【技術實現步驟摘要】
本申請涉及半導體加工設備，具體而言，涉及一種側向定位機構。
技術介紹
1、對晶片(硅晶片等)進行研磨是制作半導體裝置等的工序之一。相關技術在對晶圓進行研磨時，通常先將晶圓放置在承載盤(例如陶瓷盤)上，再將承載盤放置在研磨盤上，通過研磨頭對晶圓進行打磨拋光。而在將帶有晶圓的承載盤放置在研磨盤上時，經常發生陶瓷盤沒有對準研磨頭的現象，導致研磨效率較低、研磨效果較差。
技術實現思路
1、本申請的目的在于提供一種側向定位機構，旨在解決相關技術中在將帶有晶圓的陶瓷盤放置在研磨盤上時發生陶瓷盤沒有對準研磨頭的現象，導致研磨效率較低、研磨效果較差的問題。
2、本申請的額外方面和優點將部分地在下面的描述中闡述，并且部分地將從描述中變得顯然，或者可以通過本申請的實踐而習得。
3、根據本申請的第一方面，提供一種側向定位機構，包括：
4、基座；
5、定位軸，可上下滑動地安裝在所述基座上；
6、導向輪，安裝在所述定位軸遠離所述基座的端部，所述導向輪具有隨所述定位軸向下滑動，移動至所述研磨盤上的工作位置以及隨所述定位軸向上滑動，向上移動離開所述研磨盤的非工作位置，在所述工作位置，所述導向輪與設置在所述研磨盤上的定位輪配合以對放置在所述研磨盤上的晶圓承載盤進行定位。
7、在本申請的一種示例性實施例中，所述定位輪位于所述研磨盤的中心位置，所述導向輪處于所述工作位置時位于所述研磨盤的圓周邊緣處，在所述工作位置，所述導向輪與所述定位輪的水平間距
8、在本申請的一種示例性實施例中，所述導向輪在所述定位軸的所述端部的安裝位置設置為可水平調節。
9、在本申請的一種示例性實施例中，所述導向輪通過滑動組件安裝在所述定位軸的端部，所述滑動組件包括第一定位支撐板和第二定位支撐板，所述第一定位支撐板固定安裝在所述定位軸的所述端部，所述第二定位支撐板可水平滑動地安裝在所述第一定位支撐板上，所述導向輪固定安裝在所述第二定位支撐板上。
10、在本申請的一種示例性實施例中，還包括有鎖定結構，設置在所述第一定位支撐板和/或第二支撐板上，所述鎖定結構設置為用于固定所述第一定位支撐板與第二固定支撐板之間的相對位置。
11、在本申請的一種示例性實施例中，還包括有定位護罩，所述定位護罩罩設在所述滑動組件的外側。
12、在本申請的一種示例性實施例中，所述基座包括底座和定位軸座，所述定位軸座安裝在所述底座上，所述定位軸可上下滑動地安裝在所述定位軸座內。
13、在本申請的一種示例性實施例中，還包括有驅動裝置，所述驅動裝置的驅動端伸進至所述定位軸座與所述定位軸的底端連接，所述驅動裝置設置為用于驅動所述定位軸在所述定位軸座內進行上下滑動；
14、所述定位軸座的側面開設有豎向延伸的導向槽；
15、所述定位軸的側面伸出有導向部，所述導向部滑動設置在所述導向槽內，所述定位軸的底端與所述驅動裝置的驅動端連接。
16、在本申請的一種示例性實施例中，所述導向槽包括豎直段和連接在所述豎直段上方的傾斜段，所述傾斜段朝遠離所述研磨盤的方向傾斜；所述定位軸的所述底端與所述驅動裝置的所述驅動端通過浮動接頭連接，以使所述導向部與所述傾斜段配合時，所述定位軸及導向輪能夠相對所述驅動裝置的所述驅動端朝靠近或遠離所述研磨盤的方向擺動。
17、在本申請的一種示例性實施例中，所述驅動裝置為氣缸；和/或，所述導向部為滾輪，所述滾輪滾動設置在所述導向槽內。
18、本申請示例性實施例可以具有以下部分或全部有益效果：
19、在本申請示例實施方式所提供的側向定位機構中，定位軸可上下滑動地安裝在基座上，在定位軸的端部安裝有導向輪，導向輪位于研磨盤的圓周位置處，導向輪可以與研磨盤中心位置處的定位輪相配合以對研磨盤上的晶圓進行定位，機械手將晶圓承載盤放置在研磨盤上后，研磨盤旋轉過程中帶動承載盤一同進行旋轉移動，承載盤分別抵接至導向輪和定位輪上，導向輪和定位輪會阻擋承載盤跟隨研磨盤繼續轉動，承載盤會被限制在導向輪與定位輪處，從而實現對晶圓的定位，使得研磨頭每次都可以移動至導向輪與定位輪限制承載盤的位置，快速對準晶圓，對晶圓進行研磨，縮短了研磨頭與晶圓的對準時間，提高了晶圓的研磨效率，并且由于研磨頭與晶圓準確對準，從而也能提高研磨效果。
