【技術實現步驟摘要】
本專利技術創造涉及質譜儀，特別是涉及一種非連續進樣的質譜儀的控制方法、質譜儀。
技術介紹
1、相關技術中，非連續進樣的質譜儀，也即是采用非連續大氣壓接口實現大氣壓離子源的質譜儀，攜帶方便，結構簡單。非連續大氣壓接口技術由美國普渡大學graham?cooks及zheng?ouyang課題組開發。非連續大氣壓接口通常通過毛細管和橡膠管連接大氣壓離子源和真空腔體，并通過機械閥門控制橡膠管的開合。
2、受橡膠管開合的影響，真空腔體內的氣壓在每次機械閥門打開時都會驟升，進而導致采用非連續大氣壓接口的質譜儀每次打開機械閥門向質譜儀輸入樣品離子的時間被極大縮短，導致離子源采樣輸入過少，影響了質譜儀對質量掃描分析的檢測信號的響應。
3、尤其當目標化合物的濃度較低時，較低的質譜響應信號會影響對目標離子特征峰的識別和鑒定，可能會導致定性和定量結果出現偏差，從而影響質譜儀的在特定應用領域的使用。
4、針對相關技術中的便攜式非連續進樣的單離子阱質譜儀在進行目標離子分析時，最終檢測的離子信號強度差，質譜儀的靈敏度較低的問題，目前尚未提出有效的解決方案。
技術實現思路
1、本專利技術創造實施例提供的一種非連續進樣的質譜儀的控制方法、質譜儀，至少解決相關技術中的便攜式非連續進樣的質譜儀在進行目標離子分析時，最終檢測的離子信號強度差，質譜儀的靈敏度較低的問題。
2、根據本專利技術實施例的一方面，提供了一種非連續進樣的質譜儀的控制方法，包括：打開質譜儀的非連續大氣壓接
3、作為一種可選的實施例，將所述離子流中的目標離子篩選后，束縛在所述離子阱中，包括：基于所述離子阱的射頻電場，對所述離子阱疊加預設交流電壓，產生預設波形的交流信號；利用所述交流信號對所述離子阱中的雜質離子進行共振彈出，篩選出目標離子保留在所述離子阱中，其中，所述雜質離子為進樣的離子流中除目標離子之外的離子。
4、作為一種可選的實施例，基于所述離子阱的射頻電場，對所述離子阱疊加預設交流電壓，產生交流信號之前，所述方法還包括：根據所述目標離子和所述雜質離子的質荷比與所述離子阱的尺寸，確定所述預設交流電壓的目標幅值；根據所述目標離子和雜質離子的特征頻率，確定所述預設交流電壓的目標頻譜；根據所述目標幅值和所述目標頻譜生成對應波形的預設交流電壓。
5、作為一種可選的實施例，根據所述目標離子和所述雜質離子的質荷比與所述離子阱的尺寸，確定所述預設交流電壓的目標幅值，包括：根據所述目標離子和所述雜質離子的質荷比和運動參量，確定所述目標離子和所述雜質離子的勢阱深度，其中，所述運動參量為所述離子阱的運動方程的解；根據所述目標離子和所述雜質離子的勢阱深度，確定所述預設交流電壓的目標幅值，以使所述預設交流電壓將所述雜質離子彈出，將所述目標離子保留在所述離子阱內。
6、作為一種可選的實施例，根據所述目標離子和所述雜質離子的勢阱深度，確定所述預設交流電壓的目標幅值，包括：根據所述雜質離子的勢阱深度，確定符合第一要求的所述預設交流電壓的幅值范圍，其中，所述第一要求為基于所述雜質離子的對應勢阱深度，使所述預設交流電壓的幅值范圍與所述雜質離子共振，將所述雜質離子彈出所述離子阱；根據所述目標離子的勢阱深度，從所述幅值范圍中篩選符合第二要求的所述目標幅值，其中，所述第二要求為基于所述目標離子的勢阱深度，使所述預設交流電壓的目標幅值對所述目標離子的作用，不會將所述目標離子彈出所述離子阱；在所述幅值范圍中不存在符合第二要求的幅值的情況下，將所述幅值范圍中的最小幅值作為所述目標幅值。
7、作為一種可選的實施例，打開質譜儀的非連續大氣壓接口，將目標樣本的離子流進樣至所述質譜儀的離子阱之前，所述方法還包括：根據所述目標樣本的離子流的離子的質荷比和進樣量，確定本次進樣的所述離子阱的電場強度，其中，所述進樣量是根據所述質譜儀的離子源和非連續大氣壓接口的參數確定的。
8、作為一種可選的實施例，根據所述目標樣本的離子流的離子的質荷比，確定本次進樣的所述離子阱的電場強度，包括：在所述本次進樣為首次進樣的情況下，根據所述目標離子的質荷比和進樣量，確定所述射頻電場強度，其中，所述射頻電場強度對應目標離子的運動參量處于預設參量范圍內；在所述本次進樣為非首次進樣的情況下，根據上一次進樣后對目標離子施加的射頻電場強度，確定本次進樣的射頻電場強度，其中，所述本次進樣的電場強度值為在保證上一次進樣后的目標離子束縛在離子阱中的基礎上，本次進樣的離子束被所述電場強度束縛在離子阱中。
9、作為一種可選的實施例，檢測所述離子阱中所述目標離子的數量是否達到目標要求，包括：根據相同離子源參數設定下的單次進樣的目標離子的檢測結果，確定單次進樣的所述目標離子的數量/信號強度；根據所述目標離子單次進樣的離子數量/信號強度，確定所述目標離子是否需要多次進樣及進樣次數；根據當前進樣的次數是否達到所述進樣次數，確定所述離子阱的目標離子的數量是否達到要求；其中，在當前進樣的次數達到所述進樣次數的情況下，確定所述離子阱的目標離子的數量達到要求。
10、作為一種可選的實施例，在所述離子阱進行多次進樣和離子選擇步驟的情況下，重復打開質譜儀的非連續大氣壓接口之前，所述方法還包括：控制所述質譜儀的真空系統，對所述質譜儀的真空腔進行抽真空；檢測所述真空腔的壓力，其中，所述真空腔的壓力在非連續大氣壓接口打開進樣的情況下會升高；在所述壓力達到工作壓力范圍并維持預設時間后，執行繼續目標離子選擇，隨后打開質譜儀的非連續大氣壓接口的步驟。
