【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于電鍍陶瓷，具體涉及一種高溫電鍍陶瓷馬賽克及其生產工藝。
技術介紹
1、陶瓷馬賽克是一種傳統的鑲嵌工藝品，是一種由黏土燒制而成的小塊陶瓷瓷磚組成的材料，具有抗火、抗凍、不吸水、防滑和易清潔等優點，堅固耐用且造價偏低。陶瓷馬賽克作為一種傳統并且實用的裝飾材料，在現代建筑和室內設計中占有比較重要的地位。
2、而通過電鍍可以進一步裝飾和美化陶瓷制品，經過電鍍處理之后，可以在陶瓷馬賽克表面形成各種色彩或者圖案的鍍層，提高陶瓷馬賽克的觀賞價值和市場競爭力，滿足人們更多樣的需求。
3、但是目前存在的電鍍陶瓷馬賽克產品或者電鍍小規格陶瓷產品都是采用低溫生產，其生產過程大都是先用烤箱烤干水分，再進入真空電鍍爐在150℃下低溫電鍍，這樣得到的產品雖然相較于高溫電鍍能夠減少鍍層內應力，提高鍍層穩定性，但是低溫電鍍得到的產品使用壽命短，容易掉色，很多陶瓷產品與真空鍍膜之間的結合力差，耐刮擦性能差。
技術實現思路
1、本專利技術的目的在于提供一種高溫電鍍陶瓷馬賽克及其生產工藝，以解決電鍍陶瓷產品使用壽命短、不耐刮擦以及易掉色的問題。
2、本專利技術的目的可以通過以下技術方案實現：
3、本專利技術提供了一種高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，包括以下工藝步驟：
4、s1.預處理：將陶瓷坯體清洗干燥后，在坯體表面噴涂uv涂料，烘干固化后形成uv層，得到預處理陶瓷坯體；
5、s2.高溫鍍膜：在得到的預處理陶瓷坯體uv層上繼續噴涂鍍膜料
6、s3.電鍍：在真空條件下，s2步驟中得到的陶瓷坯體通過磁控濺射，在高溫鍍膜結合層表面進行金屬轟擊附著，形成電鍍金屬層；
7、s4.上色：通過控制電鍍輔助氣體種類，在s3步驟中得到的陶瓷坯體電鍍金屬層表面通過磁控濺射金屬鈦，進行上色，形成電鍍著色層，最后得到高溫電鍍陶瓷馬賽克。
8、優選的，s2高溫鍍膜步驟中高溫燒制溫度為800～900℃。
9、優選的，s3電鍍步驟中真空度為10-7～10-3mbar，磁控濺射溫度為600～800℃，濺射時間為40～90min。
10、優選的，s3電鍍步驟中的金屬層為鈦層、鎳層、鈷層和鐵層中的一種。
11、優選的，輔助氣體包括氧氣、氬氣和氮氣中的一種。
12、優選的，s4上色步驟中濺射時間為2～6min。
13、優選的，uv層的厚度為8～12μm；高溫鍍膜結合層的厚度為0.1～0.2mm；電鍍金屬層的厚度為0.1～0.3μm；電鍍著色層的厚度為1～3μm。
14、通過采用上述技術方案，經過本專利技術得到的高溫電鍍陶瓷馬賽克為多層結構，在經過預處理后陶瓷表面光滑不含雜質，反應活性強，能夠在高溫燒制過程中與高溫鍍膜結合層緊密結合，進一步的，可以進行高溫電鍍處理，由于陶瓷坯體與電鍍層之間存在高溫鍍膜結合層，能夠消除高溫下產生的應力，解決了原本高溫鍍層結構穩定性差的問題，還提高了電鍍層與陶瓷基材之間的附著力。
15、并且在電鍍的過程中，調節電鍍的真空度，同時在高溫條件下，可以促進金屬離子的擴散和沉積，金屬離子的沉積也變得更加有序，可以形成更加細小和均勻的晶粒，使得到的電鍍金屬層更為致密，機械強度也有所提高，鍍層與基材之間的結合力也顯著提升，能夠顯著提高得到的陶瓷馬賽克的耐刮擦性和使用壽命。
16、最后，通過調節輔助氣體的種類，比如在氮氣氣氛中，金屬鈦通過磁控濺射之后就能夠使陶瓷馬賽克材料呈現金色，在氬氣氣氛中反應得到銀色，而在氧氣氣氛中，能夠得到七彩的陶瓷馬賽克產品。通過這種方法得到的陶瓷馬賽克顏色鮮艷，工藝步驟簡單，不易掉色，能顯著提升材料的使用壽命。
17、優選的，uv涂料的原料包括質量比為1：（0.4～0.5）：（1～1.2）的uv漆、光引發劑和稀釋劑。
18、優選的，uv漆包括環氧丙烯酸酯樹脂和聚氨酯丙烯酸酯樹脂中的一種。
19、優選的，光引發劑包括二芳基碘鎓鹽、三芳基磺酰胺鹽、苯偶酰二烷基縮酮、苯甲酰甲酸脂類光引發劑和酰基磷氧化物光引發劑中的一種或多種的組合。
20、優選的，稀釋劑包括三甲基丙烯酸甘油酯、三丙烯酸甘油酯、己二異氰酸酯二丙烯酸酯、2-羥乙基甲基丙烯酸酯、二丙烯酸苯二酚、乙基丙烯酸酯和二丙烯酸二甘醇酯中的一種或多種的組合。
21、通過采用上述技術方案，在陶瓷坯體進行電鍍處理之前先進行預處理，在坯體表面噴涂一層uv層，uv層在干燥固化的過程中，尤其是，在光固化的過程中，輻照處理會消除陶瓷表面的污染物分子，進而減少污染物對后續涂層涂覆的影響。
22、并且經過預處理，陶瓷坯體表面形成的uv層可以顯著改善陶瓷坯體表面的親水性，形成高度反應活性的表面，從而提高高溫鍍膜結合層與陶瓷坯體之間的附著力，進一步提升陶瓷馬賽克材料的耐刮擦性能。
23、優選的，鍍膜料漿的原料包括質量比為1：（1.2～1.8）：（0.05～0.1）的熔塊、水性油和金屬氧化物；所述金屬氧化物為鐵和/或錳的氧化物。
24、優選的，金屬氧化物包括氧化亞鐵、氧化錳和氧化鐵中的一種或多種的組合。
25、優選的，熔塊為無鉛熔塊釉。
