【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及基板清洗裝置、基板處理裝置、基板清洗方法、以及基板處理方法。
技術介紹
1、在專利文獻1～5中公開了對基板的上表面進行清洗的基板清洗裝置。
2、專利文獻1：日本專利第6600470號公報
3、專利文獻2：日本專利第6710129號公報
4、專利文獻3：日本專利第6877221號公報
5、專利文獻4：日本專利第6964745號公報
6、專利文獻5：國際公開第2021/230344號
技術實現思路
1、本專利技術的課題在于能夠清洗基板的下表面。
2、根據本專利技術的一個方式，
3、提供一種基板清洗裝置，其具備：
4、第一擦洗部件，其對成為清洗對象的基板的下表面進行擦洗；
5、第一單管噴嘴，其向上述基板的下表面的中心附近供給清洗液；以及
6、第一噴霧噴嘴，其向上述基板的下表面供給清洗液。
7、在上述[1]所記載的基板清洗裝置的基礎上，
8、優選從上述第一噴霧噴嘴被供給的清洗液的著液區域從上述基板的中心附近覆蓋上述基板的邊緣附近。
9、在上述[1]或[2]所記載的基板清洗裝置的基礎上，優選具備第二單管噴嘴和第二噴霧噴嘴中的至少一方：
10、該第二單管噴嘴從鉛垂上方觀察相對于上述基板的中心配置于與上述第一單管噴嘴成為點對稱的位置，并向上述基板的下表面的中心附近，且向與來自上述第一單管噴嘴的清洗液供給區域不同的區域
11、該第二噴霧噴嘴從鉛垂上方觀察相對于上述基板的中心配置于與上述第一噴霧噴嘴成為點對稱的位置，并向上述基板的下表面供給清洗液。
12、根據本專利技術的一個方式，
13、提供一種基板清洗裝置，其具備：
14、第一擦洗部件，其對成為清洗對象的基板的下表面進行擦洗；
15、第一單管噴嘴，其向上述基板的下表面的中心附近供給清洗液；以及
16、第二單管噴嘴，其向上述基板的下表面的與中心附近不同的區域供給清洗液。
17、在上述[4]所記載的基板清洗裝置的基礎上，優選具備第三單管噴嘴和第四單管中的至少一方：
18、該第三單管噴嘴從鉛垂上方觀察相對于上述基板的中心配置于與上述第一單管噴嘴成為點對稱的位置，并向上述基板的下表面的中心附近，且向與來自上述第一單管噴嘴的清洗液供給區域不同的區域供給清洗液，
19、該第四單管從鉛垂上方觀察相對于上述基板的中心配置于與上述第二單管噴嘴成為點對稱的位置，并向上述基板的下表面的與中心附近不同的區域供給清洗液。
20、在上述[1]～[5]中任一項所記載的基板清洗裝置的基礎上，優選具備：
21、第二擦洗部件，其擦洗上述基板的上表面；
22、第三單管噴嘴，其向上述基板的上表面的中心附近供給清洗液；以及
23、第四單管噴嘴，其向上述基板的上表面的與中心附近不同的區域供給清洗液。
24、根據本專利技術的一個方式，
25、提供一種基板清洗裝置，其具備：
26、作為單管噴嘴的第一噴嘴，其向成為清洗對象的基板的下表面的中心附近供給純水；和
27、作為噴霧噴嘴的第二噴嘴，其向上述基板的下表面供給純水。
28、在上述[7]所記載的基板清洗裝置的基礎上，優選具備第三噴嘴和第四噴嘴中的至少一方：
29、該第三噴嘴是單管噴嘴，從鉛垂上方觀察相對于上述基板的中心配置于與上述第一噴嘴成為點對稱的位置，并向上述基板的下表面的中心附近，且向與來自上述第一噴嘴的純水供給區域不同的區域供給純水，
30、該第四噴嘴是噴霧噴嘴，從鉛垂上方觀察相對于上述基板的中心配置于與上述第二噴嘴成為點對稱的位置，并向上述基板的下表面供給純水。
31、根據本專利技術的一個方式，
32、提供一種基板清洗裝置，其具備：
33、作為單管噴嘴的第一噴嘴，其向成為清洗對象的基板的下表面的中心附近供給純水；和
34、作為單管噴嘴的第二噴嘴，其向上述基板的下表面的與中心附近不同的區域供給純水。
35、在上述[9]所記載的基板清洗裝置的基礎上，優選具備第三噴嘴和第四噴嘴中的至少一方：
36、該第三噴嘴是單管噴嘴，從鉛垂上方觀察相對于上述基板的中心配置于與上述第一噴嘴成為點對稱的位置，并向上述基板的下表面的中心附近，且向與來自上述第一噴嘴的純水供給區域不同的區域供給純水，
37、該第四噴嘴是單管噴嘴，從鉛垂上方觀察相對于上述基板的中心配置于與上述第二噴嘴成為點對稱的位置，并向上述基板的下表面的與中心附近不同的區域供給純水。
38、在上述[7]～[10]中任一項所記載的基板清洗裝置的基礎上，也可以是，
