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    一種MOCVD設(shè)備及衛(wèi)星盤轉(zhuǎn)速的測(cè)量方法技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):44072448 閱讀:1 留言:0更新日期:2025-01-17 16:08
    本發(fā)明專利技術(shù)提供一種MOCVD設(shè)備,其包含一反應(yīng)腔,反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)有用于承載基片的行星盤,行星盤上設(shè)有多個(gè)旋轉(zhuǎn)單元,旋轉(zhuǎn)單元的邊緣設(shè)有至少一個(gè)標(biāo)記;MOCVD設(shè)備還包含:圖像采集裝置,用于采集旋轉(zhuǎn)單元的圖像;圖像采集裝置的視場(chǎng)范圍至少覆蓋標(biāo)記的部分運(yùn)動(dòng)軌跡;圖像采集參數(shù)調(diào)節(jié)模塊,用于調(diào)節(jié)圖像采集裝置的工作參數(shù);圖像處理模塊,其被配置為基于采集的帶標(biāo)記圖像,計(jì)算得到對(duì)應(yīng)旋轉(zhuǎn)單元的實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速。本發(fā)明專利技術(shù)還提供一種衛(wèi)星盤轉(zhuǎn)速的測(cè)量方法。本發(fā)明專利技術(shù)能夠獲得衛(wèi)星盤的實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速,該實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速能夠用于精確調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)衛(wèi)星盤自轉(zhuǎn)的氣流量,使基片表面溫度達(dá)到工藝需求,提高基片加工的良品率。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及半導(dǎo)體設(shè)備,特別涉及一種mocvd設(shè)備及衛(wèi)星盤轉(zhuǎn)速的測(cè)量方法。


    技術(shù)介紹

    1、cvd(chemical?vapor?deposition,化學(xué)氣相沉積),是指反應(yīng)物質(zhì)在氣態(tài)條件下在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過(guò)程,cvd設(shè)備就是在基片表面實(shí)現(xiàn)化學(xué)氣相沉積的設(shè)備。mocvd(metalorganic?chemical?vapor?deposition金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積)設(shè)備作為一種典型的cvd設(shè)備,能夠在基片表面生長(zhǎng)用于發(fā)光的晶體結(jié)構(gòu)時(shí),例如gan(氮化鎵),提供所需的溫度、壓力、化學(xué)氣體組分等條件。

    2、mocvd設(shè)備包含一反應(yīng)腔,反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)有旋轉(zhuǎn)的大石墨盤-行星盤,大石墨托盤上設(shè)有多個(gè)可以自轉(zhuǎn)的小石墨盤-衛(wèi)星盤,衛(wèi)星盤上可以放置基片。大石墨盤通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng),速度可控。衛(wèi)星盤通過(guò)氣流吹動(dòng)自轉(zhuǎn),通過(guò)調(diào)節(jié)氣流量來(lái)調(diào)節(jié)衛(wèi)星盤的自轉(zhuǎn)速度。由于氣流在行星盤的流動(dòng)行程存在差異,以及氣流的氣道容易產(chǎn)生顆粒物等因素,衛(wèi)星盤自轉(zhuǎn)的持續(xù)穩(wěn)定性較差、轉(zhuǎn)速很難保證一致。衛(wèi)星盤的自轉(zhuǎn)速度對(duì)衛(wèi)星盤溫度及基片溫度、基片表面生長(zhǎng)的薄膜的均勻性均會(huì)產(chǎn)生影響。若衛(wèi)星盤的自轉(zhuǎn)速度不符合工藝要求,將直接導(dǎo)致產(chǎn)品良率下降。

