【技術實現步驟摘要】
本申請涉及半導體檢測，尤其涉及一種帶電粒子束成像裝置。
技術介紹
1、帶電粒子束檢測和成像設備在半導體產業中廣泛應用，例如包括掃描電子顯微鏡、環境掃描電子顯微鏡、電子束缺陷檢測設備、電子束關鍵尺寸量測設備、聚焦離子束顯微鏡、雙束顯微鏡等。為了保證帶電粒子束產生部分（一般稱為電子槍、離子槍）的穩定工作和使用壽命、提高成像質量等，需要盡量提高帶電粒子束路徑區域環境的真空度，一般要求高真空到超高真空水平。另一方面，處于樣品保持需要或實際檢測速度需要，樣品所在區域的真空度可能較低。因此，在設計帶電粒子束成像裝置或設備時，需要采用梯度真空設計（又稱為差值真空），即通過采用多個真空腔體、真空泵以及真空隔離模塊等設計，實現并保持不同區域的真空度差異。
2、多個相連的真空腔體之間會設置孔徑固定的孔結構來連通，孔徑一般在毫米級以內，用于限制氣體擴散，從而實現不同腔體區域內部的真空度。因此，相連的真空腔體之間的真空梯度為固定值，限制了帶電粒子束檢測成像設備的適用范圍。
技術實現思路
1、本申請實施例提供了一種帶電粒子束成像裝置，能夠增加帶電粒子束成像裝置的適用范圍。
2、本申請實施例提供了一種帶電粒子束成像裝置，包括：殼體，包括多個腔體，沿平行于帶電粒子束成像裝置的光軸的方向，多個腔體連通；可移動光闌，設置于殼體內，且位于相鄰的兩個腔體之間，可移動光闌包括主體部，主體部設有多個光闌孔，多個光闌孔的孔徑互不相等；主體部可移動設置，以便將任一光闌孔移動至光軸處，以使可移動光闌兩測的
3、根據本申請實施例，多個光闌孔沿垂直光軸的方向排列，主體部沿垂直于光軸的方向可平移設置，光闌孔的排列方向和主體部的移動方向平行。
4、根據本申請實施例，殼體還包括間隔部，間隔部位于相鄰的兩個腔體之間，主體部位于間隔部沿平行于光軸的方向的一側；主體部與間隔部之間設有至少一個密封圈；沿平行于光軸的方向，密封圈的正投影環繞光闌孔的正投影。
5、根據本申請實施例，間隔部沿光軸的方向朝向主體部的一側，以及主體部沿光軸的方向朝向間隔部的一側，至少一者設有密封槽，密封圈的至少一部分嵌入密封槽。
6、根據本申請實施例，可移動光闌還包括定位組件，定位組件沿垂直光軸的方向可平移設置；沿主體部的移動方向，定位組件和主體部可抵接設置。
7、根據本申請實施例，殼體還包括間隔部，間隔部位于相鄰的兩個腔體之間，主體部位于間隔部沿平行于光軸的方向的一側；定位組件包括定位部，定位部沿垂直光軸的方向可平移設置；定位部具有第一定位面，第一定位面與光軸的夾角呈銳角，第一定位面與主體部可抵接設置，和/或，主體部具有第二定位面，第二定位面與光軸的夾角呈銳角，第二定位面與定位部可抵接設置，以便定位部對主體部施加作用力，以使主體部緊貼間隔部。
8、根據本申請實施例，第一定位面設有第一緩沖部，和/或，第二定位面設有第二緩沖部。
9、根據本申請實施例，第一定位面設有第一滾輪，第一滾輪的輪軸與光軸垂直，且與主體部的移動方向垂直；和/或，第二定位面設有第二滾輪，第二滾輪的輪軸與光軸垂直，且與主體部的移動方向垂直。
10、根據本申請實施例，腔體包括第一腔體、第二腔體和第三腔體，第三腔體位于第一腔體和第二腔體之間；第一腔體和第三腔體之間、第三腔體和第二腔體之間均設有可移動光闌；帶電粒子束成像裝置還包括：束源、探測組件和工件臺；束源設置于第一腔體，沿光軸的方向朝第二腔體發出帶電粒子束；探測組件設置于第三腔體內；工件臺設置于工件臺。
11、根據本申請實施例，探測組件包括：第一探測器和第二探測器；第一探測器，具有第一探測面，第一探測面與光軸垂直；第二探測器，具有第二探測面，第一探測面與光軸的夾角呈銳角；和/或，帶電粒子束成像裝置還包括多個真空泵組，真空泵組與腔體連通，相鄰的兩個腔體的真空度不相等。
12、本申請實施例提供的帶電粒子束成像裝置中，帶電粒子束成像裝置的可移動光闌設置在殼體內，且位于殼體內相鄰的兩個腔體之間?？梢苿庸怅@的主體部設有多個孔徑不同的光闌孔，通過移動主體部，可以使任一光闌孔移動至本申請實施例的帶電粒子束成像裝置光軸處。當某一個光闌孔移動至光軸處時，可移動光闌兩測的兩個腔體通過該光闌孔連通，帶電粒子束沿光軸的方向可以穿過該光闌孔，同時，兩個相鄰的腔體之間的真空度差值與該光闌孔的孔徑呈負相關。因此，在使帶電粒子束正常穿過光闌孔的前提下，可以通過使不同孔徑的光闌孔移動至光軸處，來調整兩個相鄰的腔體之間的真空度差值，使得本申請實施例的帶電粒子束成像裝置可以適用于多種不同的被測樣品的檢測，增加了本申請實施例的帶電粒子束成像裝置的適用范圍。
