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    一種羰基稠合硼雜環(huán)化合物及其制備方法和應(yīng)用技術(shù)

    技術(shù)編號:44092626 閱讀:39 留言:0更新日期:2025-01-21 12:27
    本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種羰基稠合硼雜環(huán)化合物及其制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明專利技術(shù)的羰基稠合硼雜環(huán)化合物的結(jié)構(gòu)通式為其中,Ar1、Ar2、Ar3、Ar4和Ar5各自獨立地選自C<subgt;6</subgt;~C<subgt;60</subgt;的芳環(huán)、C<subgt;3</subgt;~C<subgt;60</subgt;的雜芳環(huán)中的一種,X<subgt;1</subgt;、X<subgt;2</subgt;、X<subgt;3</subgt;和X<subgt;4</subgt;各自獨立地選自烷基氮、芳基氮、氮、氧、硫、硒、羰基、亞砜基、砜基、磷氧基中的一種,虛線表示成鍵或不成鍵。本發(fā)明專利技術(shù)的羰基稠合硼雜環(huán)化合物是一種反系間竄越速率大的長波長發(fā)光MR?TADF材料,由其制成的器件發(fā)光性能優(yōu)異且穩(wěn)定性好,適合在電致發(fā)光領(lǐng)域進(jìn)行大規(guī)模應(yīng)用。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及電致發(fā)光,具體涉及一種羰基稠合硼雜環(huán)化合物及其制備方法和應(yīng)用


    技術(shù)介紹

    1、有機(jī)發(fā)光二極管(organic?light-emitting?diode,oled)是一種電流型的有機(jī)發(fā)光器件,其通過載流子的注入和復(fù)合實現(xiàn)發(fā)光。研究表明,有機(jī)電致發(fā)光器件在電致激發(fā)的條件下會產(chǎn)生25%的單線態(tài)激子和75%的三線態(tài)激子,而器件的發(fā)光效率與器件的激子利用率之間存在直接關(guān)聯(lián)。目前,用于oled的發(fā)光材料主要分為傳統(tǒng)熒光材料、磷光材料、熱激子材料、熱活化延遲熒光(tadf)材料和多重共振熱活化延遲熒光(mr-tadf)材料。傳統(tǒng)熒光材料只能夠利用25%的單線態(tài)激子,激子利用率比較低,因而器件的發(fā)光效率比較低。磷光材料存在金屬到配體電荷轉(zhuǎn)移(mlct)態(tài),因而可以利用另外75%的三線態(tài)激子,但由于磷光材料需要貴金屬來構(gòu)成,其價格十分昂貴,商業(yè)化應(yīng)用受到了很大的限制。tadf材料具有較小的單三線態(tài)能級差,三線態(tài)激子能夠在熱作用下從三線態(tài)能級反系間竄越回到單線態(tài)能級,進(jìn)而輻射延遲熒光,理論上能夠?qū)崿F(xiàn)100%的激子利用率,這個過程雖然不需要貴金屬參與,但是需要在分子內(nèi)引入給受體(d-a)結(jié)構(gòu)來分離最高占據(jù)分子軌道(homo)和最低未占據(jù)分子軌道(lumo),進(jìn)而縮小單三線態(tài)能級差,但d-a結(jié)構(gòu)的引入不可避免會導(dǎo)致材料的光譜展寬,最終影響器件的色純度。mr-tadf材料能夠在tadf材料的基礎(chǔ)上在剛性稠環(huán)結(jié)構(gòu)中將homo和lumo局域在雜原子上,從而能夠?qū)崿F(xiàn)光譜窄化,獲得高色純度的發(fā)光,同時因為稠環(huán)結(jié)構(gòu)具有較高的發(fā)光量子效率,因而可以獲得極佳的器件發(fā)光效率。綜上可知,mr-tadf材料的應(yīng)用前景最好。

    2、然而,現(xiàn)有的mr-tadf材料普遍存在由于反系間竄越速率較慢而導(dǎo)致的比較嚴(yán)重的濃度淬滅問題,會直接影響器件的發(fā)光性能和穩(wěn)定性,制成的器件尚難以完全滿足日益增長的實際應(yīng)用要求。此外,目前也比較缺乏長波長發(fā)光的mr-tadf材料。

