一種具有底部調平結構的反應釜制造技術

本技術公開了一種具有底部調平結構的反應釜，本技術中，包括反應釜體、釜蓋以及底座，釜蓋通過鎖扣安裝于反應釜體頂部。本技術克服了現有技術的不足，當圓環一上移至與圓環二合并后，圓環一可與密封圈緊密接觸，隨后可將正反電機關閉，此時出水閥管以及進水閥管將分別與兩個通口相通，然后可將進水閥管打開并通入水源，水源即可對環形槽內部進行沖洗，再將出水閥管打開，沉淀物即可隨著水源一并從出水閥管排出，從而可避免沉淀物再次掉落，可提高反應釜體的清洗效率；將塊體沿著滑槽向外側推動至原位，使齒板二再次與齒板一所齒合，同時將塊體再次卡至兩塊齒板二之間，兩個調平腳即可被限位，從而可快速對反應釜體底部進行調平。

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及化工，尤其涉及一種具有底部調平結構的反應釜。

技術介紹

1、反應釜是用于完成硫化、硝化、氫化、烷基化、聚合、縮合和其他工藝過程的容器，現有的一種化工用反應釜(公開號：cn215611548u)在使用中至少暴露出以下缺陷：

2、1、反應釜在長時間使用后其內壁會附著大量的沉淀物，雖然可通過刮除的方式對其內壁進行清理，但清理時，刮下的沉淀物容易再次掉落，從而需要多次清理，清理效率較低。

3、2、并且為了保證反應釜的平穩使用，其底部通常會設置調平結構對其進行調平，但是調平時通常需要將用于固定的螺栓拆卸下后再逐步進行調平，調平速度較慢。

4、我們為此，提出了一種具有底部調平結構的反應釜解決上述弊端。

技術實現思路

1、本技術的目的是為了解決現有技術中存在的缺點，而提出的一種具有底部調平結構的反應釜。

2、為了實現上述目的，本技術采用了如下技術方案：包括反應釜體、釜蓋以及底座，所述釜蓋通過鎖扣安裝于反應釜體頂部，所述底座固定于反應釜體下方，所述底座內部為中空且貫通于其頂部，還包括：

3、清理結構，所述清理結構位于反應釜體內且用于清理其內壁；

4、調平結構，所述調平結構位于底座內且用于快速調平反應釜底部的高度。

5、優選的，所述清理結構包括：

6、正反電機，所述正反電機安裝于釜蓋頂部；

7、絲桿，所述絲桿位于反應釜體內，且絲桿頂端貫穿出釜蓋頂部并與正反電機的輸出端固定；

<p>8、絲桿套，所述絲桿套螺紋連接于絲桿外部。

9、優選的，所述清理結構包括：

10、滑塊，所述滑塊固定于絲桿套右端；

11、滑軌，所述滑軌位于絲桿右側，且滑塊滑動連接于滑軌內；

12、圓環一，所述圓環一固定于絲桿套外部，且圓環一頂部開設有環形槽，所述圓環一左右側均開設有與環形槽相通的通口，且圓環一外壁與反應釜體內壁緊密接觸。

13、優選的，所述清理結構還包括：

14、圓環二，所述圓環二固定于反應釜體內壁上方；

15、密封圈，所述密封圈固定于圓環二底部。

16、優選的，所述清理結構還包括：

17、進水閥管，所述進水閥管連通于反應釜體左側；

18、出水閥管，所述出水閥管連通于反應釜體右側，且出水閥管以及進水閥管分別與兩個通口位置上下對應。

19、優選的，所述調平結構包括：

20、調平腳，所述調平腳共設有兩個且分別貫穿設置于底座底部左右側；

21、齒板一，所述齒板一設有兩塊且固定于調平腳內側。

22、優選的，所述調平結構還包括：

23、齒板二，所述齒板二設有兩塊且位于底座內，且齒板二齒合于齒板一內側；

24、塊體，所述塊體設有兩塊且固定于齒板二前方，所述底座前方貫通有兩個滑槽，且塊體滑動連接于滑槽內；

25、限位塊，所述限位塊位于底座內且置于兩塊齒板二之間。

26、與現有技術相比，本技術的有益效果是；

27、(1)、當圓環一上移至與圓環二合并后，圓環一可與密封圈緊密接觸，隨后可將正反電機關閉，此時出水閥管以及進水閥管將分別與兩個通口相通，然后可將進水閥管打開并通入水源，水源即可對環形槽內部進行沖洗，再將出水閥管打開，沉淀物即可隨著水源一并從出水閥管排出，從而可避免沉淀物再次掉落，可提高反應釜體的清洗效率；

28、(2)、將塊體沿著滑槽向外側推動至原位，使齒板二再次與齒板一所齒合，同時將塊體再次卡至兩塊齒板二之間，兩個調平腳即可被限位，從而可快速對反應釜體底部進行調平。

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【技術保護點】

1.一種具有底部調平結構的反應釜，包括反應釜體(1)、釜蓋(2)以及底座(15)，所述釜蓋(2)通過鎖扣安裝于反應釜體(1)頂部，所述底座(15)固定于反應釜體(1)下方，所述底座(15)內部為中空且貫通于其頂部，其特征在于，還包括：

2.根據權利要求1所述的具有底部調平結構的反應釜，其特征在于，所述清理結構包括：

3.根據權利要求2所述的具有底部調平結構的反應釜，其特征在于，所述清理結構包括：

4.根據權利要求3所述的具有底部調平結構的反應釜，其特征在于，所述清理結構還包括：

5.根據權利要求4所述的具有底部調平結構的反應釜，其特征在于，所述清理結構還包括：

6.根據權利要求1所述的具有底部調平結構的反應釜，其特征在于，所述調平結構包括：

7.根據權利要求6所述的具有底部調平結構的反應釜，其特征在于，所述調平結構還包括：

【技術特征摘要】

1.一種具有底部調平結構的反應釜，包括反應釜體(1)、釜蓋(2)以及底座(15)，所述釜蓋(2)通過鎖扣安裝于反應釜體(1)頂部，所述底座(15)固定于反應釜體(1)下方，所述底座(15)內部為中空且貫通于其頂部，其特征在于，還包括：

2.根據權利要求1所述的具有底部調平結構的反應釜，其特征在于，所述清理結構包括：

3.根據權利要求2所述的具有底部調平結構的反應釜，其特征在于...

【專利技術屬性】
技術研發人員：鄭桃，劉丹，賈洪喜，孫嘉琪，鄭凡智，王雪妍，
申請(專利權)人：甘農甘肅化學有限公司，
類型：新型
國別省市：