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    一種無硅油無PEG防曬粉底液及其制備方法技術

    技術編號:44108537 閱讀:15 留言:0更新日期:2025-01-24 22:34
    本發明專利技術屬于化妝品技術領域,尤其涉及一種無硅油無PEG防曬粉底液及其制備方法,所述無硅油無PEG防曬粉底液包括以下質量百分數的組分:潤膚劑13~20%、成膜劑6~10%、乳化劑3~5%、增稠劑0.2~0.8%、化學防曬劑0.8~1.5%、物理防曬劑15~20%、分散劑0.6~1%、抗氧化劑0.55~0.7%、著色劑7~9%、填充劑2~3%、保濕劑6~10%、鹽0.5%、水余量。本發明專利技術的防曬粉底液人體膚感效果、穩定性和防曬效果強,涂抹后清爽,成膜后粘度弱,持妝效果好,其延展性、成膜性和持久度效果佳,離心后無明顯出油現象,體外SPF值及UVAPF值較高,且不含有硅油和PEG,安全無刺激,滿足消費者對無硅無PEG產品的需求,符合未來化妝品發展趨勢及法規需求。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術屬于化妝品,尤其涉及一種無硅油無peg防曬粉底液及其制備方法。


    技術介紹

    1、近年來越來越多的消費者開始注重自己的外在形象,底妝產品占比快速增長,國內法規逐步接軌歐盟標準,歐盟發布自2027年6月6日起,含有濃度等于或大于0.1%(w/w)的d4(八甲基環四硅氧烷)、d5(十甲基環五硅氧烷)或d6(十二甲基環六硅氧烷)的駐留類化妝品不得上市。peg(聚乙二醇)類原料在化妝品種應用廣泛,在生產聚乙二醇(peg)過程中,會產生1,4-二噁烷、乙二醇、環氧乙烷、二甘醇等雜質,這些成分都不是善茬,具有生理毒性,屬于致癌物,還會刺激皮膚,引起肌膚過敏。

    2、硅油及peg是底妝產品常用原料,目前市面上的底妝產品基本都含有硅油和peg乳化劑,防曬底妝也基本含有硅油或者peg,但是其危害也讓消費者在選擇產品時比較介意。所以開發一款無硅油無peg的防曬粉底液是未來發展的趨勢。


    技術實現思路

    1、本專利技術的目的是為了克服現有技術的不足,而提供一種無硅油無peg防曬粉底液及其制備方法。

    2、本專利技術的目的是這樣實現的:

    3、一種無硅油無peg防曬粉底液,包括以下質量百分數的組分:潤膚劑13~20%、成膜劑6~10%、乳化劑3~5%、增稠劑0.2~0.8%、化學防曬劑0.8~1.5%、物理防曬劑15~20%、分散劑0.6~1%、抗氧化劑0.55~0.7%、著色劑7~9%、填充劑2~3%、保濕劑6~10%、鹽0.5%、水余量。

    4、優選地,所述無硅油無peg防曬粉底液,包括以下質量百分數的組分:潤膚劑17%、成膜劑8%、乳化劑4.5%、增稠劑0.5%、化學防曬劑1.2%、物理防曬劑18%、分散劑0.8%、抗氧化劑0.6%、著色劑8%、填充劑2.5%、保濕劑7.5%、鹽0.5%、水余量。

    5、優選地,所述潤膚劑為己二酸二丁酯、碳酸二辛酯和c9-12烷,其中,己二酸二丁酯、碳酸二辛酯與c9-12烷的質量比為1:2.5~4:5~8。

    6、優選地,所述成膜劑為c11-13異鏈烷烴&三甲基硅烷氧基硅樹脂。

    7、優選地,所述乳化劑為山梨坦異硬脂酸酯、聚甘油-4二異硬脂酸酯/聚羥基硬脂酸酯/癸二酸酯、聚甘油-2油酸酯&聚羥基硬脂酸&聚甘油-2硬脂酸酯,其中,各成分的質量比為1:2~3:2~6。

    8、優選地,所述增稠劑為二硬脂二甲銨鋰蒙脫石。

    9、優選地,所述化學防曬劑為二乙氨羥苯甲酰基苯甲酸己酯。

    10、優選地,所述物理防曬劑為二氧化鈦&氫氧化鋁&硬脂酸和氧化鋅&三乙氧基辛基硅烷,其中,二氧化鈦&氫氧化鋁&硬脂酸與氧化鋅&三乙氧基辛基硅烷的質量比為1:0.5~1.5。

    11、優選地,所述分散劑為聚甘油-3聚二甲基硅羥乙基聚二甲基硅氧烷。

    12、優選地,所述抗氧化劑為生育酚乙酸酯和對羥基苯乙酮,其中,生育酚乙酸酯與對羥基苯乙酮的質量比為1:2.5~10。

    13、優選地,所述著色劑為ci?77891&氫氧化鋁&三異硬脂酸異丙氧鈦酯、ci?77492&三異硬脂酸異丙氧鈦酯、ci?77491&三異硬脂酸異丙氧鈦酯和ci?77499&三異硬脂酸異丙氧鈦酯,其中,各成分的質量比為293~393:46:8:3。

    14、優選地,所述填充劑為云母、硅石和乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷倍半硅氧烷交聯聚合物,其中,云母、硅石與乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷倍半硅氧烷交聯聚合物的質量比為0.5~2:1:1.5~2.2。

