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    高聚光LED光源制備方法技術

    技術編號:44140477 閱讀:11 留言:0更新日期:2025-01-29 10:17
    本發明專利技術涉及LED光源的技術領域,公開了高聚光LED光源制備方法,包括以下制備步驟:1)、提供基板,基板中設有發光區,發光區中設有內圍壩,內圍壩包圍形成中部區域;2)、在中部區域上設置發光芯片,發光芯片與中部區域的內側壁之間具有內環區域;3)、設置熒光膠層;4)、設置透光膠層,透光膠層的下部嵌入發光區中,與基板形成一體結構;透光膠層的上部延伸至基板的上方,形成上方段;透光膠層的下部嵌入在發光區中,可以與基板形成更穩固的整體結構,透光膠層的下部受到發光區的周向限制,限制透光膠層朝外周過大流動,可以保持透光膠層的上方段可以形成更高的拱起形狀,以限制光線照射范圍,實現高聚光照射的效果。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術專利涉及led光源的,具體而言,涉及高聚光led光源制備方法。


    技術介紹

    1、隨著led技術的發展,目前,led光源在日常生活中的運用越來越廣泛,且運用在各種行業中。led光源具有體積小、壽命長、效率高等優點,可連續使用長達十萬個小時,led光源在照明領域成為主流。

    2、現有技術中,led光源包括基板,所述基板上設有凹陷的發光區,發光區上設有發光芯片,發光區上覆蓋有熒光膠層,發光芯片發出的光線,透光熒光膠層后,朝外照射,但是,現時的led光源存在聚光度不夠的缺陷,難以滿足高聚光照明的需求。


    技術實現思路

    1、本專利技術的目的在于提供高聚光led光源制備方法,旨在解決現有技術中,led光源聚光度不夠的問題。

    2、本專利技術是這樣實現的,高聚光led光源制備方法,包括以下制備步驟:

    3、1)、提供基板,所述基板中設有凹陷的發光區,所述發光區中設有內圍壩,所述內圍壩包圍形成中部區域;所述發光區的外周具有外反光側壁,所述外反光側壁沿著發光區的外周環繞;

    4、2)、在所述中部區域上設置發光芯片,所述發光芯片與中部區域的內側壁之間具有內環區域,所述內環區域環繞發光芯片外周布置;所述發光芯片的外周具有外周發光面;

    5、3)、在所述中部區域設置熒光膠層,所述熒光膠層填充了內環區域,且覆蓋了發光芯片;

    6、4)、在所述基板上設置透光膠層,所述透光膠層的下部嵌入發光區中,覆蓋了熒光膠層及內圍壩,與所述基板形成一體結構;所述透光膠層的上部延伸至基板的上方,形成上方段。

    7、進一步的,所述制備步驟1)中,所述內圍壩的外周延伸至外反光側壁,與所述外反光側壁對接形成一體;所述制備步驟4)中,所述熒光膠層的下部覆蓋在內圍壩的頂部。

    8、進一步的,所述制備步驟1)中,所述內圍壩的外周與外反光側壁之間具有外環區域,所述外環區域沿著內圍壩的外周環繞布置;所述制備步驟4)中,所述透光膠層的下部嵌入在外環區域中。

    9、進一步的,所述制備步驟1)中,所述內圍壩的頂部低于發光區的頂部,所述內圍壩的內側具有朝向發光芯片的內反光側壁,所述內反光側壁沿著發光芯片的外周環繞布置;沿著所述內圍壩自下而上的方向,所述內反光側壁偏離發光芯片傾斜布置;所述內反光側壁將外周發光面發出的光線進行反射,以使光線背離發光區朝外照射。

    10、進一步的,所述制備步驟1)中,沿著所述基板自下而上的方向,所述外反光側壁偏離發光芯片傾斜布置;所述外反光側壁將外周發光面發出的光線進行反射,以使光線背離發光區朝外照射。

