【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及冷卻裝置、半導體制造裝置和半導體制造方法。
技術介紹
1、諸如圖案形成裝置(例如曝光裝置、壓印裝置或電子束光刻裝置)或者等離子體處理裝置(例如cvd裝置、蝕刻裝置或濺射裝置)的半導體制造裝置包括驅動機構或發熱部(例如由等離子體加熱的構件)。為了冷卻發熱部，半導體制造裝置包括冷卻裝置。冷卻裝置通過從發熱部獲取熱量并且將熱量排放到裝置外部來冷卻發熱部。
2、專利文獻1(ptl?1)公開了一種冷卻系統，其包括從部件提取熱量的蒸發器、冷凝器、泵、蓄能器、熱交換器和溫度傳感器。在該冷卻系統中，循環路徑構造成使流體制冷劑從泵經由蒸發器和冷凝器返回到泵，并且蓄能器與循環路徑流體連通。熱交換器傳遞來自蓄能器中的流體制冷劑的熱量以及向蓄能器中的流體制冷劑傳遞熱量。此時，基于來自溫度傳感器的輸出來控制熱傳遞的量。
3、引用列表
4、專利文獻
5、ptl?1：日本專利第5313384號
技術實現思路
1、技術問題
2、通常，通過泵使液體制冷劑循環的冷卻系統經常采用不需要液化裝置的、大氣壓沸點等于或高于室溫的制冷劑(例如，hfo-1336mzz(e)、novec7000或hfo-1233zd(z))。在使用制冷劑且希望將沸點溫度設定為低于大氣壓沸點時，蒸氣壓會低于大氣壓。
3、作為冷卻系統的冷卻對象，考慮具有夾套結構的線性馬達，其中線圈布置在密閉容器中并且通過用流體制冷劑填充內部空間來冷卻所述線圈，沸騰的氣化制冷劑由于密
4、為了應對該問題，考慮供應足量(流量)的制冷劑以沸騰冷卻在夾套的內部空間中發熱的線圈，但是如果內壓低，則氣化的制冷劑會膨脹以占據夾套的內部空間的上部，由此無法防止蒸干。要注意，通過進一步增加制冷劑的流量并沖走氣化的制冷劑，可以防止蒸干。然而，在此情況下，由于這等同于對流冷卻，因此無法獲得沸騰冷卻的能夠以低流量回收大量的熱的優點，由此導致由制冷劑的流量的增加引起的耐壓問題、裝置尺寸的增加、以及能量消耗的增加。
5、本專利技術提供了一種有利于對冷卻對象進行冷卻的冷卻裝置。
6、問題的解決方案
7、作為本專利技術的一方面的冷卻裝置是一種用于對冷卻對象進行冷卻的冷卻裝置，其特征在于包括循環系統，所述循環系統配置成使用于對冷卻對象進行冷卻的制冷劑循環，其中在所述循環系統中設置容器，所述容器包括在制冷劑與冷卻對象的至少一部分之間進行熱交換的區域，制冷劑是通過將第一沸點的第一制冷劑與高于所述第一沸點的第二沸點的第二制冷劑混合而獲得的混合制冷劑，所述循環系統使所述混合制冷劑循環，使得所述混合制冷劑以預定溫度進入所述容器，并且所述第一制冷劑在所述預定溫度下的蒸氣壓高于所述容器的耐壓。
8、根據以下參照附圖對示例性實施例的描述，本專利技術的更多方面將變得顯而易見。
9、本專利技術的有利效果
10、根據本專利技術，例如提供了一種有利于對冷卻對象進行冷卻的冷卻裝置。
11、根據以下結合附圖的說明，本專利技術的其他特征和優點將變得顯而易見。要注意，在各附圖中相同的附圖標記表示相同或相似的部件。
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1.一種用于對冷卻對象進行冷卻的冷卻裝置，其特征在于，所述冷卻裝置包括：
2.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，所述循環系統使所述混合制冷劑循環，使得在第一制冷劑和第二制冷劑處于液相狀態時，所述區域暴露于已經進入所述容器的所述混合制冷劑，并且從所述容器排出的所述混合制冷劑包括其中的一部分處于氣相狀態的第一制冷劑和液相狀態的第二制冷劑。
3.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，第一制冷劑和第二制冷劑以這樣的混合比混合，使得第一制冷劑在所述區域中沸騰冷卻所述冷卻對象以進入氣相狀態，并且第二制冷劑在所述區域中以液相狀態對流冷卻所述冷卻對象且壓縮氣相狀態的第一制冷劑。
4.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，所述混合制冷劑為非共沸混合制冷劑。
5.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，
