本技術屬于蒸鍍技術領域，涉及一種多蒸發源周轉式蒸鍍設備，包括蒸鍍箱體、周轉組件、擋板和四個蒸發源；蒸鍍箱體內有沿著豎直方向的中軸線，蒸鍍箱體的內腔被垂直相交于所述中軸線的兩個隔板分隔成四個獨立的蒸鍍腔；周轉組件位于所述內腔上部且繞中軸線轉動，周轉組件包括繞中軸線均布的多個旋轉平臺，旋轉平臺定位基板；四個蒸發源等高設置且到中軸線的距離相等；擋板水平設置且連接隔板的上部，擋板上90°旋轉對稱設置有四個蒸鍍孔，蒸鍍孔分設于各個蒸鍍腔的頂部。本裝置能夠讓基板通過循環經過各個蒸鍍區域使多種材料混合疊蒸于基板下表面，避免了晶振串擾問題。
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及蒸鍍，特別涉及一種多蒸發源周轉式蒸鍍設備。
技術介紹
1、真空蒸鍍，簡稱為蒸鍍，是指在真空條件下，采用電流加熱，電子束轟擊或激光加熱等方式，將傳統沉積材料蒸發或升華形成氣態粒子，氣態粒子在高真空條件下通過基本無碰撞的直線運動沉積到基板上，當聚集的粒子數超過某一臨界值時就變為穩定的核，再繼續吸附擴散粒子而逐步長大，最終通過相鄰穩定核的接觸、合并，形成連續薄膜。現有的蒸鍍設備在結構上主要分為團簇型和線型蒸鍍設備兩種。團簇型中的蒸鍍腔室分布于機械手臂腔室的周圍，線型蒸鍍腔室以線性形式分布。
2、團簇型蒸鍍設備在oled(有機發光顯示器)領域有較廣的應用，但是由于其復雜的對位和傳輸結構，在大尺寸蒸鍍領域有較大的成本劣勢，這使得其很難在高度成本敏感的光伏領域具有廣泛的應用。線型蒸鍍設備由于其結構簡單，適用性廣的優點，在大尺寸蒸鍍領域有較大的優勢，但由于蒸發源位置固定，不同蒸鍍區域材料比例不同，蒸鍍前期和后期共蒸材料比例差異較大，不利于膜層材料的均勻混合。
3、中國專利cn215050643u公開了一種蒸鍍裝置，這里圓形的基板在上方繞中心軸自轉，下部的真空腔室內繞中心軸均布有多個工位，每個工位中設有多個蒸發源，多個蒸發源在各自的工位內繞偏離中心軸的軸線自轉，使多種材料都混合蒸鍍于基板的下表面。但是有些蒸鍍材料如果彌散于同一個蒸鍍空間內會發生蒸鍍串擾問題，導致蒸鍍比例的均勻性無法控制。
4、因此有必要開發一種新的蒸鍍設備來解決以上問題。
技術實現思路
>1、本技術的主要目的在于提供一種多蒸發源周轉式蒸鍍設備，能夠為基板的表面均勻地鍍上多種材料構成的鍍層。2、本技術通過如下技術方案實現上述目的：一種多蒸發源周轉式蒸鍍設備，包括蒸鍍箱體、周轉組件、擋板和四個蒸發源；
3、所述蒸鍍箱體內有沿著豎直方向的中軸線，所述蒸鍍箱體的內腔被垂直相交于所述中軸線的兩個隔板分隔成四個獨立的蒸鍍腔；
4、所述周轉組件位于所述內腔上部且繞所述中軸線轉動，所述周轉組件包括繞所述中軸線均布的多個旋轉平臺，所述旋轉平臺定位基板；
5、四個蒸發源等高設置且到所述中軸線的距離相等；
6、所述擋板水平設置且連接所有隔板的上部，所述擋板上90°旋轉對稱設置有四個蒸鍍孔，所述蒸鍍孔分設于各個蒸鍍腔的頂部。
7、具體的，四個蒸發源分別位于四個蒸鍍腔的角平分面內，所述蒸發源所述蒸鍍孔的結構以各自所在蒸鍍腔的角平分面對稱。
8、進一步的，所述蒸鍍孔的輪廓為腰邊凹陷的類扇形結構，所述蒸鍍孔的區域分為若干以所述圓心為中心的若干圓弧，所有蒸鍍孔都具有外弧和內弧，所有外弧共圓a，所有內弧共圓b，所述圓a和所述圓b的圓心都位于所述中軸線上，所述圓弧的圓心角從所述內弧往所述外弧先單調減小再單調增大，所述內弧的圓心角為α，穿過所述蒸鍍孔下投影位置的圓弧圓心角為最小值β，所述外弧的圓心角為γ，β＜α＝γ＜90°。