26、通過采用上述技術方案，本專利技術的電鍍層與陶瓷坯體之間存在一層高溫鍍膜結合層，能夠大大提高電鍍層與陶瓷坯體之間的附著力，提高陶瓷馬賽克材料的使用壽命和耐刮擦性能。具體的，本專利技術的高溫鍍膜結合層的原料主要包括熔塊、水性油和金屬氧化物。
27、熔塊和水性油混合有利于均勻噴涂在陶瓷坯體表面，經過干燥處理之后，水性油逐漸蒸發，留下孔隙結構，然后經過高溫燒結，熔塊分子不斷運動，形成熔融區，能夠進一步促進材料的重新排列和空隙的形成，經過高溫燒結之后形成的高溫鍍膜結合層具有復雜的孔隙結構，能夠通過細小的通道相互連接，形成連續的網絡，孔隙結構有利于電鍍金屬滲透進結合層，從而提高電鍍金屬層在陶瓷坯體上的附著力。
28、同時高溫鍍膜結合層的原料還包括金屬氧化物，即鐵或者錳的氧化物或者氧化物組合物，金屬氧化物的添加能夠在真空高溫的條件下，與電鍍金屬離子相互結合，在電鍍金屬通過結合層的孔隙就能夠與暴露的金屬氧化物之間相互結合，從而能夠進一步提升電鍍金屬層與結合層之間的結合力，提高電鍍金屬層與陶瓷坯體的附著力，增加得到的陶瓷馬賽克材料的耐刮擦性能。
29、優選的，鍍膜料漿的原料還包括聚硼硅氧烷；所述聚硼硅氧烷與熔塊的質量比為（0.3～0.4）：1。
30、優選的，聚硼硅氧烷按照以下方法制備得到：
31、將甲基三甲氧基硅烷和硼酸混合，升高溫度至30～40℃，攪拌混合1～2h，然后升高溫度至80～120℃，繼續反應4～8h，經過過濾得到膠液，最后經過干燥和熱處理得到聚硼硅氧烷。其中熱處理溫度為150～250℃，熱處理時間為2～4h。
32、更優選的，硼酸和甲基三甲氧基硅烷的摩爾比為（0.本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，包括以下工藝步驟：
2.根據權利要求1所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述S2高溫鍍膜步驟中高溫燒制溫度為800～900℃。
3.根據權利要求1所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述S3電鍍步驟中真空度為10-7～10-3mbar，磁控濺射溫度為600～800℃，濺射時間為40～90min。
4.根據權利要求1所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述UV涂料的原料包括質量比為1：（0.4～0.5）：（1～1.2）的UV漆、光引發劑和稀釋劑。
5.根據權利要求1所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述鍍膜料漿的原料包括質量比為1：（1.2～1.8）：（0.05～0.1）的熔塊、水性油和金屬氧化物；所述金屬氧化物為鐵和/或錳的氧化物。
6.根據權利要求5所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述熔塊為無鉛熔塊釉。
7.根據權利要求5所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述鍍膜料漿的原料還包
8.根據權利要求1所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述S3電鍍步驟中的金屬層為鈦層、鎳層、鈷層和鐵層中的一種。
9.根據權利要求1所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述輔助氣體包括氧氣、氬氣和氮氣中的一種。
10.一種高溫電鍍陶瓷馬賽克，其特征在于，根據權利要求1～9中任一項所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝生產制備得到。
...【技術特征摘要】
1.一種高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，包括以下工藝步驟：
2.根據權利要求1所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述s2高溫鍍膜步驟中高溫燒制溫度為800～900℃。
3.根據權利要求1所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述s3電鍍步驟中真空度為10-7～10-3mbar，磁控濺射溫度為600～800℃，濺射時間為40～90min。
4.根據權利要求1所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述uv涂料的原料包括質量比為1：（0.4～0.5）：（1～1.2）的uv漆、光引發劑和稀釋劑。
5.根據權利要求1所述的高溫電鍍陶瓷馬賽克的生產工藝，其特征在于，所述鍍膜料漿的原料包括質量比為1：（1.2～1.8）：（0.05～0.1）的...
【專利技術屬性】
技術研發人員：胡寧杰，
申請(專利權)人：佛山市愛歌裝飾材料有限公司，
類型：發明
國別省市：
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