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    接合結(jié)構(gòu)制造技術(shù)

    技術(shù)編號:44135984 閱讀:12 留言:0更新日期:2025-01-29 10:14
    本申請的實(shí)施例提供了一種接合結(jié)構(gòu),該接合結(jié)構(gòu)包括:第一焊盤,以及第一納米線結(jié)構(gòu),第一納米線結(jié)構(gòu)包括:第一緩沖納米柱,設(shè)置于第一焊盤上;和導(dǎo)電層,設(shè)置于第一焊盤和第一緩沖納米柱上,并且導(dǎo)電層包覆第一緩沖納米柱的外側(cè)壁。上述技術(shù)方案,通過具有外側(cè)壁由導(dǎo)電層覆蓋的第一緩沖納米柱,至少使得接合結(jié)構(gòu)至少可以提供更穩(wěn)定的接合。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本申請涉及半導(dǎo)體,更具體地,涉及一種接合結(jié)構(gòu)


    技術(shù)介紹

    1、隨著半導(dǎo)體行業(yè)的持續(xù)發(fā)展,用于進(jìn)行電連接的接合結(jié)構(gòu)也變得越來越重要。在現(xiàn)有的包括納米線的接合結(jié)構(gòu)中,由于在接合之后,部分納米線之間接觸面積較小(例如僅點(diǎn)接觸)且它們之間的摩擦力不足以彼此固定,從而納米線之間可能會產(chǎn)生撞擊,從而可能導(dǎo)致納米線產(chǎn)生裂縫、斷裂和/或變形等缺陷。因此,這種接合結(jié)構(gòu)會具有較差電性能,或者甚至?xí)А?/p>

    2、圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)中的包括接合結(jié)構(gòu)12的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)10的截面示意圖,并且圖2示出了圖1的接合結(jié)構(gòu)12的區(qū)域14的放大示意圖。參見圖1和圖2所示,圖1示出了接合結(jié)構(gòu)12將上方的晶片16與下方的襯底18電連接,接合結(jié)構(gòu)12包括連接至晶片16的上焊盤20,連接至襯底18的下焊盤22,以及分別從上焊盤20和下焊盤22向下和向上延伸的納米線24和26。在將納米線24和26接合之后,部分納米線24和部分納米線26之間僅僅點(diǎn)接觸,由于這種點(diǎn)接觸且納米線24和26之間的摩擦力不足,這可能會造成納米線24和26產(chǎn)生裂縫、斷裂(如圖2中箭頭28所示)和/或變形(如圖2中箭頭30所示)等缺陷。進(jìn)一步,由于較少的接觸(例如僅點(diǎn)接觸)以及納米線變形等缺陷,接合結(jié)構(gòu)的電性能較差,甚至?xí)АR虼耍^續(xù)提供一種能夠提供更穩(wěn)定的接合的接合結(jié)構(gòu)。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的以上問題,本申請的實(shí)施例提出了一種接合結(jié)構(gòu),該接合結(jié)構(gòu)至少能夠提供更穩(wěn)定的接合。

    2、根據(jù)本申請的一個方面,提供了一種接合結(jié)構(gòu),該接合結(jié)構(gòu)包括:第一焊盤,以及第一納米線結(jié)構(gòu),第一納米線結(jié)構(gòu)包括:第一緩沖納米柱,設(shè)置于第一焊盤上;和導(dǎo)電層,設(shè)置于第一焊盤和第一緩沖納米柱上,并且導(dǎo)電層包覆第一緩沖納米柱的外側(cè)壁。

    3、在一個或多個實(shí)施例中,接合結(jié)構(gòu)還包括第二焊盤和第二導(dǎo)電納米線,第二焊盤設(shè)置于第一焊盤上方,并且第二導(dǎo)電納米線設(shè)置于第二焊盤上,導(dǎo)電層的包覆第一緩沖納米柱的外側(cè)壁的部分為外側(cè)導(dǎo)電壁,第二導(dǎo)電納米線的側(cè)表面接觸外側(cè)導(dǎo)電壁。

    4、在一個或多個實(shí)施例中,導(dǎo)電層還包覆第一緩沖納米柱的頂面。

    5、在一個或多個實(shí)施例中,第二導(dǎo)電納米線的側(cè)表面為由往第二焊盤方向傾斜延伸的多個導(dǎo)電線形成的粗糙表面,多個導(dǎo)電線刺入外側(cè)導(dǎo)電壁。

    6、在一個或多個實(shí)施例中,導(dǎo)電層為石墨烯材料形成的導(dǎo)電層。

    7、在一個或多個實(shí)施例中,導(dǎo)電層的包覆第一緩沖納米柱的外側(cè)壁的部分為外側(cè)導(dǎo)電壁,外側(cè)導(dǎo)電壁包括往第一焊盤方向傾斜延伸的多個導(dǎo)電線。

    8、在一個或多個實(shí)施例中,多個導(dǎo)電線與第二導(dǎo)電納米線為相同導(dǎo)電材料形成的一體件。

    9、在一個或多個實(shí)施例中,第一納米線結(jié)構(gòu)還包括第二緩沖納米柱,第二緩沖納米柱設(shè)置于第一焊盤上并且與第一緩沖納米柱相鄰并間隔開,導(dǎo)電層還包覆第二緩沖納米柱的外側(cè)壁。