11、作為一種可選的實施例，所述離子阱為四極桿線性離子阱；包括前端蓋電極、四極桿和后端蓋電極；打開質譜儀的非連續大氣壓接口，將目標樣本的離子流進樣至所述質譜儀的離子阱，包括：通過將所述前端蓋電極的電勢調整至目標電勢，以使所述離子阱的電場強度達到所需的電場強度，將所述目標樣本的離子流進樣至所述質譜儀的離子阱中。
12、作為一種可選的實施例，打開質譜儀的非連續大氣壓接口，將目標樣本的離子流進樣至所述質譜儀的離子阱之前，包括：在首次進樣的情況下，控制所述離子阱的前端蓋電極電勢降低第一預設閾值，使從所述非連續大氣壓接口進來的離子流進入并在所述離子阱中穩定運動；在非首次進樣的情況下，控制所述離子阱的前端蓋電極電勢降低第二預設閾值，其中，所述第二預設閾值低于所述第一預設閾值；以使本次非首次進樣的離子流進入所述離子阱中穩定運動，且在本次非首次進樣之前已經束縛在所述離子阱中的目標離子不會本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種非連續進樣的質譜儀的控制方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，將所述離子流中的目標離子篩選后，束縛在所述離子阱中，包括：
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，基于所述離子阱的射頻電場，對所述離子阱疊加預設交流電壓，產生交流信號之前，所述方法還包括：
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，根據所述目標離子和所述雜質離子的質荷比與所述離子阱的尺寸，確定所述預設交流電壓的目標幅值，包括：
5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，根據所述目標離子和所述雜質離子的勢阱深度，確定所述預設交流電壓的目標幅值，包括：
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，打開質譜儀的非連續大氣壓接口，將目標樣本的離子流進樣至所述質譜儀的離子阱之前，所述方法還包括：
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，根據所述目標樣本的離子流的離子的質荷比，確定本次進樣的所述離子阱的電場強度，包括：
8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述離子阱中束縛的目標離子的數量未達到目標要
9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述離子阱進行多次進樣和離子選擇步驟的情況下，重復打開質譜儀的非連續大氣壓接口之前，所述方法還包括：
10.根據權利要求1至9中任一項所述的方法，其特征在于，所述離子阱為四極桿線性離子阱；包括前端蓋電極、四極桿和后端蓋電極；
11.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，打開質譜儀的非連續大氣壓接口，將目標樣本的離子流進樣至所述質譜儀的離子阱之前，包括：
12.一種非連續進樣的質譜儀，包括：處理器，以及存儲程序的存儲器，其特征在于，所述程序包括指令，所述指令在由所述處理器執行時使所述處理器執行根據權利要求1至11中任一項所述的方法。
...【技術特征摘要】
1.一種非連續進樣的質譜儀的控制方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，將所述離子流中的目標離子篩選后，束縛在所述離子阱中，包括：
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，基于所述離子阱的射頻電場，對所述離子阱疊加預設交流電壓，產生交流信號之前，所述方法還包括：
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，根據所述目標離子和所述雜質離子的質荷比與所述離子阱的尺寸，確定所述預設交流電壓的目標幅值，包括：
5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，根據所述目標離子和所述雜質離子的勢阱深度，確定所述預設交流電壓的目標幅值，包括：
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，打開質譜儀的非連續大氣壓接口，將目標樣本的離子流進樣至所述質譜儀的離子阱之前，所述方法還包括：
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，根據所述目標樣本的離...
【專利技術屬性】
技術研發人員：卜杰洵，李曉鵬，
申請(專利權)人：清譜科技蘇州有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。