    3、因此,開發(fā)一種反系間竄越速率大、制成的器件發(fā)光性能優(yōu)異且穩(wěn)定性好的長波長發(fā)光mr-tadf材料具有十分重要的意義。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、本專利技術(shù)的目的在于提供一種羰基稠合硼雜環(huán)化合物及其制備方法和應(yīng)用。

    2、本專利技術(shù)所采取的技術(shù)方案是:

    3、一種羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其結(jié)構(gòu)通式如式1-1或式1-2所示:

    4、式1-1:式1-2:其中,ar1、ar2、ar3、ar4和ar5各自獨立地選自c6~c60的芳環(huán)、c3~c60的雜芳環(huán)中的一種,x1、x2、x3和x4各自獨立地選自烷基氮、芳基氮、氮、氧、硫、硒、羰基、亞砜基、砜基、磷氧基中的一種,虛線表示成鍵或不成鍵。

    5、優(yōu)選地,所述羰基稠合硼雜環(huán)化合物的結(jié)構(gòu)通式如式2-1或式2-2所示:

    6、式2-1:式2-2:其中,ar1、ar2、ar3、ar4和ar5各自獨立地選自c6~c60的芳環(huán)、c3~c60的雜芳環(huán)中的一種,x1、x2、x3和x4各自獨立地選自氮、氧、硫、硒、羰基、亞砜基、砜基、磷氧基中的一種,y1、y2、y3和y4各自獨立地選自烷基氮、芳基氮、氮、氧、硫、硒、羰基、亞砜基、砜基、磷氧基中的一種,虛線表示成鍵或不成鍵。

    7、進(jìn)一步優(yōu)選地,所述羰基稠合硼雜環(huán)化合物的結(jié)構(gòu)通式如式3-1或式3-2所示:

    8、式3-1:式3-2:其中,ar1、ar2、ar3、ar4、ar5、ar6和ar7各自獨立地選自c6~c60的芳環(huán)、c3~c60的雜芳環(huán)中的一種,x1、x2、x3和x4各自獨立地選自氮、氧、硫、硒、羰基、亞砜基、砜基、磷氧基中的一種,y1、y2、y3、y4、y5和y6各自獨立地選自氮、氧、硫、硒、羰基、亞砜基、砜基、磷氧基中的一種,虛線表示成鍵或不成鍵。

    9、再進(jìn)一步優(yōu)選地,所述羰基稠合硼雜環(huán)化合物為以下結(jié)構(gòu)式所示的化合物中的任意一種:

    10、

    11、

    12、

    13、

    14、

    15、

    16、

    17、

    18、

    19、

    20、更進(jìn)一步優(yōu)選地,所述羰基稠合硼雜環(huán)化合物為以下結(jié)構(gòu)式所示的化合物中的任意一種:

    21、

    22、優(yōu)選地,所述ar1、ar2、ar3、ar4、ar5、ar6和ar7各自獨立地選自如下所示結(jié)構(gòu)中的一種:

    23、

    24、

    25、

    26、一種如上所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物的制備方法包括以下步驟:先合成中間體int-1a/2a,再進(jìn)行int-1a/2a和三溴化硼的反應(yīng)得到中間體int-1b/2b,再進(jìn)行int-1b/2b和2,3-二氯-5,6-二氰對苯醌的反應(yīng),即得目標(biāo)化合物c1和c2;

    27、具體合成路徑如下:

    28、

    29、優(yōu)選地,所述int-1a/2a、三溴化硼的摩爾比為1:2~6。

    30、優(yōu)選地,所述int-1b/2b、2,3-二氯-5,6-二氰對苯醌的摩爾比為1:4~8。

    31、一種有機(jī)電致發(fā)光器件,其發(fā)光層包含上述羰基稠合硼雜環(huán)化合物(羰基稠合硼雜環(huán)化合物在發(fā)光層中作為客體摻雜材料與其它主體材料組合使用)。

    32、優(yōu)選地,所述有機(jī)電致發(fā)光器件的組成包括依次設(shè)置的陽極層、有機(jī)功能層和陰極層,有機(jī)功能層的組成包括依次設(shè)置的空穴注入層、空穴傳輸層、電子阻擋層、發(fā)光層、空穴阻擋層、電子傳輸層和電子注入層。