    11、進一步的,所述制備步驟3)中,所述熒光膠層的頂部具有內部頂部面,所述內部頂部面朝上拱起呈弧面狀。

    12、進一步的,所述制備步驟4)中,所述上方部的頂部具有外部頂部面,所述外部頂部面朝上拱起呈弧面狀,且所述內部頂部面的彎曲曲率大于外部頂部面的彎曲曲率。

    13、進一步的,所述制備步驟3)中,當所述中部區域上布置熒光膠層后,將所述內部頂部面的中部朝下凹陷處理,形成朝下凹陷的內嵌槽,沿著所述內嵌槽的深度方向,所述內嵌槽的直徑逐漸縮??;所述制備步驟4)中,所述透光膠層的下部嵌入填充了內嵌槽,與所述熒光膠層形成一體。

    14、進一步的,所述制備步驟1)中,所述基板上設有外圍壩,所述外圍壩沿著發光區的周向環繞布置,所述外圍壩的內側具有朝內側壁,所述朝內側壁形成有朝上布置的環形臺階,多個所述環形臺階沿著朝內側壁的高度方向間隔布置,所述環形臺階沿著外圍壩的周向環繞布置;

    15、所述外圍壩中設有多個加固孔,多個所述加固孔沿著外圍壩的周向環繞布置;所述加固孔的內段貫穿朝內側壁,形成內側開口,所述加固孔的外端形成在外圍壩中,且沿著所述加固孔內端至外端的方向,所述加固孔朝下清洗布置;

    16、所述外圍壩中具有多個縱向布置的溢流孔,多個所述溢流孔沿著外圍壩的周向環繞布置;所述溢流孔的底部與加固孔的外端連通,所述溢流孔的頂部貫穿外圍壩的頂部,形成頂部開口;所述外圍壩的頂部設有頂部槽,所述頂部槽沿著外圍壩的周向環繞布置,所述頂部開口形成在頂部槽的底部;

    17、所述制備步驟4)中,當在所述發光區中布置透光膠層的過程中,所述透光膠層覆蓋在環形臺階上,且通過內側開口進入加固孔,填充了加固孔以及溢流孔,所述透光膠層通過頂部開口,溢流至所述頂部槽中,形成填充在頂部槽中的頂部環段;所述外圍壩以及頂部環段分別抵接在上方段的外周。

    18、進一步的,所述制備步驟4)中,所述頂部槽中形成有多個所述頂部環段,且多個所述頂部環段沿著外圍壩的周向間隔環繞布置,多個所述頂部環段分別抵接在上方段的外周,與所述上方段形成一體。。

    19、與現有技術相比,本專利技術提供的上述提供的高聚光led光源制備方法,通過布置內圍壩,在發光區中形成中部區域,在中部區域中設置發光芯片,形成內環區域,通過布置熒光膠層填充了內環區域,且覆蓋了發光芯片,再在基板上布置透光膠層,透光膠層的下部嵌入發光區,與基板形成一體結構,上方段則朝上延伸布置;發光芯片發出的光線,透過熒光膠層以及透光膠層朝外照射,以達到所需的光照需求;

    20、其次,透光膠層的下部嵌入在發光區中,可以與基板形成更穩固的整體結構,透光膠層的下部受到發光區的周向限制,限制透光膠層朝外周過大流動,可以保持透光膠層的上方段可以形成更高的拱起形狀,以限制光線照射范圍,實現高聚光照射的效果。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.高聚光LED光源制備方法,其特征在于,包括以下制備步驟:

    2.如權利要求1所述的高聚光LED光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟1)中,所述內圍壩的外周延伸至外反光側壁,與所述外反光側壁對接形成一體;所述制備步驟4)中,所述熒光膠層的下部覆蓋在內圍壩的頂部。

    3.如權利要求1所述的高聚光LED光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟1)中,所述內圍壩的外周與外反光側壁之間具有外環區域,所述外環區域沿著內圍壩的外周環繞布置;所述制備步驟4)中,所述透光膠層的下部嵌入在外環區域中。