    3、因此,需要準(zhǔn)確測(cè)量衛(wèi)星盤的自轉(zhuǎn)速度,以便于調(diào)節(jié)氣流量。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、本專利技術(shù)的目的是提供一種mocvd設(shè)備及衛(wèi)星盤轉(zhuǎn)速的測(cè)量方法,根據(jù)采集的帶標(biāo)記圖像,實(shí)時(shí)獲得對(duì)應(yīng)旋轉(zhuǎn)單元的實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速。通過(guò)本專利技術(shù)解決了無(wú)法準(zhǔn)確測(cè)量旋轉(zhuǎn)單元自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速的技術(shù)問(wèn)題,能夠根據(jù)旋轉(zhuǎn)單元的實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速精確調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)單元自轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的氣流量,保證基片表面達(dá)到工藝所需的溫度,大大提高基片加工的良品率。

    2、為了達(dá)到上述目的,本專利技術(shù)提供一種mocvd設(shè)備,所述mocvd設(shè)備包含一反應(yīng)腔,所述反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)有用于承載基片的行星盤,所述行星盤上設(shè)有多個(gè)旋轉(zhuǎn)單元,所述旋轉(zhuǎn)單元的邊緣設(shè)有至少一個(gè)標(biāo)記;

    3、所述mocvd設(shè)備還包含:

    4、圖像采集裝置,用于采集所述旋轉(zhuǎn)單元的圖像;所述圖像采集裝置的視場(chǎng)范圍至少覆蓋所述標(biāo)記的部分運(yùn)動(dòng)軌跡;

    5、圖像采集參數(shù)調(diào)節(jié)模塊,用于調(diào)節(jié)所述圖像采集裝置的工作參數(shù);

    6、圖像處理模塊,其被配置為基于采集的帶標(biāo)記圖像,計(jì)算得到對(duì)應(yīng)旋轉(zhuǎn)單元的實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速;所述帶標(biāo)記圖像為包含所述標(biāo)記的所述圖像。

    7、可選的,從所述標(biāo)記進(jìn)入所述視場(chǎng)范圍至離開(kāi)所述視場(chǎng)范圍的第一時(shí)長(zhǎng)內(nèi),所述圖像采集裝置能夠采集到至少兩張包含同一標(biāo)記的所述帶標(biāo)記圖像。

    8、可選的,所述圖像處理模塊包含:圖像識(shí)別單元和計(jì)算單元;

    9、所述圖像識(shí)別單元被配置為從采集的所述圖像中識(shí)別所述帶標(biāo)記圖像,以及從所述帶標(biāo)記圖像中識(shí)別所述標(biāo)記;

    10、所述計(jì)算單元被配置為:基于所述第一時(shí)長(zhǎng)內(nèi),相鄰兩次采集的兩張包含同一標(biāo)記的所述帶標(biāo)記圖像,獲得對(duì)應(yīng)標(biāo)記的位移量;并基于所述位移量和所述相鄰兩次拍攝的時(shí)間間隔,計(jì)算得到對(duì)應(yīng)旋轉(zhuǎn)單元的所述實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速。

    11、可選的,所述兩張包含同一標(biāo)記的所述帶標(biāo)記圖像分別為第一帶標(biāo)記圖像和第二帶標(biāo)記圖像;t1、t2分別為所述第一帶標(biāo)記圖像、第二帶標(biāo)記圖像的采集時(shí)間,單位為秒;t1<t2;t1、t2時(shí)間,所述同一標(biāo)記在行星盤上表面分別具有第一投影點(diǎn)、第二投影點(diǎn);t1時(shí)間,所述第一帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)單元的中心在行星盤上表面具有第三投影點(diǎn);∠a以所述第三投影點(diǎn)為頂角,第一投影點(diǎn)、第二投影點(diǎn)分別落在∠a的兩條射線上,∠a的單位為弧度;所述第一帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的所述旋轉(zhuǎn)單元在時(shí)間t1至t2內(nèi)的實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為v,單位為轉(zhuǎn)/分,

    12、

    13、可選的,所述mocvd設(shè)備還包含位置測(cè)量裝置和控制器;所述位置測(cè)量裝置用于測(cè)量行星盤相對(duì)于其初始位置的旋轉(zhuǎn)角度;所述控制器基于所述旋轉(zhuǎn)角度驅(qū)動(dòng)所述圖像采集裝置開(kāi)始或停止工作。

