【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)嵌入式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽多功能復(fù)合膜及其制備方法屬于光學(xué)增透膜。
技術(shù)介紹
1、雷達隱身光窗結(jié)構(gòu)是在光學(xué)窗口基片表面制作周期陣列或隨機排列的金屬網(wǎng)柵，在網(wǎng)柵表面再制備增透保護層，這種結(jié)構(gòu)的網(wǎng)柵及增透保護層厚度一般為微米級或亞微米級，但金屬網(wǎng)柵的晶格常數(shù)及膨脹系數(shù)與基底材料存在差異，不利于鍍膜金屬網(wǎng)柵的牢固度、耐熱沖擊、抗激光損傷等性能，在風(fēng)沙、雨淋等服役條件極易破壞膜層，因此這種結(jié)構(gòu)的雷達隱身窗口壽命較短。
2、針對上述問題，申請?zhí)?023118601539的專利技術(shù)專利《一種多波段雷達隱身復(fù)合結(jié)構(gòu)光窗及其制備方法》給出了解決方案，該多波段雷達隱身復(fù)合結(jié)構(gòu)光窗，從下至上依次設(shè)置為光窗基片、金屬網(wǎng)柵、保護層和增透保護膜層，所述金屬網(wǎng)柵周期性分布在光窗基片的上表面，所述保護層與光窗基片材質(zhì)相同，所述增透膜設(shè)置為多層，且隨著向外延伸，相鄰增透膜之間距的距離逐漸減小；該多波段雷達隱身復(fù)合結(jié)構(gòu)光窗與傳統(tǒng)光學(xué)窗口相比，透光率和機械強度更高，因此能經(jīng)受高低溫、濕熱、鹽霧、霉菌、沙塵等嚴酷環(huán)境。從制作工藝上對上述技術(shù)方案進行剖析，相當(dāng)于金屬網(wǎng)柵加工在窗口表面，然后用減反膜包裹，實現(xiàn)的網(wǎng)柵與外界環(huán)境隔離。
3、此外，申請?zhí)?023106557395的專利技術(shù)專利《一種內(nèi)嵌式電磁屏蔽金屬網(wǎng)柵制作方法》，依次執(zhí)行以下步驟：在光學(xué)基底上制作反向掩膜，等離子束刻蝕金屬網(wǎng)柵溝槽，金屬薄膜鍍制，底層薄膜鍍制，去膠及清潔，耐環(huán)境侵蝕性能的光學(xué)增透膜鍍制；該制作工藝是在窗口表面刻槽，將金屬網(wǎng)柵加工在槽里面，然后用減反膜封閉溝槽，
4、可見，利用多層復(fù)合膜將金屬網(wǎng)柵與外界環(huán)境隔離，是提升加載金屬網(wǎng)柵窗口的光學(xué)性能及環(huán)境耐受性能的有效手段。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、以本公司申請?zhí)?024116448543的專利技術(shù)專利《可見光范圍光學(xué)減反保護電磁屏蔽功能復(fù)合膜》為基礎(chǔ)，設(shè)計了一種嵌入式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽多功能復(fù)合膜，不僅同樣能夠?qū)崿F(xiàn)將金屬網(wǎng)柵與外界環(huán)境隔離的技術(shù)目的，而且結(jié)構(gòu)簡單，功能豐富。
2、本專利技術(shù)的目的是這樣實現(xiàn)的：
3、嵌入式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽多功能復(fù)合膜，由基材、金屬網(wǎng)柵、高折射率導(dǎo)電膜層和低折射率膜層交替組成，所述金屬網(wǎng)柵嵌入在基材中，在所述基材上方，依次交替高折射率導(dǎo)電膜層和低折射率膜層，且最外層為高折射率導(dǎo)電膜層，所述低折射率膜層經(jīng)過圖形化處理，且低折射率膜層的投影面積小于高折射率導(dǎo)電膜層，多個所述高折射率導(dǎo)電膜層在低折射率膜層外部連通。
4、上述的嵌入式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽多功能復(fù)合膜，所述高折射率導(dǎo)電膜層為ito或氧化銦；所述低折射率膜層為氟化鎂。
5、嵌入式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽多功能復(fù)合膜的制備方法，包括以下步驟：
6、步驟a、將金屬網(wǎng)柵嵌入在基材中；
7、步驟b、在基材上依次制備低折射率膜層和高折射率導(dǎo)電膜層，形成多層結(jié)構(gòu)；