    4.如權利要求1至3任一項所述的高聚光LED光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟1)中,所述內圍壩的頂部低于發光區的頂部,所述內圍壩的內側具有朝向發光芯片的內反光側壁,所述內反光側壁沿著發光芯片的外周環繞布置;沿著所述內圍壩自下而上的方向,所述內反光側壁偏離發光芯片傾斜布置;所述內反光側壁將外周發光面發出的光線進行反射,以使光線背離發光區朝外照射。

    5.如權利要求1至3任一項所述的高聚光LED光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟1)中,沿著所述基板自下而上的方向,所述外反光側壁偏離發光芯片傾斜布置;所述外反光側壁將外周發光面發出的光線進行反射,以使光線背離發光區朝外照射。

    6.如權利要求1至3任一項所述的高聚光LED光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟3)中,所述熒光膠層的頂部具有內部頂部面,所述內部頂部面朝上拱起呈弧面狀。

    7.如權利要求6所述的高聚光LED光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟4)中,所述上方部的頂部具有外部頂部面,所述外部頂部面朝上拱起呈弧面狀,且所述內部頂部面的彎曲曲率大于外部頂部面的彎曲曲率。

    8.如權利要求7所述的高聚光LED光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟3)中,當所述中部區域上布置熒光膠層后,將所述內部頂部面的中部朝下凹陷處理,形成朝下凹陷的內嵌槽,沿著所述內嵌槽的深度方向,所述內嵌槽的直徑逐漸縮??;所述制備步驟4)中,所述透光膠層的下部嵌入填充了內嵌槽,與所述熒光膠層形成一體。

    9.如權利要求1至3任一項所述的高聚光LED光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟1)中,所述基板上設有外圍壩,所述外圍壩沿著發光區的周向環繞布置,所述外圍壩的內側具有朝內側壁,所述朝內側壁形成有朝上布置的環形臺階,多個所述環形臺階沿著朝內側壁的高度方向間隔布置,所述環形臺階沿著外圍壩的周向環繞布置;

    10.如權利要求9所述的高聚光LED光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟4)中,所述頂部槽中形成有多個所述頂部環段,且多個所述頂部環段沿著外圍壩的周向間隔環繞布置,多個所述頂部環段分別抵接在上方段的外周,與所述上方段形成一體。

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    【技術特征摘要】

    1.高聚光led光源制備方法,其特征在于,包括以下制備步驟:

    2.如權利要求1所述的高聚光led光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟1)中,所述內圍壩的外周延伸至外反光側壁,與所述外反光側壁對接形成一體;所述制備步驟4)中,所述熒光膠層的下部覆蓋在內圍壩的頂部。

    3.如權利要求1所述的高聚光led光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟1)中,所述內圍壩的外周與外反光側壁之間具有外環區域,所述外環區域沿著內圍壩的外周環繞布置;所述制備步驟4)中,所述透光膠層的下部嵌入在外環區域中。

    4.如權利要求1至3任一項所述的高聚光led光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟1)中,所述內圍壩的頂部低于發光區的頂部,所述內圍壩的內側具有朝向發光芯片的內反光側壁,所述內反光側壁沿著發光芯片的外周環繞布置;沿著所述內圍壩自下而上的方向,所述內反光側壁偏離發光芯片傾斜布置;所述內反光側壁將外周發光面發出的光線進行反射,以使光線背離發光區朝外照射。

    5.如權利要求1至3任一項所述的高聚光led光源制備方法,其特征在于,所述制備步驟1)中,沿著所述基板自下而上的方向,所述外反光側壁偏離發光芯片傾斜布置;所述外反光側壁將外周發光面發出的光線進行反射,以使光線背離發光區朝外照射。

    6.如權利要求1至3任一項所述的高聚光led光源制備方...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:劉建強,文健華,楊春福,陳永華李沙沙饒金芳,王興,馮雄偉,
    申請(專利權)人:深圳市中實光電科技有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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