System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和長(zhǎng)度必須引用該字符串內(nèi)的位置。 參數(shù)名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種可隔絕口腔唾液、血液等污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層的制備方法與應(yīng)用,屬于口腔陶瓷涂層。
技術(shù)介紹
1、近年來(lái),氧化鋯陶瓷因其優(yōu)異的美學(xué)性能,良好的生物相容性及超高的機(jī)械強(qiáng)度而被廣泛應(yīng)用于口腔各類修復(fù)體制作,包括全冠、固定橋、粘接橋、嵌體、貼面、種植基臺(tái)以及正畸托槽等。然而不同于玻璃陶瓷,氧化鋯粘接強(qiáng)度低一直是困擾口腔醫(yī)生的一大難點(diǎn)。首先因?yàn)檠趸喪嵌嗑w類陶瓷,不含有玻璃相,難以像玻璃陶瓷一樣進(jìn)行氫氟酸酸蝕;其次是氧化鋯硬度高,密度大,表面粗糙化方法局限,較難形成與粘接劑微機(jī)械嵌鎖的粘接面;最后氧化鋯的化學(xué)惰性使其難以與有機(jī)硅烷形成化學(xué)結(jié)合。
2、目前較為公認(rèn)的處理方法是噴砂增加氧化鋯表面粗糙度,提高粘接機(jī)械固位力,以及使用含有磷酸酯類單體的樹脂粘接系統(tǒng),與氧化鋯表面的羥基形成化學(xué)結(jié)合。除此以外,臨床粘接時(shí),必須做好隔濕與防污處理,否則,將會(huì)大大降低修復(fù)體的粘接強(qiáng)度,并影響最終的耐久性。然而,修復(fù)體粘接前必須在口內(nèi)進(jìn)行試戴以檢查其適合性,這就不可避免的導(dǎo)致其粘接面被各類污染物所污染,包括唾液,血液,齦溝液以及硅橡膠指示劑等,其中唾液污染影響最大。唾液99%為水,除此,還含有各類有機(jī)物(如唾液蛋白,細(xì)菌,食物殘?jiān)约懊阜肿?和無(wú)機(jī)成分(礦物質(zhì))。臨床試戴時(shí)唾液蛋白數(shù)秒內(nèi)便可在修復(fù)體粘接面形成納米薄膜,降低粘接面自由能,并占據(jù)氧化鋯與樹脂粘接劑的結(jié)合位點(diǎn),影響樹脂粘接劑在粘接面滲透固化和化學(xué)結(jié)合,進(jìn)而降低氧化鋯粘接強(qiáng)度及粘接耐久性。通過(guò)掃描電鏡(sem)發(fā)現(xiàn)唾液污染后的氧化鋯表面可見一
3、因此,國(guó)內(nèi)外學(xué)者對(duì)于如何去除唾液污染對(duì)氧化鋯粘接強(qiáng)度的影響進(jìn)行了大量的研究,現(xiàn)有方法主要集中在表面物理處理(噴砂)和化學(xué)清潔。其中,化學(xué)清潔主要是使用化清潔劑ivoclean(義獲嘉)處理或者臨床常規(guī)處理酒精擦拭。ivoclean(義獲嘉)是一種紫色強(qiáng)堿性過(guò)飽和溶液,主要成分為球形氧化鋯顆粒、氫氧化鈉、聚乙烯乙二醇、水及顏料等。該產(chǎn)品雖然基本能夠去除唾液污染對(duì)氧化鋯粘接的影響,但殘留的氧化鋯小顆粒會(huì)降低粘接耐久性,同時(shí)該產(chǎn)品單瓶?jī)r(jià)格近五百元,每瓶?jī)H5g,使用成本較高。而臨床常規(guī)處理酒精擦拭并不能有效去除粘接面唾液蛋白膜,提高粘接強(qiáng)度。以上方法集中在唾液污染后如何去除唾液污染對(duì)氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的影響,而本專利技術(shù)目的在于尋找一種簡(jiǎn)單高效,低成本的方法,在氧化鋯粘接面構(gòu)建一層保護(hù)屏障,從根本上隔絕唾液污染。因此,迫切需要研發(fā)一種可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層材料。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本專利技術(shù)提供一種可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層的制備方法與應(yīng)用。
2、本專利技術(shù)的技術(shù)方案如下:
3、一種可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層的制備方法,包括步驟如下:
4、(1)對(duì)基底材料進(jìn)行清潔;
5、(2)配制單寧酸(ta)溶液和六水合三氯化鐵(fecl3·6h2o)溶液;
6、(3)向清潔后基底材料中依次加入六水合三氯化鐵(fecl3·6h2o)溶液和單寧酸(ta)溶液,每次加入后渦旋20~60s,調(diào)節(jié)ph值為7~9,繼續(xù)渦旋20~60s,清洗吹干后,得到可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層。
7、根據(jù)本專利技術(shù)優(yōu)選的,步驟(1)中,所述基底材料為氧化鋯修復(fù)體。
8、根據(jù)本專利技術(shù)優(yōu)選的,步驟(1)中,所述清潔的方法為:向基底材料中加入無(wú)水乙醇,超聲清潔10min,然后換用去離子水,繼續(xù)超聲5min。
9、根據(jù)本專利技術(shù)優(yōu)選的,步驟(2)中,所述單寧酸(ta)溶液的濃度為3~4mg/ml。
10、進(jìn)一步優(yōu)選的,所述單寧酸(ta)溶液的濃度為3.2mg/ml。
11、根據(jù)本專利技術(shù)優(yōu)選的,步驟(2)中,所述六水合三氯化鐵(fecl3·6h2o)溶液的濃度為0.75~1mg/ml。
12、進(jìn)一步優(yōu)選的,所述六水合三氯化鐵(fecl3·6h2o)溶液的濃度為0.8mg/ml。
13、根據(jù)本專利技術(shù)優(yōu)選的,步驟(3)中,所述單寧酸(ta)溶液和六水合三氯化鐵(fecl3·6h2o)溶液的體積比為1:1,質(zhì)量濃度比為4:1。
14、根據(jù)本專利技術(shù)優(yōu)選的,步驟(3)中,采用0.1m、ph=13的naoh調(diào)節(jié)ph。