6.根據權利要求5所述的冷卻裝置，其特征在于，所述第一氣化器通過使從所述壓縮機送出的氣相狀態的混合制冷劑的一部分經由節流閥與由所述氣液分離部分離的液相狀態的制冷劑合流而使液相狀態的制冷劑氣化。
7.根據權利要求
8.根據權利要求7所述的冷卻裝置，其特征在于，所述第二氣化器包括熱交換器，所述熱交換器設置在所述冷凝器中并且配置成在從所述壓縮機送出的氣相狀態的混合制冷劑與從所述容器排出的氣液混合相狀態的混合制冷劑之間進行熱交換。
9.根據權利要求5所述的冷卻裝置，其特征在于，還包括熱交換器，所述熱交換器配置成通過在與所述冷卻對象不同的冷卻對象以及由所述氣液分離部分離的液相狀態的制冷劑之間進行熱交換來冷卻與所述冷卻對象不同的冷卻對象。
10.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，在所述循環系統中設置加熱器，所述加熱器配置成加熱所述混合制冷劑，使得所述混合制冷劑的溫度達到所述預定溫度。
11.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，在所述循環系統中設置冷凝器、泵和減壓器，所述冷凝器配置成冷凝從所述容器排出的氣液混合相狀態的混合制冷劑以獲得液相狀態的混合制冷劑，所述泵配置成從所述冷凝器送出液相狀態的混合制冷劑，所述減壓器配置成減小來自所述泵的液相狀態的混合制冷劑的壓力并將混合制冷劑供應到所述容器。
12.根據權利要求11所述的冷卻裝置，其特征在于，還包括熱交換器，所述熱交換器配置成通過在與所述冷卻對象不同的冷卻對象以及從所述容器排出的氣液混合相狀態的混合制冷劑之間進行熱交換來冷卻與所述冷卻對象不同的冷卻對象。
13.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，所述第一制冷劑是R1234zeE和R-1234yf中的一種。
14.一種包括發熱部的半導體制造裝置，其特征在于，所述半導體制造裝置包括：
15.根據權利要求14所述的半導體制造裝置，其特征在于，所述半導體制造裝置形成為配置成形成圖案的圖案形成裝置。
16.一種半導體制造方法，其特征在于，所述半導體制造方法包括：
...【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
1.一種用于對冷卻對象進行冷卻的冷卻裝置，其特征在于，所述冷卻裝置包括：
2.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，所述循環系統使所述混合制冷劑循環，使得在第一制冷劑和第二制冷劑處于液相狀態時，所述區域暴露于已經進入所述容器的所述混合制冷劑，并且從所述容器排出的所述混合制冷劑包括其中的一部分處于氣相狀態的第一制冷劑和液相狀態的第二制冷劑。
3.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，第一制冷劑和第二制冷劑以這樣的混合比混合，使得第一制冷劑在所述區域中沸騰冷卻所述冷卻對象以進入氣相狀態，并且第二制冷劑在所述區域中以液相狀態對流冷卻所述冷卻對象且壓縮氣相狀態的第一制冷劑。
4.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，所述混合制冷劑為非共沸混合制冷劑。
5.根據權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于，
6.根據權利要求5所述的冷卻裝置，其特征在于，所述第一氣化器通過使從所述壓縮機送出的氣相狀態的混合制冷劑的一部分經由節流閥與由所述氣液分離部分離的液相狀態的制冷劑合流而使液相狀態的制冷劑氣化。
7.根據權利要求5所述的冷卻裝置，其特征在于，還包括第二氣化器，所述第二氣化器設置在所述容器與所述氣液分離部之間并且配置成使從所述容器排出的氣液混合相狀態的混合制冷劑氣化。
8.根據權利要求7所述的冷卻裝置，其特征在于，所述第二氣化器包括熱交換器，所述熱交換器設置在所述冷凝器中并且配置成在從所述壓縮機送出的氣相狀態的混合制冷劑與從所述容器排出的氣液混合相狀態的混合制冷劑之間進...
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