8、步驟c、在所述多層結(jié)構(gòu)外圍，用與高折射率導(dǎo)電膜層相同的材料，對所述多層結(jié)構(gòu)進行包覆，形成高折射率導(dǎo)電膜層在低折射率膜層外部連通。
9、本專利技術(shù)嵌入式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽多功能復(fù)合膜的有益效果在于：
10、第一、金屬網(wǎng)柵嵌入在基材中，使得金屬網(wǎng)柵同樣能夠與外界環(huán)境隔離，以實現(xiàn)機械強度更高，能經(jīng)受嚴酷環(huán)境的技術(shù)目的；
11、第二、高折射率導(dǎo)電膜層選用ito，低折射率膜層選用氟化鎂，材料均具有較高硬度，使得本專利技術(shù)復(fù)合膜能夠作為保護膜，提高光學(xué)器件的環(huán)境耐受能力；
12、第三、高折射率導(dǎo)電膜層具有導(dǎo)電特性，且多個高折射率導(dǎo)電膜層在低折射率膜層外部連通，使得高折射率導(dǎo)電膜層本身能夠作為電極，在無需外加電極的情況下，復(fù)合膜能夠作為電加熱膜；
13、第四、低折射率膜層經(jīng)過圖形化處理，使得本專利技術(shù)復(fù)合膜還具有電磁屏蔽功能；此外，多個高折射率導(dǎo)電膜層在低折射率膜層外部連通，使得高折射率導(dǎo)電膜層形成并聯(lián)結(jié)構(gòu)，這種并聯(lián)結(jié)構(gòu)的電阻率遠低于單層高折射率導(dǎo)電膜層，因此能夠極大提升屏蔽效能；
14、第五、金屬網(wǎng)柵與最接近高折射率導(dǎo)電膜之間形成微波諧振腔，調(diào)整金屬網(wǎng)柵的嵌入深度，即改變金屬網(wǎng)柵同最接近高折射率導(dǎo)電膜層的距離，能夠?qū)崿F(xiàn)在特定距離下，針對特定譜段，基于諧振吸收的原理，獲得更好的屏蔽效果。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護點】
1.嵌入式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽多功能復(fù)合膜，其特征在于，由基材（1）、金屬網(wǎng)柵（2）、高折射率導(dǎo)電膜層（3）和低折射率膜層（4）交替組成，所述金屬網(wǎng)柵（2）嵌入在基材（1）中，在所述基材（1）上方，依次交替高折射率導(dǎo)電膜層（3）和低折射率膜層（4），且最外層為高折射率導(dǎo)電膜層（3），所述低折射率膜層（4）經(jīng)過圖形化處理，且低折射率膜層（4）的投影面積小于高折射率導(dǎo)電膜層（3），多個所述高折射率導(dǎo)電膜層（3）在低折射率膜層（4）外部連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的嵌入式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽多功能復(fù)合膜，其特征在于，所述高折射率導(dǎo)電膜層（3）為ITO或氧化銦；所述低折射率膜層（4）為氟化鎂。
3.嵌入式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽多功能復(fù)合膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
【技術(shù)特征摘要】
1.嵌入式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽多功能復(fù)合膜，其特征在于，由基材（1）、金屬網(wǎng)柵（2）、高折射率導(dǎo)電膜層（3）和低折射率膜層（4）交替組成，所述金屬網(wǎng)柵（2）嵌入在基材（1）中，在所述基材（1）上方，依次交替高折射率導(dǎo)電膜層（3）和低折射率膜層（4），且最外層為高折射率導(dǎo)電膜層（3），所述低折射率膜層（4）經(jīng)過圖形化處理，且低折射率膜層（4）的投影面...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：劉楠，金岸，
申請(專利權(quán))人：蘇州麥田光電技術(shù)有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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