    33、優(yōu)選地,所述陽極層的組成成分為氧化銦錫(ito)、氧化銦鋅(izo)、二氧化錫(sno2)、氧化鋅(zno)中的至少一種。

    34、優(yōu)選地,所述空穴注入層的組成成分為2,3,6,7,10,11-六氰基-1,4,5,8,9,12-六氮雜苯并菲(hatcn)。

    35、優(yōu)選地,所述空穴傳輸層的組成成分為4,4'-環(huán)己基二[n,n-二(4-甲基苯基)苯胺](tapc)、三(4-咔唑基-9-基苯基)胺(tcta)中的至少一種。

    36、優(yōu)選地,所述電子阻擋層的組成成分為9-(2-(9-苯基-9h-咔唑-3-基)苯基)-9h-3,9'-雙咔唑(phczbcz)。

    37、優(yōu)選地,所述空穴阻擋層的組成成分為2,8-雙(二苯基磷酰基)二苯并[b,d]呋喃(ppf)。

    38、優(yōu)選地,所述電子傳輸層的組成成分為1,3,5-三(3-吡啶基-3-苯基)苯(tmpypb)。

    39、優(yōu)選地,所述電子注入層的組成成分為氟化鋰(lif)。

    40、優(yōu)選地,所述有機(jī)功能層中的各層的制備方法為真空熱蒸鍍法、旋轉(zhuǎn)涂敷法、噴墨打印法中的一種。

    41、優(yōu)選地,所述陰極層的組成成分為鎂(mg)、銀(ag)、鋁(al)、鋰(li)、鈣(ca)、銦(in)中的至少一種。

    42、一種顯示器件,其包含上述有機(jī)電致發(fā)光器件。

    43、一種電子設(shè)備,其包含上述顯示器件。

    <本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點】

    1.一種羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其特征在于,結(jié)構(gòu)通式如式1-1或式1-2所示:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其特征在于:所述羰基稠合硼雜環(huán)化合物的結(jié)構(gòu)通式如式2-1或式2-2所示:

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其特征在于:所述羰基稠合硼雜環(huán)化合物的結(jié)構(gòu)通式如式3-1或式3-2所示:

    4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其特征在于:所述Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6和Ar7各自獨立地選自如下所示結(jié)構(gòu)中的一種:

    5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任意一項所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其特征在于:所述羰基稠合硼雜環(huán)化合物為以下結(jié)構(gòu)式所示的化合物中的任意一種:

    6.一種如權(quán)利要求1所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:先合成中間體INT-1A/2A,再進(jìn)行INT-1A/2A和三溴化硼的反應(yīng)得到中間體INT-1B/2B,再進(jìn)行INT-1B/2B和2,3-二氯-5,6-二氰對苯醌的反應(yīng),即得目標(biāo)化合物C1和C2;

    7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,其特征在于:所述INT-1A/2A、三溴化硼的摩爾比為1:2~6;所述INT-1B/2B、2,3-二氯-5,6-二氰對苯醌的摩爾比為1:4~8。

    8.一種有機(jī)電致發(fā)光器件,其特征在于,發(fā)光層包含權(quán)利要求1~5中任意一項所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物。

    9.一種顯示器件,其特征在于,包含權(quán)利要求8所述的有機(jī)電致發(fā)光器件。

    10.一種電子設(shè)備,其特征在于,包含權(quán)利要求9所述的顯示器件。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其特征在于,結(jié)構(gòu)通式如式1-1或式1-2所示:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其特征在于:所述羰基稠合硼雜環(huán)化合物的結(jié)構(gòu)通式如式2-1或式2-2所示:

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其特征在于:所述羰基稠合硼雜環(huán)化合物的結(jié)構(gòu)通式如式3-1或式3-2所示:

    4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其特征在于:所述ar1、ar2、ar3、ar4、ar5、ar6和ar7各自獨立地選自如下所示結(jié)構(gòu)中的一種:

    5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任意一項所述的羰基稠合硼雜環(huán)化合物,其特征在于:所述羰基稠合硼雜環(huán)化合物為以下結(jié)構(gòu)式所示的化合物中的任意一種:

    6.一種如權(quán)利要求1所述的羰基稠合硼雜...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:蘇仕健楊志海劉鄧輝胡俊濤
    申請(專利權(quán))人:華南理工大學(xué)
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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