    15、優選地,所述保濕劑為甘油和己二醇,其中,甘油與己二醇的質量比為4~14:1。

    16、優選地,所述鹽為氯化鈉。

    17、本專利技術還公開了所述無硅油無peg防曬粉底液的制備方法,包括如下步驟:

    18、(1)預處理:用粉碎機分別將著色劑和物理防曬劑粉碎均勻,備用;

    19、(2)將水、鹽、保濕劑和抗氧化劑對羥基苯乙酮加熱至75~85℃,分散均勻,備用;

    20、(3)將潤膚劑己二酸二丁酯、碳酸二辛酯和化學防曬劑加熱至75~85℃完全溶解后,加入成膜劑、潤膚劑c9-12烷、乳化劑、增稠劑、抗氧化劑生育酚乙酸酯和分散劑,攪拌均質均勻,加入粉碎后的著色劑、填充劑、粉碎后的防曬劑,攪拌均質均勻,攪拌均質條件下,加入步驟(2)分散均勻的原料,繼續攪拌均勻,完成乳化;

    21、(4)降溫抽真空,制得無硅油無peg防曬粉底液。

    22、與現有技術相比,本專利技術的有益效果是:

    23、1.本專利技術的防曬粉底液涂抹后清爽,成膜后粘度弱,持妝效果好,其延展性、成膜性和持久度效果佳,即人體膚感效果強,且離心后無明顯出油現象,穩定性強。

    24、2.本專利技術的防曬粉底液體外spf值及uvapf值較高,即防曬效果強,且不含有硅油和peg,安全無刺激,滿足消費者對無硅無peg產品的需求,符合未來化妝品發展趨勢及法規需求。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種無硅油無PEG防曬粉底液,其特征在于,包括以下質量百分數的組分:潤膚劑13~20%、成膜劑6~10%、乳化劑3~5%、增稠劑0.2~0.8%、化學防曬劑0.8~1.5%、物理防曬劑15~20%、分散劑0.6~1%、抗氧化劑0.55~0.7%、著色劑7~9%、填充劑2~3%、保濕劑6~10%、鹽0.5%、水余量。

    2.如權利要求1所述的無硅油無PEG防曬粉底液,其特征在于,包括以下質量百分數的組分:潤膚劑17%、成膜劑8%、乳化劑4.5%、增稠劑0.5%、化學防曬劑1.2%、物理防曬劑18%、分散劑0.8%、抗氧化劑0.6%、著色劑8%、填充劑2.5%、保濕劑7.5%、鹽0.5%、水余量。

    3.如權利要求1或2所述的無硅油無PEG防曬粉底液,其特征在于,所述潤膚劑為己二酸二丁酯、碳酸二辛酯和C9-12烷,其中,己二酸二丁酯、碳酸二辛酯與C9-12烷的質量比為1:2.5~4:5~8;

    4.如權利要求3所述的無硅油無PEG防曬粉底液,其特征在于,所述成膜劑為C11-13異鏈烷烴&三甲基硅烷氧基硅樹脂,所述增稠劑為二硬脂二甲銨鋰蒙脫石,所述分散劑為聚甘油-3聚二甲基硅羥乙基聚二甲基硅氧烷,所述鹽為氯化鈉。

    5.如權利要求4所述的無硅油無PEG防曬粉底液,其特征在于,所述化學防曬劑為二乙氨羥苯甲酰基苯甲酸己酯;

    6.如權利要求5所述的無硅油無PEG防曬粉底液,其特征在于,所述抗氧化劑為生育酚乙酸酯和對羥基苯乙酮,其中,生育酚乙酸酯與對羥基苯乙酮的質量比為1:2.5~10;

    7.如權利要求6所述的無硅油無PEG防曬粉底液,其特征在于,所述填充劑為云母、硅石和乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷倍半硅氧烷交聯聚合物,其中,云母、硅石與乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷倍半硅氧烷交聯聚合物的質量比為0.5~2:1:1.5~2.2。

    8.如權利要求7所述的無硅油無PEG防曬粉底液,其特征在于,所述保濕劑為甘油和己二醇,其中,甘油與己二醇的質量比為4~14:1。

    9.一種如權利要求8所述的無硅油無PEG防曬粉底液的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:

    ...

    【技術特征摘要】

    1.一種無硅油無peg防曬粉底液,其特征在于,包括以下質量百分數的組分:潤膚劑13~20%、成膜劑6~10%、乳化劑3~5%、增稠劑0.2~0.8%、化學防曬劑0.8~1.5%、物理防曬劑15~20%、分散劑0.6~1%、抗氧化劑0.55~0.7%、著色劑7~9%、填充劑2~3%、保濕劑6~10%、鹽0.5%、水余量。

    2.如權利要求1所述的無硅油無peg防曬粉底液,其特征在于,包括以下質量百分數的組分:潤膚劑17%、成膜劑8%、乳化劑4.5%、增稠劑0.5%、化學防曬劑1.2%、物理防曬劑18%、分散劑0.8%、抗氧化劑0.6%、著色劑8%、填充劑2.5%、保濕劑7.5%、鹽0.5%、水余量。

    3.如權利要求1或2所述的無硅油無peg防曬粉底液,其特征在于,所述潤膚劑為己二酸二丁酯、碳酸二辛酯和c9-12烷,其中,己二酸二丁酯、碳酸二辛酯與c9-12烷的質量比為1:2.5~4:5~8;

    4.如權利要求3所述的無硅油無peg防曬粉底液,其特征在于,所述成膜劑為c11-13異鏈烷烴&...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:王勇王嬌嬌
    申請(專利權)人:美郅恩上海生物科技有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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