39、具備構成為使上述基板旋轉的基板旋轉機構，
40、從上述第一噴嘴被供給的純水的供給方向與從上述第二噴嘴被供給的純水的著液區域中的上述基板的旋轉方向的切線方向為相反方向。
41、在上述[7]～[10]中任一項所記載的基板清洗裝置的基礎上，也可以是，
42、具備構成為使上述基板旋轉的基板旋轉機構，
43、從上述第一噴嘴被供給的純水的供給方向與從上述第二噴嘴被供給的純水的著液區域中的上述基板的旋轉方向的切線方向為相同方向。
44、在上述[12]所記載的基板清洗裝置的基礎上，
45、優選上述基板與從上述第一噴嘴被供給的純水的供給方向形成的角為10～60度。
46、根據本專利技術的一個方式，
47、提供一種基板處理裝置，具備：
48、基板研磨裝置，其使用研磨液對基板進行研磨；
49、作為上述[1]～[6]中任一項所記載的基板清洗裝置的第一基板清洗裝置，其使用清洗液對由上述基板研磨裝置進行了研磨后的基板進行擦洗；以及
50、作為上述[7]～[13]中任一項所記載的基板清洗裝置的第二基板清洗裝置，其使用純水對由上述第一基板清洗裝置進行了清洗后的基板進行清洗。
51、根據本專利技術的一個方式，
52、提供一種基板清洗方法，其中，
53、包含清洗工序，在該工序中，對成為清洗對象的基板的下表面進行擦洗，并從單管噴嘴向上述基板的下表面的中心附近供給清洗液，且從噴霧噴嘴向上述基板的下表面供給清洗液。
54、根據本專利技術的一個方式，
55、提供一種基板清洗方法，其中，
56、包含清洗工序，在該工序中，對成為清洗對象的基板的下表面進行擦洗，并從第一單管噴嘴向上述基板的下表面的中心附近供給清洗液，且從第二單管噴嘴向上述基板的下表面的與中心附近不同的區域供給清洗液。
57、在上述[15]或[16]所記載的基板清洗方法的基礎上，
58、優選在使用研磨液對基板進行了研磨之后進本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種基板清洗裝置，其特征在于，具備：
2.根據權利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于，
3.根據權利要求1或2所述的基板清洗裝置，其特征在于，
4.一種基板清洗裝置，其特征在于，具備：
5.根據權利要求4所述的基板清洗裝置，其特征在于，
6.根據權利要求1或4所述的基板清洗裝置，其特征在于，具備：
7.一種基板清洗裝置，其特征在于，具備：
8.根據權利要求7所述的基板清洗裝置，其特征在于，
9.一種基板清洗裝置，其特征在于，具備：
10.根據權利要求9所述的基板清洗裝置，其特征在于，
11.根據權利要求7或9所述的基板清洗裝置，其特征在于，
12.根據權利要求7或9所述的基板清洗裝置，其特征在于，
13.根據權利要求12所述的基板清洗裝置，其特征在于，
14.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：
15.一種基板清洗方法，其特征在于，
16.一種基板清洗方法，其特征在于，
17.根據權利
18.一種基板清洗方法，其特征在于，
19.一種基板清洗方法，其特征在于，
20.根據權利要求18或19所述的基板清洗方法，其特征在于，
21.一種基板處理方法，其特征在于，包含：
...【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
1.一種基板清洗裝置，其特征在于，具備：
2.根據權利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于，
3.根據權利要求1或2所述的基板清洗裝置，其特征在于，
4.一種基板清洗裝置，其特征在于，具備：
5.根據權利要求4所述的基板清洗裝置，其特征在于，
6.根據權利要求1或4所述的基板清洗裝置，其特征在于，具備：
7.一種基板清洗裝置，其特征在于，具備：
8.根據權利要求7所述的基板清洗裝置，其特征在于，
9.一種基板清洗裝置，其特征在于，具備：
10.根據權利要求9所述的基板清洗裝置，其特征在于，
11.根據權利要求7...
【專利技術屬性】
技術研發人員：梶川敬之，半田直廉，西智也，
申請(專利權)人：株式會社荏原制作所，
類型：發明
國別省市：
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