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1.一種帶電粒子束成像裝置，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，多個所述光闌孔沿垂直所述光軸的方向排列，所述主體部沿垂直于所述光軸的方向可平移設置，所述光闌孔的排列方向和所述主體部的移動方向平行。
3.根據權利要求2所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述殼體還包括間隔部，所述間隔部位于相鄰的兩個所述腔體之間，所述主體部位于所述間隔部沿平行于所述光軸的方向的一側；
4.根據權利要求3所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述間隔部沿所述光軸的方向朝向所述主體部的一側，以及所述主體部沿所述光軸的方向朝向所述間隔部的一側，至少一者設有密封槽，所述密封圈的至少一部分嵌入所述密封槽。
5.根據權利要求2所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述可移動光闌還包括定位組件，所述定位組件沿垂直所述光軸的方向可平移設置；沿所述主體部的移動方向，所述定位組件和所述主體部可抵接設置。
6.根據權利要求5所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述殼體還包括間隔部，所述間隔部位于相鄰的兩個所述腔體之間，
7.根據權利要求6所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述第一定位面設有第一緩沖部，和/或，所述第二定位面設有第二緩沖部。
8.根據權利要求6所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述第一定位面設有第一滾輪，所述第一滾輪的輪軸與所述光軸垂直，且與所述主體部的移動方向垂直；
9.根據權利要求1所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述腔體包括第一腔體、第二腔體和第三腔體，所述第三腔體位于所述第一腔體和所述第二腔體之間；所述第一腔體和所述第三腔體之間、所述第三腔體和所述第二腔體之間均設有所述可移動光闌；
10.根據權利要求9所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述探測組件包括：第一探測器和第二探測器；
...【技術特征摘要】
1.一種帶電粒子束成像裝置，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，多個所述光闌孔沿垂直所述光軸的方向排列，所述主體部沿垂直于所述光軸的方向可平移設置，所述光闌孔的排列方向和所述主體部的移動方向平行。
3.根據權利要求2所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述殼體還包括間隔部，所述間隔部位于相鄰的兩個所述腔體之間，所述主體部位于所述間隔部沿平行于所述光軸的方向的一側；
4.根據權利要求3所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述間隔部沿所述光軸的方向朝向所述主體部的一側，以及所述主體部沿所述光軸的方向朝向所述間隔部的一側，至少一者設有密封槽，所述密封圈的至少一部分嵌入所述密封槽。
5.根據權利要求2所述的帶電粒子束成像裝置，其特征在于，所述可移動光闌還包括定位組件，所述定位組件沿垂直所述光軸的方向可平移設置；沿所述主體部的移動方向，所述定位組件和所述主體部可...
【專利技術屬性】
技術研發人員：孫偉強，
申請(專利權)人：東方晶源微電子科技北京股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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