    10、在一個或多個實(shí)施例中,接合結(jié)構(gòu)還包括第二焊盤和第二導(dǎo)電納米線,第二焊盤設(shè)置于第一焊盤上方,并且第二導(dǎo)電納米線設(shè)置于第二焊盤上方,第二導(dǎo)電納米線位于包覆第一緩沖納米柱的外側(cè)壁和第二緩沖納米柱的外側(cè)壁的導(dǎo)電層之間。

    11、在一個或多個實(shí)施例中,導(dǎo)電層的包覆第一緩沖納米柱的頂面的部分,與第二焊盤直接接觸。

    12、在一個或多個實(shí)施例中,導(dǎo)電層的直接接觸第一焊盤的部分,與第二導(dǎo)電納米線的頂面直接接觸。

    13、在一個或多個實(shí)施例中,第一緩沖納米柱和第二緩沖納米柱為彈性柱。

    14、在一個或多個實(shí)施例中,外側(cè)導(dǎo)電壁為平坦的表面。

    15、在一個或多個實(shí)施例中,第二導(dǎo)電納米線為金屬納米線。

    16、在一個或多個實(shí)施例中,接合結(jié)構(gòu)還包括保護(hù)層,保護(hù)層圍繞并直接接觸第一焊盤、第二焊盤、導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電納米線。

    17、在一個或多個實(shí)施例中,第二導(dǎo)電納米線的直徑在2微米至50微米之間的范圍內(nèi)。

    18、根據(jù)本申請的另一方面,提供了一種接合結(jié)構(gòu),該接合結(jié)構(gòu)包括:第一焊盤;多個緩沖納米柱,從第一焊盤向上延伸;導(dǎo)電層,至少覆蓋多個緩沖納米柱的外側(cè)壁;第二焊盤,位于第一焊盤上方;以及第二導(dǎo)電納米線,從第二焊盤向下延伸,第二導(dǎo)電納米線位于包覆相鄰的兩個緩沖納米柱的外側(cè)壁的導(dǎo)電層之間。

    19、在一個或多個實(shí)施例中,緩沖納米柱為熱塑性樹脂形成的柱。

    20、在一個或多個實(shí)施例中,緩沖納米柱的直徑在2微米至50微米之間的范圍內(nèi)。

    21、在一個或多個實(shí)施例中,多個緩沖納米柱中的每相鄰兩個緩沖納米柱等間距間隔開。

    22、本技術(shù)的有益技術(shù)效果在于:

    23、由于本申請的實(shí)施例的接合結(jié)構(gòu)具有外側(cè)壁由導(dǎo)電層覆蓋的緩沖納米柱,通過緩沖納米柱的緩沖作用,接合結(jié)構(gòu)至少可以提供更穩(wěn)定的接合。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種接合結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括第二焊盤和第二導(dǎo)電納米線,所述第二焊盤設(shè)置于所述第一焊盤上方,并且所述第二導(dǎo)電納米線設(shè)置于所述第二焊盤上,

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述導(dǎo)電層還包覆所述第一緩沖納米柱的頂面。

    4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第二導(dǎo)電納米線的側(cè)表面為由往所述第二焊盤方向傾斜延伸的多個導(dǎo)電線形成的粗糙表面,所述多個導(dǎo)電線刺入所述外側(cè)導(dǎo)電壁。

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述導(dǎo)電層的包覆所述第一緩沖納米柱的所述外側(cè)壁的部分為外側(cè)導(dǎo)電壁,所述外側(cè)導(dǎo)電壁包括往所述第一焊盤方向傾斜延伸的多個導(dǎo)電線。

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一納米線結(jié)構(gòu)還包括第二緩沖納米柱,所述第二緩沖納米柱設(shè)置于所述第一焊盤上并且與所述第一緩沖納米柱相鄰并間隔開,所述導(dǎo)電層還包覆所述第二緩沖納米柱的外側(cè)壁。

    7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括第二焊盤和第二導(dǎo)電納米線,所述第二焊盤設(shè)置于所述第一焊盤上方,并且所述第二導(dǎo)電納米線設(shè)置于所述第二焊盤上方,

    8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述導(dǎo)電層的包覆所述第一緩沖納米柱的頂面的部分,與所述第二焊盤直接接觸。

    9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述導(dǎo)電層的直接接觸所述第一焊盤的部分,與所述第二導(dǎo)電納米線的頂面直接接觸。

    10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一緩沖納米柱和所述第二緩沖納米柱為彈性柱。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種接合結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括第二焊盤和第二導(dǎo)電納米線,所述第二焊盤設(shè)置于所述第一焊盤上方,并且所述第二導(dǎo)電納米線設(shè)置于所述第二焊盤上,

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述導(dǎo)電層還包覆所述第一緩沖納米柱的頂面。

    4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第二導(dǎo)電納米線的側(cè)表面為由往所述第二焊盤方向傾斜延伸的多個導(dǎo)電線形成的粗糙表面,所述多個導(dǎo)電線刺入所述外側(cè)導(dǎo)電壁。

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述導(dǎo)電層的包覆所述第一緩沖納米柱的所述外側(cè)壁的部分為外側(cè)導(dǎo)電壁,所述外側(cè)導(dǎo)電壁包括往所述第一焊盤方向傾斜延伸的多個導(dǎo)電線。

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接合結(jié)構(gòu),其...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:呂文隆
    申請(專利權(quán))人:日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司
    類型:新型
    國別省市:

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