20、應當理解的是，以上的一般描述和后文的細節描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本申請。
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1.一種側向定位機構，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的側向定位機構，其特征在于，所述定位輪位于所述研磨盤的中心位置，所述導向輪處于所述工作位置時位于所述研磨盤的圓周邊緣處，在所述工作位置，所述導向輪與所述定位輪的水平間距小于所述承載盤的外徑。
3.根據權利要求1所述的側向定位機構，其特征在于，所述導向輪在所述定位軸的所述端部的安裝位置設置為可水平調節。
4.根據權利要求3所述的側向定位機構，其特征在于，所述導向輪通過滑動組件安裝在所述定位軸的端部，所述滑動組件包括第一定位支撐板和第二定位支撐板，所述第一定位支撐板固定安裝在所述定位軸的所述端部，所述第二定位支撐板可水平滑動地安裝在所述第一定位支撐板上，所述導向輪固定安裝在所述第二定位支撐板上。
5.根據權利要求4所述的側向定位機構，其特征在于，還包括有鎖定結構，設置在所述第一定位支撐板和/或第二支撐板上，所述鎖定結構設置為用于固定所述第一定位支撐板與第二固定支撐板之間的相對位置。
6.根據權利要求4-5中任一項所述的側向定位機構，其特征在于，還包括有定位護罩，
7.根據權利要求1所述的側向定位機構，其特征在于，所述基座包括底座和定位軸座，所述定位軸座安裝在所述底座上，所述定位軸可上下滑動地安裝在所述定位軸座內。
8.根據權利要求7所述的側向定位機構，其特征在于，還包括有驅動裝置，所述驅動裝置的驅動端伸進至所述定位軸座與所述定位軸的底端連接，所述驅動裝置設置為用于驅動所述定位軸在所述定位軸座內進行上下滑動；
9.根據權利要求8所述的側向定位機構，其特征在于，所述導向槽包括豎直段和連接在所述豎直段上方的傾斜段，所述傾斜段朝遠離所述研磨盤的方向傾斜；所述定位軸的所述底端與所述驅動裝置的所述驅動端通過浮動接頭連接，以使所述導向部與所述傾斜段配合時，所述定位軸及導向輪能夠相對所述驅動裝置的所述驅動端朝靠近或遠離所述研磨盤的方向擺動。
10.根據權利要求8所述的側向定位機構，其特征在于，所述驅動裝置為氣缸；和/或，所述導向部為滾輪，所述滾輪滾動設置在所述導向槽內。
...【技術特征摘要】
1.一種側向定位機構，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的側向定位機構，其特征在于，所述定位輪位于所述研磨盤的中心位置，所述導向輪處于所述工作位置時位于所述研磨盤的圓周邊緣處，在所述工作位置，所述導向輪與所述定位輪的水平間距小于所述承載盤的外徑。
3.根據權利要求1所述的側向定位機構，其特征在于，所述導向輪在所述定位軸的所述端部的安裝位置設置為可水平調節。
4.根據權利要求3所述的側向定位機構，其特征在于，所述導向輪通過滑動組件安裝在所述定位軸的端部，所述滑動組件包括第一定位支撐板和第二定位支撐板，所述第一定位支撐板固定安裝在所述定位軸的所述端部，所述第二定位支撐板可水平滑動地安裝在所述第一定位支撐板上，所述導向輪固定安裝在所述第二定位支撐板上。
5.根據權利要求4所述的側向定位機構，其特征在于，還包括有鎖定結構，設置在所述第一定位支撐板和/或第二支撐板上，所述鎖定結構設置為用于固定所述第一定位支撐板與第二固定支撐板之間的相對位置。
6.根據權利要求4-5中任一項...
【專利技術屬性】
技術研發人員：曾星明，郝元龍，寇明虎，
申請(專利權)人：北京特思迪半導體設備有限公司，
類型：新型
國別省市：
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