15、本專利技術(shù)還提供了上述方法制備的可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層。
16、上述可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層在口腔修復(fù)中的應(yīng)用。
17、根據(jù)本專利技術(shù)優(yōu)選的,所述應(yīng)用具體為:
18、在臨床試戴前,按照上述方法制備可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層,得到預(yù)涂覆mpn(fe-ta)涂層的修復(fù)體;
19、將預(yù)涂覆mpn(fe-ta)涂層的修復(fù)體在口腔內(nèi)進(jìn)行試戴,以檢查其適合性;
20、臨床試戴完后粘接前,體外將預(yù)涂覆mpn(fe-ta)涂層的修復(fù)體放入至hcl溶液中,超聲20~60s,調(diào)節(jié)ph值為1~2,隨后放入至naoh溶液中,中和表面多余的酸和去除殘留的蛋白,清洗吹干后,得到去除mpn(fe-ta)涂層的修復(fù)體后,進(jìn)行口腔修復(fù)。
21、進(jìn)一步優(yōu)選的,所述hcl溶液的濃度為0.1mol/l,ph=1;naoh溶液的濃度為0.1mol/l,ph=13。
22、本專利技術(shù)的技術(shù)特點(diǎn):
23、本專利技術(shù)通過(guò)一步組裝法,在室溫環(huán)境下下利用天然多酚單寧酸(ta)和金屬離子配合物六水合三氯化鐵(fecl3·6h2o)在氧化鋯修復(fù)體上進(jìn)行水性沉積,數(shù)秒內(nèi)便可形成約10nm的薄膜涂層。該薄膜涂層由多酚吸附引發(fā),金屬離子無(wú)機(jī)交聯(lián),ph依賴性多價(jià)配位鍵合指導(dǎo)。
24、涂層組裝與去除的具體機(jī)制為:當(dāng)ph小于2時(shí),混合液為無(wú)色,低ph下ta的大量羥基(與金屬離子結(jié)合位點(diǎn))被質(zhì)子化,fe-ta交聯(lián)不穩(wěn)定,呈單面體絡(luò)合,膜分解(涂層去除機(jī)制);當(dāng)ph大于3小于6時(shí),混合液呈藍(lán)色,fe-ta呈二面體絡(luò)合,膜相對(duì)不穩(wěn)定;當(dāng)ph大于7時(shí),混合液呈紅色,fe-ta呈三面體絡(luò)合,膜具有高度穩(wěn)定性和高機(jī)械性(涂層穩(wěn)定機(jī)制)。
25、天然多酚單寧酸(ta)與唾液蛋白通過(guò)疏水作用以及氫鍵等結(jié)合,本專利技術(shù)利用mpn(fe-ta)涂層作為屏障來(lái)有效隔絕蛋白與氧化鋯的相互作用,隨后利用天然多酚ta和3價(jià)fe離子的配合物的ph依賴性,將其浸入鹽酸溶液中,納米涂層隨著ph的降低而降解,隨后通過(guò)堿中和多余的酸和去除殘留的蛋白,進(jìn)而留有清潔修復(fù)體表面,用于后續(xù)口腔修復(fù)。
26、本專利技術(shù)的有益效果為:
27、1、本專利技術(shù)利用天然多酚單寧本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層的制備方法,其特征在于,包括步驟如下:
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述基底材料為氧化鋯修復(fù)體。
3.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述清潔的方法為:向基底材料中加入無(wú)水乙醇,超聲清潔10min,然后換用去離子水,繼續(xù)超聲5min。
4.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述單寧酸溶液的濃度為3~4mg/mL;
5.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述六水合三氯化鐵溶液的濃度為0.75~1mg/mL;
6.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,所述單寧酸溶液和六水合三氯化鐵溶液的體積比為1:1,質(zhì)量濃度比為4:1。
7.一種可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層,其特征在于,按照權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述制備方法制備得到。
8.權(quán)利要求1所述可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層在口腔修復(fù)中
9.如權(quán)利要求8所述的應(yīng)用,其特征在于,所述應(yīng)用具體為:
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種可隔絕唾液污染、提高氧化鋯修復(fù)體粘接強(qiáng)度的納米可去除涂層的制備方法,其特征在于,包括步驟如下:
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述基底材料為氧化鋯修復(fù)體。
3.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述清潔的方法為:向基底材料中加入無(wú)水乙醇,超聲清潔10min,然后換用去離子水,繼續(xù)超聲5min。
4.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述單寧酸溶液的濃度為3~4mg/ml;
5.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:吳峻嶺,張迎潔,李建華,齊躍寧,劉學(xué)業(yè),仇心穎,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:山東大學(xué),
類型:發(fā)明
國(guó)別省市:
還沒有人留言評(píng)論。發(fā)表了對(duì)其他瀏覽者有用的留言會(huì)獲得科技券。