    14、可選的,所述圖像處理模塊基于所述旋轉(zhuǎn)角度判斷所述帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)單元。

    15、可選的,不同的所述旋轉(zhuǎn)單元具有不同的所述標(biāo)記;所述圖像處理模塊基于識(shí)別的所述標(biāo)記判斷所述帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)單元。

    16、可選的,所述旋轉(zhuǎn)單元包含衛(wèi)星盤和放置在所述衛(wèi)星盤上的所述基片;所述標(biāo)記包含設(shè)在衛(wèi)星盤邊緣的圖案和/或設(shè)在基片邊緣的缺口。

    17、可選的,沿衛(wèi)星盤的周向方向,所述衛(wèi)星盤的邊緣設(shè)有多個(gè)所述圖案,多個(gè)所述圖案相同或不同。

    18、可選的,沿所述衛(wèi)星盤的周向方向,相鄰的所述圖案之間的線性距離大于所述視場(chǎng)的最大范圍。

    19、可選的,所述mocvd設(shè)備還包含溫度采集模塊,用于采集反應(yīng)腔內(nèi)溫度。

    20、可選的,所述mocvd設(shè)備還包含多個(gè)濾光片和濾光片切換模塊;通過(guò)所述濾光片為所述圖像采集裝置過(guò)濾對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)范圍的光線;所述濾光片切換模塊根據(jù)所述反應(yīng)腔內(nèi)溫度為所述圖像采集裝置切換對(duì)應(yīng)的濾光片。

    21、可選的,所述圖像采集參數(shù)調(diào)節(jié)模塊包含曝光時(shí)間調(diào)節(jié)模塊,其基于對(duì)應(yīng)的所述濾光片,調(diào)節(jié)所述圖像采集裝置的曝光時(shí)間。

    22、可選的,所述圖像采集參數(shù)調(diào)節(jié)模塊還包含幀率調(diào)節(jié)模塊,所述幀率調(diào)節(jié)模塊存儲(chǔ)有多個(gè)計(jì)算常量,包含:所述標(biāo)記與所述旋轉(zhuǎn)單元的中心之間的間距r2,所述行星盤的半徑r1,r1、r2的單位為米;所述行星盤的自轉(zhuǎn)角速度ω1,所述旋轉(zhuǎn)單元的預(yù)測(cè)自轉(zhuǎn)角速度ω2;ω2為ω1的倍數(shù);ω1、ω2的單位為弧度/秒;

    23、所述幀率調(diào)節(jié)模塊基于所述多個(gè)計(jì)算常量和所述視場(chǎng)范圍的大小,調(diào)節(jié)所述圖像采集裝置的幀率f;

    24、所述視場(chǎng)范圍為矩形視場(chǎng)范圍,l為所述視場(chǎng)范圍的短邊長(zhǎng)度,單位為米;v′為所述標(biāo)記的預(yù)測(cè)對(duì)地運(yùn)動(dòng)速度,單位為米/秒,t表示時(shí)間;

    25、

    26、可選的,所述mocvd設(shè)備還包含:多個(gè)流量調(diào)節(jié)閥;所述旋轉(zhuǎn)單元由氣流驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn),所述多個(gè)流量調(diào)節(jié)閥分別用于控制提供給所述多個(gè)旋轉(zhuǎn)單元的氣流量;所述控制器基于對(duì)應(yīng)所述旋轉(zhuǎn)單元的所述實(shí)際自轉(zhuǎn)角速度,調(diào)節(jié)對(duì)應(yīng)所述流量調(diào)節(jié)閥的閥開(kāi)度。

    27、可選的,所述圖像采集裝置通過(guò)反應(yīng)腔側(cè)壁的觀察窗采集所述圖像。

    28、可選的,所述的mocvd設(shè)備還包含照明模塊,用于提高所述視場(chǎng)范圍內(nèi)的亮度。

    29、可選的,所述照明模塊包括光源和光源調(diào)節(jié)裝置,用于根據(jù)不同反應(yīng)腔內(nèi)溫度和/或?yàn)V光片切換所述光源的輻射參數(shù)。