9、具體的，所述蒸鍍箱體的兩側各設有一個門閥，兩個門閥外分別為進料線和出料線。
10、進一步的，每個旋轉平臺上都設有輸送機構，所述輸送機構包括若干沿所述周轉組件的徑向移動基板的磁流體滾軸。
11、具體的，每個蒸鍍腔內設有用來測量蒸鍍速率的晶振探頭。
12、本技術技術方案的有益效果是：
13、本裝置將每種材料的蒸鍍空間隔離開，讓基板以水平狀態繞蒸鍍箱體的中軸線做勻速周轉移動，蒸發源蒸出的材料穿過蒸鍍孔沉積在基板的下表面，所以基板通過循環經過各個蒸鍍區域使多種材料混合蒸鍍于基板下表面，避免了晶振串擾問題。
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【技術保護點】
1.一種多蒸發源周轉式蒸鍍設備，其特征在于：包括蒸鍍箱體、周轉組件、擋板和四個蒸發源；
2.根據權利要求1所述的多蒸發源周轉式蒸鍍設備，其特征在于：四個蒸發源分別位于四個蒸鍍腔的角平分面內，所述蒸發源所述蒸鍍孔的結構以各自所在蒸鍍腔的角平分面對稱。
3.根據權利要求2所述的多蒸發源周轉式蒸鍍設備，其特征在于：所述蒸鍍孔的輪廓為腰邊凹陷的類扇形結構，所述蒸鍍孔的區域分為若干以同一圓心為中心的若干圓弧，所有蒸鍍孔都具有外弧和內弧，所有外弧共圓A，所有內弧共圓B，所述圓A和所述圓B的圓心都位于所述中軸線上，所述圓弧的圓心角從所述內弧往所述外弧先單調減小再單調增大，所述內弧的圓心角為α，穿過所述蒸鍍孔下投影位置的圓弧圓心角為最小值β，所述外弧的圓心角為γ，β＜α＝γ＜90°。
4.根據權利要求1所述的多蒸發源周轉式蒸鍍設備，其特征在于：所述蒸鍍箱體的兩側各設有一個門閥，兩個門閥外分別為進料線和出料線。
5.根據權利要求4所述的多蒸發源周轉式蒸鍍設備，其特征在于：每個旋轉平臺上都設有輸送機構，所述輸送機構包括若干沿所述周轉組件的徑向移動基板的磁流體滾軸。
6.根據權利要求1所述的多蒸發源周轉式蒸鍍設備，其特征在于：每個蒸鍍腔內設有用來測量蒸鍍速率的晶振探頭。
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【技術特征摘要】
1.一種多蒸發源周轉式蒸鍍設備，其特征在于：包括蒸鍍箱體、周轉組件、擋板和四個蒸發源；
2.根據權利要求1所述的多蒸發源周轉式蒸鍍設備，其特征在于：四個蒸發源分別位于四個蒸鍍腔的角平分面內，所述蒸發源所述蒸鍍孔的結構以各自所在蒸鍍腔的角平分面對稱。
3.根據權利要求2所述的多蒸發源周轉式蒸鍍設備，其特征在于：所述蒸鍍孔的輪廓為腰邊凹陷的類扇形結構，所述蒸鍍孔的區域分為若干以同一圓心為中心的若干圓弧，所有蒸鍍孔都具有外弧和內弧，所有外弧共圓a，所有內弧共圓b，所述圓a和所述圓b的圓心都位于所述中軸線上，所述圓弧的圓心角從所述內弧往所述...
【專利技術屬性】
技術研發人員：楊星，王強，周文彬，
申請(專利權)人：昆山晟成光電科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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