【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本申請(qǐng)涉及計(jì)算光刻學(xué)中的反演光刻和光學(xué)臨近校正，特別是涉及一種基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法和系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
1、在半導(dǎo)體制造技術(shù)的飛速發(fā)展中，集成電路的設(shè)計(jì)日益復(fù)雜，其掩模版圖數(shù)據(jù)量激增至億級(jí)。在這一背景下，掩模二值化的作用尤為顯著，它確保了光刻過(guò)程中圖案能以極高的精確度從掩模轉(zhuǎn)移到硅片，這一步驟對(duì)于精確復(fù)制集成電路中的微觀特征至關(guān)重要。此外，使用電子束光刻機(jī)制造掩模決定了光學(xué)臨近校正需要輸出二值化掩模到掩模數(shù)據(jù)準(zhǔn)備流程。因此，掩模二值化不僅是提升生產(chǎn)效率、確保產(chǎn)品質(zhì)量、保證可制造性的關(guān)鍵，也是推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)創(chuàng)新的重要驅(qū)動(dòng)力。
2、在掩模二值化的過(guò)程中，涉及到了將灰度值掩模轉(zhuǎn)換為僅包含完全透明和完全不透明兩種狀態(tài)的二值形式。這一轉(zhuǎn)換對(duì)于滿足工業(yè)生產(chǎn)中的標(biāo)準(zhǔn)至關(guān)重要。然而，目前傳統(tǒng)的掩模二值化技術(shù)，都依賴于單一閾值方法，從而導(dǎo)致掩模制造的精度較低，最終得到的掩模成像不準(zhǔn)確。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)的目的是提供一種基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法和系統(tǒng)，可以提高掩模成像的精度。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本申請(qǐng)?zhí)峁┝巳缦路桨浮?/p>
3、第一方面，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，所述基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法包括以下步驟。
4、獲取初始掩模圖像；所述初始掩模圖像為對(duì)目標(biāo)掩模進(jìn)行初始化后得到的掩模圖像，所述目標(biāo)掩模為待處理的掩模。
5、采用ctm算法對(duì)所述初始掩模圖像進(jìn)行優(yōu)化處理，得到包含sraf
6、根據(jù)所述包含srafs的灰度值掩模中各個(gè)區(qū)域的灰度值，對(duì)所述包含srafs的灰度值掩模進(jìn)行區(qū)域劃分，得到區(qū)域劃分后的灰度值掩模。
7、采用自適應(yīng)閾值正則化算法，對(duì)所述區(qū)域劃分后的灰度值掩模中的各個(gè)區(qū)域進(jìn)行動(dòng)態(tài)閾值調(diào)整優(yōu)化，得到包含srafs的二值化掩模；所述動(dòng)態(tài)閾值調(diào)整優(yōu)化指的是通過(guò)自適應(yīng)調(diào)整參數(shù)a的方式，調(diào)整所述區(qū)域劃分后的灰度值掩模中各個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)的閾值，從而確定每個(gè)區(qū)域的最佳閾值；所述參數(shù)a指的是所述自適應(yīng)閾值正則化算法中正則化函數(shù)中的一個(gè)參數(shù)。
8、第二方面，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻系統(tǒng)，包括：存儲(chǔ)器、處理器以及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上并可在處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序，所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序以實(shí)現(xiàn)第一方面所述的基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法。
9、根據(jù)本申請(qǐng)?zhí)峁┑木唧w實(shí)施例，本申請(qǐng)公開(kāi)了以下技術(shù)效果。
10、本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法和系統(tǒng)，通過(guò)ctm算法對(duì)初始掩模圖像進(jìn)行優(yōu)化得到包含srafs的灰度值掩模，這種基于ctm算法的優(yōu)化過(guò)程，可以初步保證掩模成像的準(zhǔn)確性。通過(guò)對(duì)包含srafs的灰度值掩模進(jìn)行區(qū)域劃分，以便于對(duì)包含srafs的灰度值掩模中各個(gè)區(qū)域進(jìn)行閾值調(diào)整，通過(guò)引入正則化函數(shù)中的參數(shù)a，采用自適應(yīng)調(diào)整參數(shù)a的方式來(lái)調(diào)整區(qū)域劃分后的灰度值掩模中各個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)的閾值，從而確定出每個(gè)區(qū)域的最佳閾值，進(jìn)而最終得到更加準(zhǔn)確、可靠的包含srafs的二值化掩模，通過(guò)該方法可以提高每個(gè)區(qū)域的細(xì)節(jié)，從而反映整體掩模的特征，提高掩模成像的精度。
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1.一種基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，其特征在于，所述基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，其特征在于，獲取初始掩模圖像，具體包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，其特征在于，采用CTM算法對(duì)所述初始掩模圖像進(jìn)行優(yōu)化處理，得到包含SRAFs的灰度值掩模，具體包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，其特征在于，所述CTM算法的損失函數(shù)為模式誤差。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，其特征在于，所述損失函數(shù)的表達(dá)式為：
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，其特征在于，采用自適應(yīng)閾值正則化算法，對(duì)所述區(qū)域劃分后的灰度值掩模中的各個(gè)區(qū)域進(jìn)行動(dòng)態(tài)閾值調(diào)整優(yōu)化，得到包含SRAFs的二值化掩模，具體包括：
7.一種基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻系統(tǒng)，包括：存儲(chǔ)器、處理器以及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上并可在處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述處理器執(zhí)行所述
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，其特征在于，所述基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，其特征在于，獲取初始掩模圖像，具體包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，其特征在于，采用ctm算法對(duì)所述初始掩模圖像進(jìn)行優(yōu)化處理，得到包含srafs的灰度值掩模，具體包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于自適應(yīng)閾值正則化的反演光刻方法，其特征在于，所述ctm算法的損失函數(shù)為模式誤差。
5.根據(jù)權(quán)利要...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：沈逸江，何文靖，劉家樂(lè)，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：廣東工業(yè)大學(xué)，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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