    30、本專利技術(shù)還提供一種衛(wèi)星盤轉(zhuǎn)速的測(cè)量方法,采用如本專利技術(shù)所述的mocvd設(shè)備實(shí)現(xiàn)的,包含步驟:

    31、設(shè)置圖像采集裝置的工作參數(shù);

    32、從標(biāo)記進(jìn)入所述圖像采集裝置的視場(chǎng)范圍至離開(kāi)所述視場(chǎng)范圍的第一時(shí)長(zhǎng)內(nèi),所述圖像采集裝置采集至少兩張包含該標(biāo)記的帶標(biāo)記圖像;

    33、圖像處理模塊判斷所述帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)單元,并識(shí)別所述帶標(biāo)記圖像中的該標(biāo)記;基于相鄰兩次采集的兩張所述帶標(biāo)記圖像,獲取該標(biāo)記的位移量,基于所述位移量計(jì)算得到對(duì)應(yīng)旋轉(zhuǎn)單元的實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速。本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種MOCVD設(shè)備,所述MOCVD設(shè)備包含一反應(yīng)腔,所述反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)有用于承載基片的行星盤,其特征在于,所述行星盤上設(shè)有多個(gè)旋轉(zhuǎn)單元,所述旋轉(zhuǎn)單元的邊緣設(shè)有至少一個(gè)標(biāo)記;

    2.如權(quán)利要求1所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,從所述標(biāo)記進(jìn)入所述視場(chǎng)范圍至離開(kāi)所述視場(chǎng)范圍的第一時(shí)長(zhǎng)內(nèi),所述圖像采集裝置能夠采集到至少兩張包含同一標(biāo)記的所述帶標(biāo)記圖像。

    3.如權(quán)利要求2所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,所述圖像處理模塊包含:圖像識(shí)別單元和計(jì)算單元;

    4.如權(quán)利要求3所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,所述兩張包含同一標(biāo)記的所述帶標(biāo)記圖像分別為第一帶標(biāo)記圖像和第二帶標(biāo)記圖像;t1、t2分別為所述第一帶標(biāo)記圖像、第二帶標(biāo)記圖像的采集時(shí)間,單位為秒;t1<t2;t1、t2時(shí)間,所述同一標(biāo)記在行星盤上表面分別具有第一投影點(diǎn)、第二投影點(diǎn);t1時(shí)間,所述第一帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)單元的中心在行星盤上表面具有第三投影點(diǎn);∠A以所述第三投影點(diǎn)為頂角,第一投影點(diǎn)、第二投影點(diǎn)分別落在∠A的兩條射線上,∠A的單位為弧度;所述第一帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的所述旋轉(zhuǎn)單元在時(shí)間t1至t2內(nèi)的實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為v,單位為轉(zhuǎn)/分,

    5.如權(quán)利要求1所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,還包含位置測(cè)量裝置和控制器;所述位置測(cè)量裝置用于測(cè)量行星盤相對(duì)于其初始位置的旋轉(zhuǎn)角度;所述控制器基于所述旋轉(zhuǎn)角度驅(qū)動(dòng)所述圖像采集裝置開(kāi)始或停止工作。

    6.如權(quán)利要求5所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,所述圖像處理模塊基于所述旋轉(zhuǎn)角度判斷所述帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)單元。

    7.如權(quán)利要求1所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,不同的所述旋轉(zhuǎn)單元具有不同的所述標(biāo)記;所述圖像處理模塊基于識(shí)別的所述標(biāo)記判斷所述帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)單元。

    8.如權(quán)利要求1所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)單元包含衛(wèi)星盤和放置在所述衛(wèi)星盤上的所述基片;所述標(biāo)記包含設(shè)在衛(wèi)星盤邊緣的圖案和/或設(shè)在基片邊緣的缺口。

