上側設置沿豎向延伸的第二擋板，所述第一擋板與所述第二擋板互相平行且兩者之間形成流體通道，所述流體通道內設有氣液分離器。
12、本專利技術的部分實施方式中，所述陽極室通過第一進液管進液，所述陰極室通過第二進液管進液，所述第一進液管穿設于第一電解槽體的支撐外殼與所述第一流場調節組件的支撐框上，所述第二進液管穿設于第二電解槽體的支撐外殼與所述第二流場調節組件的支撐框上，所述第一進液管與所述第二進液管的位于所述支撐外殼內側的端部封閉，且第一進液管與所述第二進液管的管壁上設有至少一個進液孔。
13、本專利技術的部分實施方式中，所述第一氣液分離室通過第一排氣管排氣，所述第二氣液分離室通過第二排氣管排氣，所述第一排氣管穿設于第一電解槽體的支撐外殼與所述第一流場調節組件的支撐框上，所述第二排氣管穿設于第二電解槽體的支撐外殼與所述第二流場調節組件的支撐框上。
14、本專利技術的技術方案相對現有技術具有如下技術效果：
15、本專利技術提供的電解槽中，通過將支撐外殼的部分區域設置為透明狀態，可直觀觀察到在通電狀態下，不同流場對反應的影響，更加方便研究電解槽內部的電化學反應動力學模型，提高電流效率和傳質效率，并延長電解膜的壽命；同時，在陽極室與陰極室內分別設置可拆卸的流場調節組件，可以根據不同電解槽或不同有機反應的需求來加工適配的流場調節組件即可改變陽極室/陰極室的流場分布，無需改變電解槽體的結構，結構簡單，調節方便。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種電解槽，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的一種電解槽，其特征在于，所述流場調節組件的支撐框分別嵌設于所述陽極室與所述陰極室的內側，所述支撐框上設有滑動支撐部，所述折流板可滑動地連接于所述滑動支撐部上。
3.根據權利要求2所述的一種電解槽，其特征在于，所述支撐框相對設置的兩側壁上分別設有至少兩組所述滑動支撐部，兩組所述滑動支撐部沿豎向排列且分別成型為沿水平方向延伸設置的滑槽，所述折流板的上下兩側分別滑動連接于兩組所述滑動支撐部上。
4.根據權利要求3所述的一種電解槽，其特征在于，所述流場調節組件包括位于陽極室內的第一流場調節組件與位于陰極室的第二流場調節組件，所述第一流場調節組件包括一個所述折流板和兩組所述滑動支撐部，所述折流板的上下兩側分別滑動連接于位于支撐框上的兩組所述滑動支撐部上；所述第二流場調節組件包括多個所述折流板以及多組所述滑動支撐部，每一個折流板的上下兩側分別滑動連接于位于支撐框上的兩組所述滑動支撐部上。
5.根據權利要求1所述的一種電解槽，其特征在于，所述支撐外殼包括支撐圍框以及覆蓋于支撐圍框的一側的
6.根據權利要求4所述的一種電解槽，其特征在于，所述第一電解槽體還包括位于所述陽極室上側并與之連通的第一氣液分離室，所述第二電解槽體還包括位于所述陰極室上側并與之連通的第二氣液分離室。
7.根據權利要求6所述的一種電解槽，其特征在于，所述支撐框上設有隔板，所述隔板將所述支撐框分隔為上下布置且互相連通的第一區域與第二區域；所述第一流場調節組件的支撐框插接于所述支撐外殼內時，所述支撐框的第二區域形成所述陽極室，所述支撐框的第一區域形成所述第一氣液分離室；所述第二流場調節組件的支撐框插接于所述支撐外殼內時，所述支撐框的第二區域形成所述陰極室，所述支撐框的第一區域形成所述第二氣液分離室。
8.根據權利要求7所述的一種電解槽，其特征在于，所述支撐框的上側區域設有沿豎向延伸的第一擋板，所述隔板上側設置沿豎向延伸的第二擋板，所述第一擋板與所述第二擋板互相平行且兩者之間形成流體通道，所述流體通道內設有氣液分離器。
9.根據權利要求4所述的一種電解槽，其特征在于，所述陽極室通過第一進液管進液，所述陰極室通過第二進液管進液，所述第一進液管穿設于第一電解槽體的支撐外殼與所述第一流場調節組件的支撐框上，所述第二進液管穿設于第二電解槽體的支撐外殼與所述第二流場調節組件的支撐框上，所述第一進液管與所述第二進液管的位于所述支撐外殼內側的端部封閉，且第一進液管與所述第二進液管的管壁上設有至少一個進液孔。
10.根據權利要求6所述的一種電解槽，其特征在于，所述第一氣液分離室通過第一排氣管排氣，所述第二氣液分離室通過第二排氣管排氣，所述第一排氣管穿設于第一電解槽體的支撐外殼與所述第一流場調節組件的支撐框上，所述第二排氣管穿設于第二電解槽體的支撐外殼與所述第二流場調節組件的支撐框上。
...【技術特征摘要】
1.一種電解槽，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的一種電解槽，其特征在于，所述流場調節組件的支撐框分別嵌設于所述陽極室與所述陰極室的內側，所述支撐框上設有滑動支撐部，所述折流板可滑動地連接于所述滑動支撐部上。
3.根據權利要求2所述的一種電解槽，其特征在于，所述支撐框相對設置的兩側壁上分別設有至少兩組所述滑動支撐部，兩組所述滑動支撐部沿豎向排列且分別成型為沿水平方向延伸設置的滑槽，所述折流板的上下兩側分別滑動連接于兩組所述滑動支撐部上。
4.根據權利要求3所述的一種電解槽，其特征在于，所述流場調節組件包括位于陽極室內的第一流場調節組件與位于陰極室的第二流場調節組件，所述第一流場調節組件包括一個所述折流板和兩組所述滑動支撐部，所述折流板的上下兩側分別滑動連接于位于支撐框上的兩組所述滑動支撐部上；所述第二流場調節組件包括多個所述折流板以及多組所述滑動支撐部，每一個折流板的上下兩側分別滑動連接于位于支撐框上的兩組所述滑動支撐部上。
5.根據權利要求1所述的一種電解槽，其特征在于，所述支撐外殼包括支撐圍框以及覆蓋于支撐圍框的一側的蓋板組件，所述蓋板組件包括蓋板框以及透明蓋板，所述透明蓋板與所述蓋板框之間，所述透明蓋板與所述支撐圍框之間分別通過框式密封墊片密封連接。
6.根據權利要求4所述的一種電解槽，其特征在于，所述第一電解槽體還包括位于所述陽極室上側并與之連通的第一氣液分離室，所述第二電解槽體還包括位于所述陰極室上側并與之連通的第二氣液分離室。
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉宇，吳傳軍，張權，丁雷，姜勝林，郭子敬，
申請(專利權)人：萬華化學集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。