    9.如權(quán)利要求8所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,沿衛(wèi)星盤的周向方向,所述衛(wèi)星盤的邊緣設(shè)有多個(gè)所述圖案,多個(gè)所述圖案相同或不同。

    10.如權(quán)利要求9所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,沿所述衛(wèi)星盤的周向方向,相鄰的所述圖案之間的線性距離大于所述視場(chǎng)的最大范圍。

    11.如權(quán)利要求1所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,還包含溫度采集模塊,用于采集反應(yīng)腔內(nèi)溫度。

    12.如權(quán)利要求11所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,還包含多個(gè)濾光片和濾光片切換模塊;通過(guò)所述濾光片為所述圖像采集裝置過(guò)濾對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)范圍的光線;所述濾光片切換模塊根據(jù)所述反應(yīng)腔內(nèi)溫度為所述圖像采集裝置切換對(duì)應(yīng)的濾光片。

    13.如權(quán)利要求12所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,所述圖像采集參數(shù)調(diào)節(jié)模塊包含曝光時(shí)間調(diào)節(jié)模塊,其基于對(duì)應(yīng)的所述濾光片,調(diào)節(jié)所述圖像采集裝置的曝光時(shí)間。

    14.如權(quán)利要求1所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,所述圖像采集參數(shù)調(diào)節(jié)模塊還包含幀率調(diào)節(jié)模塊;所述幀率調(diào)節(jié)模塊中存儲(chǔ)有多個(gè)計(jì)算常量,包含:所述標(biāo)記與所述旋轉(zhuǎn)單元的中心之間的間距r2,所述行星盤的半徑r1,r1、r2的單位為米;所述行星盤的自轉(zhuǎn)角速度ω1,所述旋轉(zhuǎn)單元的預(yù)測(cè)自轉(zhuǎn)角速度ω2;ω2為ω1的倍數(shù);ω1、ω2的單位為弧度/秒;

    15.如權(quán)利要求5所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,還包含:多個(gè)流量調(diào)節(jié)閥;所述旋轉(zhuǎn)單元由氣流驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn),所述多個(gè)流量調(diào)節(jié)閥分別用于控制提供給所述多個(gè)旋轉(zhuǎn)單元的氣流量;所述控制器基于對(duì)應(yīng)所述旋轉(zhuǎn)單元的所述實(shí)際自轉(zhuǎn)角速度,調(diào)節(jié)對(duì)應(yīng)所述流量調(diào)節(jié)閥的閥開(kāi)度。

    16.如權(quán)利要求1所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,所述圖像采集裝置通過(guò)反應(yīng)腔側(cè)壁的觀察窗采集所述圖像。

    17.如權(quán)利要求1所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,還包含照明模塊,用于提高所述視場(chǎng)范圍內(nèi)的亮度。

    18.如權(quán)利要求17所述的MOCVD設(shè)備,其特征在于,所述照明模塊包括光源和光源調(diào)節(jié)裝置,用于根據(jù)不同反應(yīng)腔內(nèi)溫度和/或?yàn)V光片切換所述光源的輻射參數(shù)。

    19.一種衛(wèi)星盤轉(zhuǎn)速的測(cè)量方法,采用如權(quán)利要求1至18任一所述的MOCVD設(shè)備實(shí)現(xiàn)的,其特征在于,包含步驟:

    20.如權(quán)利要求19所述的衛(wèi)星盤轉(zhuǎn)速的測(cè)量方法,其特征在于,還包含:測(cè)量行星盤相對(duì)于其初始位置的旋轉(zhuǎn)角度;基于所述旋轉(zhuǎn)角度驅(qū)動(dòng)所述圖像采集裝置開(kāi)始或停止工作。

    21.如權(quán)利要求20所述的衛(wèi)星盤轉(zhuǎn)速的測(cè)量方法,其特征在于,驅(qū)動(dòng)所述圖像采集裝置開(kāi)始工作之前還包含:基于反應(yīng)腔內(nèi)溫度為所述圖像采集裝置切換對(duì)應(yīng)的濾光片。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種mocvd設(shè)備,所述mocvd設(shè)備包含一反應(yīng)腔,所述反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)有用于承載基片的行星盤,其特征在于,所述行星盤上設(shè)有多個(gè)旋轉(zhuǎn)單元,所述旋轉(zhuǎn)單元的邊緣設(shè)有至少一個(gè)標(biāo)記;

    2.如權(quán)利要求1所述的mocvd設(shè)備,其特征在于,從所述標(biāo)記進(jìn)入所述視場(chǎng)范圍至離開(kāi)所述視場(chǎng)范圍的第一時(shí)長(zhǎng)內(nèi),所述圖像采集裝置能夠采集到至少兩張包含同一標(biāo)記的所述帶標(biāo)記圖像。

    3.如權(quán)利要求2所述的mocvd設(shè)備,其特征在于,所述圖像處理模塊包含:圖像識(shí)別單元和計(jì)算單元;

    4.如權(quán)利要求3所述的mocvd設(shè)備,其特征在于,所述兩張包含同一標(biāo)記的所述帶標(biāo)記圖像分別為第一帶標(biāo)記圖像和第二帶標(biāo)記圖像;t1、t2分別為所述第一帶標(biāo)記圖像、第二帶標(biāo)記圖像的采集時(shí)間,單位為秒;t1<t2;t1、t2時(shí)間,所述同一標(biāo)記在行星盤上表面分別具有第一投影點(diǎn)、第二投影點(diǎn);t1時(shí)間,所述第一帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)單元的中心在行星盤上表面具有第三投影點(diǎn);∠a以所述第三投影點(diǎn)為頂角,第一投影點(diǎn)、第二投影點(diǎn)分別落在∠a的兩條射線上,∠a的單位為弧度;所述第一帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的所述旋轉(zhuǎn)單元在時(shí)間t1至t2內(nèi)的實(shí)際自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為v,單位為轉(zhuǎn)/分,

    5.如權(quán)利要求1所述的mocvd設(shè)備,其特征在于,還包含位置測(cè)量裝置和控制器;所述位置測(cè)量裝置用于測(cè)量行星盤相對(duì)于其初始位置的旋轉(zhuǎn)角度;所述控制器基于所述旋轉(zhuǎn)角度驅(qū)動(dòng)所述圖像采集裝置開(kāi)始或停止工作。

    6.如權(quán)利要求5所述的mocvd設(shè)備,其特征在于,所述圖像處理模塊基于所述旋轉(zhuǎn)角度判斷所述帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)單元。

    7.如權(quán)利要求1所述的mocvd設(shè)備,其特征在于,不同的所述旋轉(zhuǎn)單元具有不同的所述標(biāo)記;所述圖像處理模塊基于識(shí)別的所述標(biāo)記判斷所述帶標(biāo)記圖像對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)單元。

    8.如權(quán)利要求1所述的mocvd設(shè)備,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)單元包含衛(wèi)星盤和放置在所述衛(wèi)星盤上的所述基片;所述標(biāo)記包含設(shè)在衛(wèi)星盤邊緣的圖案和/或設(shè)在基片邊緣的缺口。

    9.如權(quán)利要求8所述的mocvd設(shè)備,其特征在于,沿衛(wèi)星盤的周向方向,所述衛(wèi)星盤的邊緣設(shè)有多個(gè)所述圖案,多個(gè)所述圖案相同或不同。

    10.如權(quán)利要求9所述的mocvd設(shè)備,其特征在于,沿所述衛(wèi)星盤的周向方向,相鄰的所述圖案之間的線性距離大于所述視場(chǎng)的最大范圍。

    11.如權(quán)利要求1所述的mocvd設(shè)備,其特征在于,還包含溫度采集模塊,用于采集反應(yīng)腔內(nèi)溫度。

    12.如權(quán)利要求11所述的mocvd設(shè)備...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:郭春磊李肖辰
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:中微半導(dǎo)體設(shè)備上海股份有限公司
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:

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